Книги з теми "Silicon Thin Film Technology"

Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Silicon Thin Film Technology.

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-50 книг для дослідження на тему "Silicon Thin Film Technology".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

(Society), SPIE, ed. Thin film solar technology III. Bellingham: SPIE, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

T, Voutsas Apostolos, IS & T--the Society for Imaging Science and Technology., and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Poly-silicon thin film transistor technology and applications in displays and other novel technology areas: 21-22 January, 2003, Santa Clara, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

Delahoy, Alan Edward. Thin film solar technology: 2-4 August 2009, San Diego, California, United States. Bellingham, Wash: SPIE, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

Delahoy, Alan Edward. Thin film solar technology: 2-4 August 2009, San Diego, California, United States. Edited by SPIE (Society). Bellingham, Wash: SPIE, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

Delahoy, Alan Edward. Thin film solar technology: 2-4 August 2009, San Diego, California, United States. Edited by SPIE (Society). Bellingham, Wash: SPIE, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

IEEE SOS/SOI Technology Conference. (1990 Key West, Fla.). 1990 IEEE SOS/SOI Technology Conference, October 2-4, 1990, Marriott's Casa, Marina Resort, Key West, Florida : proceedings. [New York: IEEE], 1990.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
7

name, No. Poly-silicon thin film transistor technology and applications in display and other novel technology areas: 21-22 January, 2003, Santa Clara, California, USA. Bellingham, WA: SPIE, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
8

(Society), SPIE, ed. Thin film solar technology II: 1-4 August 2010, San Diego, California, United States. Bellingham, Wash: SPIE, 2010.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
9

(Society), SPIE, ed. Thin film solar technology V: 25-26 August 2013, San Diego, California, United States. Bellingham, Washington: SPIE, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
10

Yukimi, Ichikawa, ed. Amorphous silicon p-i-n diodes: Their fabrication & application to thin film devices. Singapore: World Scientific, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
11

Schropp, Ruud E. I. Amorphous and microcrystalline silicon solar cells: Modeling, materials, and device technology. Boston: Kluwer Academic, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
12

IEEE SOS/SOI Technology Conference. (1989 Stateline, Nev.). 1989 IEEE SOS/SOI Technology Conference, October 3-5, 1989, High Sierra Hotel, Stateline, Nevada: Proceedings. [New York]: IEEE, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
13

Schropp, Ruud E. I., 1959-, ed. Amorphous and microcrystalline silicon technology 1998: Symposium held April 14-17, 1998, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
14

Meeting, Materials Research Society, ed. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology - 2011: Symposium held April 25-29, 2011, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2012.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
15

1957-, Nathan Arokia, ed. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2008: Symposium held March 25-28, 2008, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2008.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
16

Laconte, J. Micromachined thin-film sensors for SOI-CMOS co-integration. New York: Springer, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
17

J, Camassel, European Materials Research Society. Meeting, Symposium A on High Temperature Electronics: Materials, Devices, and Applications (1996 : Strasbourg, France), and Symposium B on Thin Film Materials for Large Area Electronics (1996 : Strasbourg, France), eds. Frontiers in electronics: High temperature and large area applications : proceedings of Symposium A on High Temperature Electronics: Materials, Devices, and Applications, and proceedings of Symposium B on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the 1996 E-MRS Spring Conference, Strasbourg, France, June 4-7, 1996. Amsterdam: Elsevier, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
18

Meeting, Materials Research Society, and Symposium A, "Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology" (2009 : San Francisco, Calif.)., eds. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2009: Symposium held April 14-17, 2009, San Francisco, California, U.S.A. / editors, A. Flewitt ... [et al.]. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
19

A, Golanski, Nguyen Van Tran, and Krimmel E. F, eds. Photon, beam, and plasma enhanced processing: June 2nd-5th, 1987, Strasbourg, (France). Les Ulis, France: Editions de Physique, 1987.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
20

S, Wagner, Materials Research Society Meeting, and Symposium on Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology (2006 : San Francisco, Calif.), eds. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2006: Symposium held April 18-21, 2006, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pennslyvania: Materials Research Society, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
21

Symposium I on Porous Silicon: Material, Technology, and Devices (1995 Strasbourg, France). Porous silicon--material, technology, and devices: Proceedings of Symposium I on Porous Silicon: Material, Technology, and Devices of the 1995 E-MRS Spring Conference, Strasbourg, France, May 22-26, 1995. Amsterdam: Elsevier, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
22

Symposium A, "Amorphous and Polycrystalline Thin-film Silicon Science and Technology" (2006 San Francisco, Calif.). Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology, 2006: Symposium held April 18-21, 2006 San Francisco, California U.S.A. Edited by Wagner S. (Sigurd). Warrendale, Penn: Materials Research Society, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
23

