Увійти

Готові списки джерел за темами / UV / Статті в журналах

Статті в журналах з теми "UV"

Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: UV.

Автор: Grafiati

Опубліковано: 4 червня 2021

Оновлено: 25 травня 2024

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-50 статей у журналах для дослідження на тему "UV".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте статті в журналах для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

Son, Hee-Jong, Hoon-Sik Yoom, Seong-Ho Jang, Han-Soo Kim, Soon-Heon Hong, Woo-Sik Park, and Young-Chae Song. "Removal of Tetracycline Antibiotics Using UV and UV/H2O2Systems in Water." Journal of Environmental Science International 23, no. 7 (July 31, 2014): 1359–66. http://dx.doi.org/10.5322/jesi.2014.23.7.1359.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

2

Tan, Chaoqun, Naiyun Gao, Yang Deng, Yongji Zhang, Minghao Sui, Jing Deng, and Shiqing Zhou. "Degradation of antipyrine by UV, UV/H2O2 and UV/PS." Journal of Hazardous Materials 260 (September 2013): 1008–16. http://dx.doi.org/10.1016/j.jhazmat.2013.06.060.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

3

Kim, Kyoung-Jin, and Ok-Hyun Park. "A Comparative Study on Degradation of BTEX Vapor by O3/UV, TiO2/UV, and O3/TiO2/UV System with Operating Conditions." Journal of Korean Society for Atmospheric Environment 24, no. 1 (February 29, 2008): 91–99. http://dx.doi.org/10.5572/kosae.2008.24.1.091.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

4

Honigsmann, Herbert, and Thomas L. Diepgen. "UV-Hauttumoren. UV-induced Skin Cancers." Journal der Deutschen Dermatologischen Gesellschaft 3, s2 (September 2005): S26—S31. http://dx.doi.org/10.1111/j.1610-0387.2005.04395.x.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

5

Taylor, David. "To UV or not to UV." Physics World 28, no. 7 (July 2015): 18. http://dx.doi.org/10.1088/2058-7058/28/7/29.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

6

MILLER, J. "UV radiation measurements and UV index." Journal of the European Academy of Dermatology and Venereology 11 (September 1998): S78. http://dx.doi.org/10.1016/s0926-9959(98)94851-6.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

7

Lee, Young-Min, Gowoon Lee, Taeyeon Kim, and Kyung-Duk Zoh. "Degradation of benzophenone-8 in UV/oxidation processes: Comparison of UV/H2O2, UV/persulfate, UV/chlorine processes." Journal of Environmental Chemical Engineering 12, no. 1 (February 2024): 111623. http://dx.doi.org/10.1016/j.jece.2023.111623.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

8

Lipiak, Jan. "Badania i rozwój: UV kontra LED UV - dwie technologie suszenia promianiami UV." OPAKOWANIE 1, no. 9 (September 5, 2019): 85–92. http://dx.doi.org/10.15199/42.2019.9.1.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

9

Nir, E., Ch Janzen, P. Imhof, K. Kleinermanns, and M. S. de Vries. "Guanine tautomerism revealed by UV–UV and IR–UV hole burning spectroscopy." Journal of Chemical Physics 115, no. 10 (September 8, 2001): 4604–11. http://dx.doi.org/10.1063/1.1391443.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

10

Iyoshi, Shuso, Hiroto Miyake, Ken-ichiro Nakamatsu, and Shinji Matsui. "UV-Curable Resins Appropriate for UV Nanoimprint." Journal of Photopolymer Science and Technology 21, no. 4 (2008): 573–81. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.21.573.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

11

Okamura, Haruyuki, Shoichi Niizeki, Tetsumi Ochi, and Akikazu Matsumoto. "UV Curable Formulations for UV-C LEDs." Journal of Photopolymer Science and Technology 29, no. 1 (2016): 99–104. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.29.99.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

