Добірка наукової літератури з теми "Si/β-FeSi2"
Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями
Ознайомтеся зі списками актуальних статей, книг, дисертацій, тез та інших наукових джерел на тему "Si/β-FeSi2".
Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.
Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.
Статті в журналах з теми "Si/β-FeSi2"
Cho, Sung-Pyo, Yoshiaki Nakamura, Jun Yamasaki, Eiji Okunishi, Masakazu Ichikawa та Nobuo Tanaka. "Microstructure and interdiffusion behaviour of β-FeSi2 flat islands grown on Si(111) surfaces". Journal of Applied Crystallography 46, № 4 (4 липня 2013): 1076–80. http://dx.doi.org/10.1107/s0021889813015355.
Повний текст джерелаEguchi, Hajime, Motoki Iinuma, Hirofumi Hoshida, Naoki Murakoso та Yoshikazu Terai. "Growth of Sb-Doped β-FeSi2 Epitaxial Films and Optimization of Donor Activation Conditions". Defect and Diffusion Forum 386 (вересень 2018): 38–42. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ddf.386.38.
Повний текст джерелаAkiyama, Kensuke, Hiroshi Funakubo та Masaru Itakura. "Epitaxial growth of (010)-oriented β-FeSi2 film on Si(110) substrate". MRS Proceedings 1493 (2013): 189–94. http://dx.doi.org/10.1557/opl.2013.407.
Повний текст джерелаLi, Xiao Na, Bing Hu, Chuang Dong, and Xin Jiang. "Structural Evolution Upon Annealing of Multi-Layer Si/Fe Thin Films Prepared by Magnetron Sputtering." Materials Science Forum 561-565 (October 2007): 1161–64. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.561-565.1161.
Повний текст джерелаAkiyama, Kensuke, Yuu Motoizumi, Tetsuya Okuda, Hiroshi Funakubo, Hiroshi Irie, and Yoshihisa Matsumoto. "Synthesis and Photocatalytic Properties of Iron Disilicide/SiC Composite Powder." MRS Advances 2, no. 8 (2017): 471–76. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.221.
Повний текст джерелаTsunoda, Tatsuo, Masakazu Mukaida, Akio Watanabe, and Yoji Imai. "Composition dependence of morphology, structure, and thermoelectric properties of FeSi2 films prepared by sputtering deposition." Journal of Materials Research 11, no. 8 (August 1996): 2062–70. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1996.0259.
Повний текст джерелаLin, X. W., Z. Liliental-Weber, J. Washburn, J. Desimoni та H. Bernas. "Formation of β-FeSi2, by thermal annealing of Fe-implanted (001) Si". Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 51 (1 серпня 1993): 808–9. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100149878.
Повний текст джерелаNanko, Makoto, Se Hun Chang, Koji Matsumaru, Kozo Ishizaki та Masatoshi Takeda. "Isothermal Oxidation of Sintered β-FeSi2 in Air". Materials Science Forum 522-523 (серпень 2006): 641–48. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.522-523.641.
Повний текст джерелаVisotin, Maxim A., I. A. Tarasov, A. S. Fedorov, S. N. Varnakov та S. G. Ovchinnikov. "Prediction of orientation relationships and interface structures between α-, β-, γ-FeSi2 and Si phases". Acta Crystallographica Section B Structural Science, Crystal Engineering and Materials 76, № 3 (22 травня 2020): 469–82. http://dx.doi.org/10.1107/s2052520620005727.
Повний текст джерелаAkiyama, Kensuke, Satoru Kaneko, Yasuo Hirabayashi та Hiroshi Funakubo. "Photoluminescence properties of Si/β-FeSi2/Si double heterostructure". Thin Solid Films 508, № 1-2 (червень 2006): 380–84. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2005.07.353.
Повний текст джерелаДисертації з теми "Si/β-FeSi2"
Huang, Cheng-Yao, та 黃鉦堯. "Analysis of the Responsivities and Quantum Efficiencies of the p-Si/ i-β-FeSi2 /n-Si Photodiodes". Thesis, 2017. http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/6q38tu.