A, Buchanan D., ed. Structure and electronic properties of ultrathin dielectric films on silicon and related structures: Symposium held November 29-December 1, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A. Warrendale, PA: Materials Research Society, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
24

Robert, Abelson John, Materials Research Society Meeting, and Symposium on Amorphous and Nanocrystalline Silicon Science and Technology (2004 : San Francisco, Calif.), eds. Amorphous and nanocrystalline silicon science and technology--2004: Symposium held April 13-16, 2004, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2004.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
25

Habraken, F. H. P. M., ed. LPCVD silicon nitride and oxynitride films: Material and applications in integrated circuit technology. Berlin: Springer-Verlag, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
26

Meeting, Materials Research Society, and Symposium A, "Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology" (2010 : San Francisco, Calif.)., eds. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2010: Symposium held April 5-9, 2009, San Francisco, California / editors, Qi Wang ... [et al.]. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2010.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
27

Maeda, Shigenobu. Teishōhi denryoku kōsoku MOSFET gijutsu: Takesshō shirikon TFT fukagata SRAM to SOI debaisu. Tōkyō: Sipec, 2002.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
28

Wilfried G. J. H. M. Sark. Physics and Technology of Amorphous-Crystalline Heterostructure Silicon Solar Cells. Berlin, Heidelberg: Springer-Verlag Berlin Heidelberg, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
29

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (9th 2001 Tsukuba, Japan). Silicon carbide and related materials: ICSCRM2001, proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, Tsukuba, Japan, October 28 - November 2, 2001. Uetikon-Zuerich, Switzerland: Trans Tech Publications, 2002.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
30

Ju, Y. Sungtaek. Microscale heat conduction in integrated circuits and their constituent films. Boston: Kluwer Academic, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
31

Ju, Y. Sungtaek. Microscale heat conduction in integrated circuits and their constituent films. Boston: Kluwer Academic, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
32

Hafdi, Zoubeida. Amorphous Silicon Thin-Film Transistors. Cham: Springer International Publishing, 2023. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-031-24793-4.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
33

Temple, Matthew Paul. Erbium-doped silicon thin film devices. Birmingham: University of Birmingham, 2001.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
34

Elshabini-Riad, Aicha A. R. Thin film technology handbook. New York: McGraw-Hill, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
35

E, Voss Kenneth, ed. Materials and processes for environmental protection: Symposium held April 5-7, 1994, San Francisco, California, U.S.A. Pittsburgh, PA: Materials Research Society, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
36

H, Carter Calvin, and Materials Research Society. Meeting Symposium D., eds. Diamond, SiC and nitride wide bandgap semiconductors: Symposium held April 4-8, 1994, San Francisco, California, U.S. Pittsburgh, PA: Materials Research Society, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
37

Symposium, on Thin Film Transistor Technologies (8th 2006 Cancun Mexico). Thin film transistor technology 8. Pennington, NJ: Electrochemical Society, 2006.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
38

Frey, Hartmut, and Hamid R. Khan, eds. Handbook of Thin-Film Technology. Berlin, Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg, 2015. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-642-05430-3.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
39

H, Francombe Maurice, ed. Frontiers of thin film technology. San Diego: Academic Press, 2001.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
40

Schuster, Christian Stefano. Diffractive Optics for Thin-Film Silicon Solar Cells. Cham: Springer International Publishing, 2017. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-319-44278-5.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
41

Jamal, Deen M., Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division, and Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (4th : 1997 : Montreal, Quebec), eds. Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films: Proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films. Pennington, New Jersey: Electrochemical Society, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
42

Sherwin, Jennifer A. Langmuir monolayers in thin film technology. New York: Nova Science Publishers, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
43

A, Glocker David, Shah S. Ismat, and Institute of Physics, eds. Handbook of thin film process technology. Bristol: Institute of Physics Publishing, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
44

Film Silicon Science and Technology: Volume 1536. Materials Research Society, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
45

Thin-Film Crystalline Silicon Solar Cells: Physics and Technology. Wiley-VCH, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
46

Brendel, Rolf. Thin-Film Crystalline Silicon Solar Cells: Physics and Technology. Wiley & Sons, Incorporated, John, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
47

Brendel, Rolf. Thin-Film Crystalline Silicon Solar Cells: Physics and Technology. Wiley & Sons, Limited, John, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
48

Nathan, Arokia, Jeffrey Yang, Andrew Flewitt, Seiichi Miyazaki, and Jack Hou. Amorphous and Plycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology - 2008. University of Cambridge ESOL Examinations, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
49

Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology - 2012. Materials Research Society, 2012.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
50

Nathan, Arokia, Qi Wang, Andrew Flewitt, Jack Hou, and Shuichi Uchikoga. Amorphous and Polycrystalline Thin Film Silicon Science and Technology - 2009. University of Cambridge ESOL Examinations, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!

До бібліографії