12

Safonova, M., R. Mohan, A. G. Sreejith, and Jayant Murthy. "Predicting UV sky for future UV missions." Astronomy and Computing 1 (February 2013): 46–53. http://dx.doi.org/10.1016/j.ascom.2013.03.001.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

13

Borràs, V. J., J. González-Vázquez, M. Klinker, and F. Martín. "UV-pump/UV-probe spectroscopy of N2." Journal of Physics: Conference Series 1412 (January 2020): 072037. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/1412/7/072037.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

14

Toda, Kiyoshi. "Biological Effects of UV." JOURNAL OF THE ILLUMINATING ENGINEERING INSTITUTE OF JAPAN 77, no. 3 (1993): 128–31. http://dx.doi.org/10.2150/jieij1980.77.3_128.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

15

Pavelets, S. Yu. "ZnTe-based UV sensors." Semiconductor Physics Quantum Electronics and Optoelectronics 19, no. 2 (July 6, 2016): 197–200. http://dx.doi.org/10.15407/spqeo19.02.197.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

16

Longarte, Asier, Carolina Redondo, José A. Fernández, and Fernando Castaño. "IR/UV and UV/UV double-resonance study of guaiacol and eugenol dimers." Journal of Chemical Physics 122, no. 16 (April 22, 2005): 164304. http://dx.doi.org/10.1063/1.1881232.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

17

Kim, Young-Seok, Kil-Mok Shong, Sun-Bae Bang, Chong-Min Kim, Myeong-Il Choi, and Woo-Jin Kim. "Development of UV-IR Camera using IR Module and Improved UV Filter Transmittance." Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers 26, no. 12 (December 31, 2012): 37–43. http://dx.doi.org/10.5207/jieie.2012.26.12.037.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

18

Sasaki, Masako. "Earth Was Once Exposed To UV-C; UV In The Photo-Environment." JOURNAL OF THE ILLUMINATING ENGINEERING INSTITUTE OF JAPAN 80, no. 1 (1996): 18–23. http://dx.doi.org/10.2150/jieij1980.80.1_18.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

19

NISHIBE, Yasunari. "UV Ink." Journal of the Japan Society of Colour Material 70, no. 8 (1997): 547–54. http://dx.doi.org/10.4011/shikizai1937.70.547.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

20

Khachikian, E. Ye. "UV-Galaxies." Symposium - International Astronomical Union 121 (1987): 65–79. http://dx.doi.org/10.1017/s0074180900154920.

Повний текст джерела

Анотація:

At the present time the previously used term “Peculiar galaxy” is gradually being replaced by the term “active” galaxy. This is quite natural, because the overwhelming majority of “peculiar” galaxies turned out to be “active” at the same time. The opposite is not correct: there are a lot of examples where a galaxy looking normal is physically active.

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

21

SARASIN, A. "UV carcinogenesis." Journal of the European Academy of Dermatology and Venereology 11 (September 1998): S2. http://dx.doi.org/10.1016/s0926-9959(98)94531-7.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

22

Chaffey, N. "UV-damage." Trends in Plant Science 6, no. 1 (January 2001): 11. http://dx.doi.org/10.1016/s1360-1385(00)01845-8.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

23

Riemer, M. "UV-Schutzgesetz." Der Hautarzt 57, no. 12 (December 2006): 1133–37. http://dx.doi.org/10.1007/s00105-006-1241-5.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

24

Andro, Karl-Heinz. "DALE-UV." Trauma und Berufskrankheit 4, Supplement 3 (October 1, 2002): s219—s222. http://dx.doi.org/10.1007/s10039-002-0614-y.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

25

Wolf, P. "UV-Filter." Der Hautarzt 60, no. 4 (March 25, 2009): 285–93. http://dx.doi.org/10.1007/s00105-008-1623-y.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

26

Seppa, Nathan. "UV Blocker." Science News 170, no. 13 (September 23, 2006): 196. http://dx.doi.org/10.2307/4017195.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

27

Gieskes, Winfried W. C. "UV Radiation." Journal of Phycology 36, no. 4 (August 26, 2000): 790–91. http://dx.doi.org/10.1046/j.1529-8817.2000.03642-3.x.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

28

Bubenzer, Rainer H. "UV-Filter." Onkologische Welt 14, no. 07 (November 2023): 367. http://dx.doi.org/10.1055/a-2148-7786.

