Книги з теми "Silicon Thin Film Technology"
Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями
Ознайомтеся з топ-50 книг для дослідження на тему "Silicon Thin Film Technology".
Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.
Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.
Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.
(Society), SPIE, ed. Thin film solar technology III. Bellingham: SPIE, 2011.
Знайти повний текст джерелаT, Voutsas Apostolos, IS & T--the Society for Imaging Science and Technology., and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Poly-silicon thin film transistor technology and applications in displays and other novel technology areas: 21-22 January, 2003, Santa Clara, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2003.
Знайти повний текст джерелаDelahoy, Alan Edward. Thin film solar technology: 2-4 August 2009, San Diego, California, United States. Bellingham, Wash: SPIE, 2009.
Знайти повний текст джерелаDelahoy, Alan Edward. Thin film solar technology: 2-4 August 2009, San Diego, California, United States. Edited by SPIE (Society). Bellingham, Wash: SPIE, 2009.
Знайти повний текст джерелаDelahoy, Alan Edward. Thin film solar technology: 2-4 August 2009, San Diego, California, United States. Edited by SPIE (Society). Bellingham, Wash: SPIE, 2009.
Знайти повний текст джерелаIEEE SOS/SOI Technology Conference. (1990 Key West, Fla.). 1990 IEEE SOS/SOI Technology Conference, October 2-4, 1990, Marriott's Casa, Marina Resort, Key West, Florida : proceedings. [New York: IEEE], 1990.
Знайти повний текст джерелаname, No. Poly-silicon thin film transistor technology and applications in display and other novel technology areas: 21-22 January, 2003, Santa Clara, California, USA. Bellingham, WA: SPIE, 2003.
Знайти повний текст джерела(Society), SPIE, ed. Thin film solar technology II: 1-4 August 2010, San Diego, California, United States. Bellingham, Wash: SPIE, 2010.
Знайти повний текст джерела(Society), SPIE, ed. Thin film solar technology V: 25-26 August 2013, San Diego, California, United States. Bellingham, Washington: SPIE, 2013.
Знайти повний текст джерелаYukimi, Ichikawa, ed. Amorphous silicon p-i-n diodes: Their fabrication & application to thin film devices. Singapore: World Scientific, 1996.
Знайти повний текст джерелаSchropp, Ruud E. I. Amorphous and microcrystalline silicon solar cells: Modeling, materials, and device technology. Boston: Kluwer Academic, 1998.
Знайти повний текст джерелаIEEE SOS/SOI Technology Conference. (1989 Stateline, Nev.). 1989 IEEE SOS/SOI Technology Conference, October 3-5, 1989, High Sierra Hotel, Stateline, Nevada: Proceedings. [New York]: IEEE, 1989.
Знайти повний текст джерелаSchropp, Ruud E. I., 1959-, ed. Amorphous and microcrystalline silicon technology 1998: Symposium held April 14-17, 1998, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 1999.
Знайти повний текст джерелаMeeting, Materials Research Society, ed. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology - 2011: Symposium held April 25-29, 2011, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2012.
Знайти повний текст джерела1957-, Nathan Arokia, ed. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2008: Symposium held March 25-28, 2008, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2008.
Знайти повний текст джерелаLaconte, J. Micromachined thin-film sensors for SOI-CMOS co-integration. New York: Springer, 2011.
Знайти повний текст джерелаJ, Camassel, European Materials Research Society. Meeting, Symposium A on High Temperature Electronics: Materials, Devices, and Applications (1996 : Strasbourg, France), and Symposium B on Thin Film Materials for Large Area Electronics (1996 : Strasbourg, France), eds. Frontiers in electronics: High temperature and large area applications : proceedings of Symposium A on High Temperature Electronics: Materials, Devices, and Applications, and proceedings of Symposium B on Thin Film Materials for Large Area Electronics of the 1996 E-MRS Spring Conference, Strasbourg, France, June 4-7, 1996. Amsterdam: Elsevier, 1997.
Знайти повний текст джерелаMeeting, Materials Research Society, and Symposium A, "Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology" (2009 : San Francisco, Calif.)., eds. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2009: Symposium held April 14-17, 2009, San Francisco, California, U.S.A. / editors, A. Flewitt ... [et al.]. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2009.
Знайти повний текст джерелаA, Golanski, Nguyen Van Tran, and Krimmel E. F, eds. Photon, beam, and plasma enhanced processing: June 2nd-5th, 1987, Strasbourg, (France). Les Ulis, France: Editions de Physique, 1987.
Знайти повний текст джерелаS, Wagner, Materials Research Society Meeting, and Symposium on Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology (2006 : San Francisco, Calif.), eds. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2006: Symposium held April 18-21, 2006, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pennslyvania: Materials Research Society, 2007.
Знайти повний текст джерелаSymposium I on Porous Silicon: Material, Technology, and Devices (1995 Strasbourg, France). Porous silicon--material, technology, and devices: Proceedings of Symposium I on Porous Silicon: Material, Technology, and Devices of the 1995 E-MRS Spring Conference, Strasbourg, France, May 22-26, 1995. Amsterdam: Elsevier, 1996.
Знайти повний текст джерелаSymposium A, "Amorphous and Polycrystalline Thin-film Silicon Science and Technology" (2006 San Francisco, Calif.). Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology, 2006: Symposium held April 18-21, 2006 San Francisco, California U.S.A. Edited by Wagner S. (Sigurd). Warrendale, Penn: Materials Research Society, 2007.
Знайти повний текст джерелаA, Buchanan D., ed. Structure and electronic properties of ultrathin dielectric films on silicon and related structures: Symposium held November 29-December 1, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A. Warrendale, PA: Materials Research Society, 2000.
