Готові списки джерел за темами / TaAlN coating

Добірка наукової літератури з теми "TaAlN coating"

Автор: Grafiati
Опубліковано: 14 березня 2023

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Зміст

Ознайомтеся зі списками актуальних статей, книг, дисертацій, тез та інших наукових джерел на тему "TaAlN coating".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Статті в журналах з теми "TaAlN coating"

1

Koller, C. M., R. Hollerweger, C. Sabitzer, R. Rachbauer, S. Kolozsvári, J. Paulitsch, and P. H. Mayrhofer. "Thermal stability and oxidation resistance of arc evaporated TiAlN, TaAlN, TiAlTaN, and TiAlN/TaAlN coatings." Surface and Coatings Technology 259 (November 2014): 599–607. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2014.10.024.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

Kumar, D. Dinesh, Revati Rani, Niranjan Kumar, Kalpataru Panda, A. M. Kamalan Kirubaharan, P. Kuppusami, and R. Baskaran. "Tribochemistry of TaN, TiAlN and TaAlN coatings under ambient atmosphere and high-vacuum sliding conditions." Applied Surface Science 499 (January 2020): 143989. http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.143989.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

OKANO, Yukiko, Shuichi TAJIRI, Takashi AOZONO, Akio OKAMOTO, Soichi OGAWA, and Hiroshi MIMA. "Fabrication of High TCR TaAl-N Thin Film by Reactive Sputtering Method." Shinku 50, no. 3 (2007): 173–74. http://dx.doi.org/10.3131/jvsj.50.173.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

Schalk, Nina, Christian Saringer, Alexander Fian, Velislava L. Terziyska, Jaakko Julin, and Michael Tkadletz. "Evolution of the microstructure of sputter deposited TaAlON thin films with increasing oxygen partial pressure." Surface and Coatings Technology 418 (July 2021): 127237. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127237.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

Coss, Brian, Hyun-Chul Kim, Francisco S. Aguirre-Tostado, Robert M. Wallace, and Jiyoung Kim. "Role of lanthanum in the gate stack: Co-sputtered TaLaN metal gates on Hf-based dielectrics." Microelectronic Engineering 86, no. 3 (March 2009): 235–39. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2008.05.027.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

OKANO, Yukiko, Shuichi TAJIRI, Takashi AOZONO, Akio OKAMOTO, Soichi OGAWA, and Hiroshi MIMA. "Deposition of TaAl-N Thin Film on the Polyimide Film-Discussion for the New Vacuum Sensor in a Wide Range-." Shinku 49, no. 3 (2006): 162–64. http://dx.doi.org/10.3131/jvsj.49.162.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!

До бібліографії