Повний текст джерела

Анотація:

Mit einigem Vergnügen für die Zuhörer versuchte der Chemiker Dr. Christian Cremer, Grenzach-Wyhlen, einige der gängigen Mythen rund um UV-Filter aufzulösen. Nach einer kurzen Darstellung unrealistischer Medienmeldung aus jüngster Zeit, etwa der Forderung, Sonnencremes dünner aufzutragen, um Umweltschäden zu reduzieren, beschäftigte er sich mit einigen Fehleinschätzungen.

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

29

OSAKI, Takeshi. "Development of UV Curable Resin for UV Nanoimprint." Journal of the Japan Society for Precision Engineering 86, no. 4 (April 5, 2020): 259–62. http://dx.doi.org/10.2493/jjspe.86.259.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

30

Bozzi, A., A. Lopez, G. Mascolo, and G. Tiravanti. "Pharmaceuticals degradation by UV and UV/H2O2 treatments." Water Supply 2, no. 2 (April 1, 2002): 19–26. http://dx.doi.org/10.2166/ws.2002.0041.

Повний текст джерела

Анотація:

The degradation by UV and UV/H2O2 treatments of the pharmaceutical intermediate 5-methyl-1,3,4-thiadiazole-2-methylthiol (MMTD-Me) has been investigated and compared to that of its parent compound [5-methyl-1,3,4-thiadiazole-2-thiol (MMTD)] previously studied. The investigation has been carried out with a 17 W low pressure mercury lamp, at room temperature, with an initial MMTD-Me concentration of 1 mg/l and with a molar ratio H2O2/substrate of 100/1. The results show that: (i) the complete MMTD-Me removal is achieved within 60 and 20 minutes by UV and UV/H2O2 treatment respectively; (ii) the UV only irradiation does not cause any MMTD-Me mineralization; (iii) the UV/H2O2 treatment, after 4 hours, leads to a complete mineralization of MMTD-Me organic sulfur and to a partial mineralization of carbon and nitrogen (79 and 16% respectively). Degradation by-products identification, performed by HPLC-UV-MS, revealed that the UV only irradiation gives rise to the sequential transformation of MMTD-Me into two by-products one of which, the last one, accumulates in the solution. Conversely, the UV/H2O2 treatment leads to the formation of two intermediate by-products that undergo further degradation with the breakdown of the thiadiazole ring. These results confirm the effectiveness of UV based processes, alone or in combination with H2O2, in degrading pharmaceutical intermediates.

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

31

Sheth, Saahil, Era Jain, Amin Karadaghy, Sana Syed, Hunter Stevenson, and Silviya P. Zustiak. "UV Dose Governs UV-Polymerized Polyacrylamide Hydrogel Modulus." International Journal of Polymer Science 2017 (2017): 1–9. http://dx.doi.org/10.1155/2017/5147482.

Повний текст джерела

Анотація:

Polyacrylamide (PAA) hydrogels have become a widely used tool whose easily tunable mechanical properties, biocompatibility, thermostability, and chemical inertness make them invaluable in many biological applications, such as cell mechanosensitivity studies. Currently, preparation of PAA gels involves mixtures of acrylamide, bisacrylamide, a source of free radicals, and a chemical stabilizer. This method, while generally well accepted, has its drawbacks: long polymerization times, unstable and toxic reagents, and tedious preparation. Alternatively, PAA gels could be made by free radical polymerization (FRP) using ultraviolet (UV) photopolymerization, a method which is quicker, less tedious, and less toxic. Here, we describe a simple strategy based on total UV energy for determining the optimal UV crosslinking conditions that lead to optimal hydrogel modulus.