Знайти повний текст джерелаRobert, Abelson John, Materials Research Society Meeting, and Symposium on Amorphous and Nanocrystalline Silicon Science and Technology (2004 : San Francisco, Calif.), eds. Amorphous and nanocrystalline silicon science and technology--2004: Symposium held April 13-16, 2004, San Francisco, California, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2004.
Знайти повний текст джерелаHabraken, F. H. P. M., ed. LPCVD silicon nitride and oxynitride films: Material and applications in integrated circuit technology. Berlin: Springer-Verlag, 1991.
Знайти повний текст джерелаMeeting, Materials Research Society, and Symposium A, "Amorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology" (2010 : San Francisco, Calif.)., eds. Amorphous and polycrystalline thin-film silicon science and technology--2010: Symposium held April 5-9, 2009, San Francisco, California / editors, Qi Wang ... [et al.]. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2010.
Знайти повний текст джерелаMaeda, Shigenobu. Teishōhi denryoku kōsoku MOSFET gijutsu: Takesshō shirikon TFT fukagata SRAM to SOI debaisu. Tōkyō: Sipec, 2002.
Знайти повний текст джерелаWilfried G. J. H. M. Sark. Physics and Technology of Amorphous-Crystalline Heterostructure Silicon Solar Cells. Berlin, Heidelberg: Springer-Verlag Berlin Heidelberg, 2011.
Знайти повний текст джерелаInternational Conference on Silicon Carbide and Related Materials (9th 2001 Tsukuba, Japan). Silicon carbide and related materials: ICSCRM2001, proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, Tsukuba, Japan, October 28 - November 2, 2001. Uetikon-Zuerich, Switzerland: Trans Tech Publications, 2002.
Знайти повний текст джерелаJu, Y. Sungtaek. Microscale heat conduction in integrated circuits and their constituent films. Boston: Kluwer Academic, 1999.
Знайти повний текст джерелаJu, Y. Sungtaek. Microscale heat conduction in integrated circuits and their constituent films. Boston: Kluwer Academic, 1999.
Знайти повний текст джерелаHafdi, Zoubeida. Amorphous Silicon Thin-Film Transistors. Cham: Springer International Publishing, 2023. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-031-24793-4.
Повний текст джерелаTemple, Matthew Paul. Erbium-doped silicon thin film devices. Birmingham: University of Birmingham, 2001.
Знайти повний текст джерелаElshabini-Riad, Aicha A. R. Thin film technology handbook. New York: McGraw-Hill, 1998.
Знайти повний текст джерелаE, Voss Kenneth, ed. Materials and processes for environmental protection: Symposium held April 5-7, 1994, San Francisco, California, U.S.A. Pittsburgh, PA: Materials Research Society, 1994.
Знайти повний текст джерелаH, Carter Calvin, and Materials Research Society. Meeting Symposium D., eds. Diamond, SiC and nitride wide bandgap semiconductors: Symposium held April 4-8, 1994, San Francisco, California, U.S. Pittsburgh, PA: Materials Research Society, 1994.
Знайти повний текст джерелаSymposium, on Thin Film Transistor Technologies (8th 2006 Cancun Mexico). Thin film transistor technology 8. Pennington, NJ: Electrochemical Society, 2006.
Знайти повний текст джерелаFrey, Hartmut, and Hamid R. Khan, eds. Handbook of Thin-Film Technology. Berlin, Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg, 2015. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-642-05430-3.
Повний текст джерелаH, Francombe Maurice, ed. Frontiers of thin film technology. San Diego: Academic Press, 2001.
Знайти повний текст джерелаSchuster, Christian Stefano. Diffractive Optics for Thin-Film Silicon Solar Cells. Cham: Springer International Publishing, 2017. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-319-44278-5.
Повний текст джерелаJamal, Deen M., Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division, and Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (4th : 1997 : Montreal, Quebec), eds. Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films: Proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films. Pennington, New Jersey: Electrochemical Society, 1997.
Знайти повний текст джерелаSherwin, Jennifer A. Langmuir monolayers in thin film technology. New York: Nova Science Publishers, 2011.
Знайти повний текст джерелаA, Glocker David, Shah S. Ismat, and Institute of Physics, eds. Handbook of thin film process technology. Bristol: Institute of Physics Publishing, 1997.
Знайти повний текст джерелаFilm Silicon Science and Technology: Volume 1536. Materials Research Society, 2013.
Знайти повний текст джерелаThin-Film Crystalline Silicon Solar Cells: Physics and Technology. Wiley-VCH, 2003.
Знайти повний текст джерелаBrendel, Rolf. Thin-Film Crystalline Silicon Solar Cells: Physics and Technology. Wiley & Sons, Incorporated, John, 2011.
Знайти повний текст джерелаBrendel, Rolf. Thin-Film Crystalline Silicon Solar Cells: Physics and Technology. Wiley & Sons, Limited, John, 2005.
Знайти повний текст джерелаNathan, Arokia, Jeffrey Yang, Andrew Flewitt, Seiichi Miyazaki, and Jack Hou. Amorphous and Plycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology - 2008. University of Cambridge ESOL Examinations, 2014.
Знайти повний текст джерелаAmorphous and Polycrystalline Thin-Film Silicon Science and Technology - 2012. Materials Research Society, 2012.
Знайти повний текст джерелаNathan, Arokia, Qi Wang, Andrew Flewitt, Jack Hou, and Shuichi Uchikoga. Amorphous and Polycrystalline Thin Film Silicon Science and Technology - 2009. University of Cambridge ESOL Examinations, 2014.
Знайти повний текст джерела