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

32

Wu, Changlong, Hilla Shemer, and Karl G. Linden. "Photodegradation of Metolachlor Applying UV and UV/H2O2." Journal of Agricultural and Food Chemistry 55, no. 10 (May 2007): 4059–65. http://dx.doi.org/10.1021/jf0635762.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

33

Lin, Hong, Xia Wan, Zhongjie Li, Xuesong Jiang, Qingkang Wang, and Jie Yin. "Photoreversible Resists for UV Nanoimprint Lithography (UV-NIL)." ACS Applied Materials & Interfaces 2, no. 7 (June 24, 2010): 2076–82. http://dx.doi.org/10.1021/am100330s.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

34

Jendritzky, G., H. Staiger, and K. Bucher. "UV prognosis and UV index services in Europe." Melanoma Research 6, SUPPLEMENT 1 (September 1996): S14. http://dx.doi.org/10.1097/00008390-199609001-00037.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

35

Kobayashi, Kei, Nobuji Sakai, Shinji Matsui, and Masaru Nakagawa. "Fluorescent UV-Curable Resists for UV Nanoimprint Lithography." Japanese Journal of Applied Physics 49, no. 6 (June 21, 2010): 06GL07. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.49.06gl07.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

36

Trapido, Marina, Arja Hirvonen, Yelena Veressinina, Johanna Hentunen, and Rein Munter. "Ozonation, Ozone/UV and UV/H2O2Degradation of Chlorophenols." Ozone: Science & Engineering 19, no. 1 (January 1997): 75–96. http://dx.doi.org/10.1080/01919519708547319.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

37

Shugarov, A., I. Savanov, M. Sachkov, P. Jerram, I. Moody, P. Pool, P. Turner, R. Pittock, S. Kuzin, and N. Waltham. "UV detectors for spectrographs of WSO-UV project." Astrophysics and Space Science 354, no. 1 (April 4, 2014): 169–75. http://dx.doi.org/10.1007/s10509-014-1911-1.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

38

Constantin, Lucian Alexandru, Mirela Alina Constantin, Ines Nitoi, Toma Galaon, Valeriu Robert Badescu, and Nicolae Ionut Cristea. "COMPARISON OF FLUTAMIDE DEGRADATION VIA UV/TIO2, UV/H2O2 AND UV/H2O2/TIO2 SYSTEMS." Romanian Journal of Ecology & Environmental Chemistry 2, no. 1 (July 31, 2020): 4–10. http://dx.doi.org/10.21698/rjeec.2020.101.

Повний текст джерела

Анотація:

Synthetic solutions of flutamide were subject to degradation using three advanced oxidation systems, namely UV/TiO2, UV/H2O2 and UV/H2O2/TiO2. Optimum conditions and degradation kinetics has been established for all three systems. The experimental results showed that all three systems can be successfully used for flutamide degradation with efficiencies higher than 99% and that advanced oxidation processes are showing good potential for degradation of organic pollutants that cannot be suitable removed/degraded using conventional wastewater treatment processes.

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

39

Xu, Xiang-Rong, Xiao-Yan Li, Xiang-Zhong Li, and Hua-Bin Li. "Degradation of melatonin by UV, UV/H2O2, Fe2+/H2O2 and UV/Fe2+/H2O2 processes." Separation and Purification Technology 68, no. 2 (August 2009): 261–66. http://dx.doi.org/10.1016/j.seppur.2009.05.013.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

40

Park, Sang Seo, Yun Gon Lee, and Jung Hyun Kim. "Impact of UV-A radiation on erythemal UV and UV-index estimation over Korea." Advances in Atmospheric Sciences 32, no. 12 (October 16, 2015): 1639–46. http://dx.doi.org/10.1007/s00376-015-4231-7.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

41

Pablos, Cristina, Javier Marugán, Rafael van Grieken, and Elena Serrano. "Emerging micropollutant oxidation during disinfection processes using UV-C, UV-C/H2O2, UV-A/TiO2 and UV-A/TiO2/H2O2." Water Research 47, no. 3 (March 2013): 1237–45. http://dx.doi.org/10.1016/j.watres.2012.11.041.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

42

Qureshi, Tahir Imran, and Young-Ju Kim. "UV-OXIDATIVE TREATMENT OF BIO-REFRACTORY ORGANIC HALOGENS IN LEACHATE: Comparison Between UV/O3, UV/H2O2, and UV/H2O2/O3Processes." Environmental Engineering Research 11, no. 2 (April 30, 2006): 84–90. http://dx.doi.org/10.4491/eer.2006.11.2.084.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

43

MURANAKA, Akio. "Energy Saving UV Printing Process and High Sensitivity UV Curing Type Ink." Journal of the Japan Society of Colour Material 87, no. 3 (2014): 94–97. http://dx.doi.org/10.4011/shikizai.87.94.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

44

ROSARIO, REINALDO, GENE J. MARK, JOHN A. PARRISH, and MARTIN C. MIHM. "Histological changes produced in skin by equally erythemogenic doses of UV-A, UV-B, UV-C and UV-A with psoralens." British Journal of Dermatology 101, no. 3 (July 29, 2006): 299–308. http://dx.doi.org/10.1111/j.1365-2133.1979.tb05623.x.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

45

Chen, Tianyi, Chengjin Wang, Susan Andrews, and Ron Hofmann. "Effects of UV Light Path Length and Wavelength on UV/Chlorine versus UV/H2O2 Efficacy." ACS ES&T Water 1, no. 5 (March 30, 2021): 1145–52. http://dx.doi.org/10.1021/acsestwater.0c00175.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

46

Maclure, Daniel M., Jonathan J. D. McKendry, Mohamed Sufyan Islim, Enyuan Xie, Cheng Chen, Xiaobin Sun, Xudong Liang, et al. "10 Gbps wavelength division multiplexing using UV-A, UV-B, and UV-C micro-LEDs." Photonics Research 10, no. 2 (February 1, 2022): 516. http://dx.doi.org/10.1364/prj.445984.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

47

Kim, Hyun Young, Tae-Hun Kim, and Seungho Yu. "Photolytic degradation of sulfamethoxazole and trimethoprim using UV-A, UV-C and vacuum-UV (VUV)." Journal of Environmental Science and Health, Part A 50, no. 3 (January 16, 2015): 292–300. http://dx.doi.org/10.1080/10934529.2015.981118.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

48

Slezarikova, Viera, Frantisek Masek, Miroslav Pirsel, and Milena Sedliakova. "The pre-UV nutritional stresses increase UV resistance, decrease UV mutagenesis and inhibit excision repair." Mutation Research/DNA Repair 385, no. 3 (December 1997): 213–22. http://dx.doi.org/10.1016/s0921-8777(97)00044-x.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

49

Acosta-Rangel, A., M. Sánchez-Polo, A. M. S. Polo, J. Rivera-Utrilla, and M. S. Berber-Mendoza. "Sulfonamides degradation assisted by UV, UV/H2O2 and UV/K2S2O8: Efficiency, mechanism and byproducts cytotoxicity." Journal of Environmental Management 225 (November 2018): 224–31. http://dx.doi.org/10.1016/j.jenvman.2018.06.097.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

50

Inokuchi, Yoshiya, Yusuke Kobayashi, Takafumi Ito, and Takayuki Ebata. "Conformation ofl-Tyrosine Studied by Fluorescence-Detected UV−UV and IR−UV Double-Resonance Spectroscopy." Journal of Physical Chemistry A 111, no. 17 (May 2007): 3209–15. http://dx.doi.org/10.1021/jp070163a.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!