Повний текст джерела義守大學
電子工程學系
106
In this paper the responsivities and quantum efficiencies of p-Si/i-β-FeSi2/n-Si double heterostructure photodiodes and p-Si/i-Si/n-Si photodiodes are investigated by using self-developed analytical methods. The dark current densities of β-FeSi2 and Si p-i-n photodiodes under reverse-bias condition are calculated by solving the diffusion current densities of minority carriers. The photocurrent densities of β-FeSi2 p-i-n photodiode under illumination with reverse-bias are calculated by solving the drift current densities in the depletion regions. When the β-FeSi2 p-i-n photodiode incident wavelength < 0.6um, the magnitudes of responsivities and quantum efficiencies are almost zero for different intrinsic thicknesses. The maximum responsivity, R=0.65 A/W, and quantum efficiency, =65%, are both at =1.2um and the intrinsic β-FeSi2 layer thickness is 100um.The calculated responsivity of Si p-i-n photodiode is consistent with the reported researches. Therefore, the analysis methods are valid in this work. These results indicate the high application potential of β-FeSi2 as near-infrared photodiodes integrated with Si.
Tsai, Yi-Wei, та 蔡一葦. "Studies of Strain Field of β - FeSi2 / Si Quantum Dot Nano-Structures by X-Ray Bragg-Surface Diffraction". Thesis, 2007. http://ndltd.ncl.edu.tw/handle/23528057967960707147.
Повний текст джерелаЧастини книг з теми "Si/β-FeSi2"
Schaaf, P., M. Milosavljevic, S. Dhar, N. Bibic, K. P. Lieb, M. Wölz, and G. Principi. "Mössbauer Optimization of the Direct Synthesis of β-FeSi2 by Ion Beam Mixing of Fe/Si Bilayers." In Industrial Applications of the Mössbauer Effect, 615–21. Dordrecht: Springer Netherlands, 2002. http://dx.doi.org/10.1007/978-94-010-0299-8_67.
Повний текст джерелаYamauchi, S., H. Ohshima, T. Hattori, M. Kasaya, M. Hirai, M. Kusaka, M. Iwami, Y. Kamiura, and F. Hashimoto. "Preparation and Electronic Properties of Epitaxial β-FeSi2 on Si(111) Substrate." In Control of Semiconductor Interfaces, 377–82. Elsevier, 1994. http://dx.doi.org/10.1016/b978-0-444-81889-8.50070-5.
Повний текст джерелаKatsumata, Hiroshi, Hong-Lie Shen, Naoto Kobayashi, Yunosuke Makita, Masataka Hasegawa, Hajime Shibata, Shinji Kimura, Akira Obara, and Shin-ichiro Uekusa. "Optical and structural properties of β-FeSi2 layers on Si fabricated by triple 56Fe ion implantations." In Ion Beam Modification of Materials, 943–46. Elsevier, 1996. http://dx.doi.org/10.1016/b978-0-444-82334-2.50187-8.
Повний текст джерелаMaltez, R. L., M. Behar, and X. W. Lin. "Ion-beam induced sequential epitaxy of α, β and γ-FeSi2 in Si (100) at 320°C." In Ion Beam Modification of Materials, 400–403. Elsevier, 1996. http://dx.doi.org/10.1016/b978-0-444-82334-2.50076-9.
Повний текст джерелаShaban, Mahmoud, and Tsuyoshi Yoshitake. "n-Type β-FeSi2/p-type Si Near-infrared Photodiodes Prepared by Facing-targets Direct-current Sputtering." In Advances in Photodiodes. InTech, 2011. http://dx.doi.org/10.5772/14775.
Повний текст джерелаТези доповідей конференцій з теми "Si/β-FeSi2"
Akiyama, K., M. Itakura та H. Funakubo. "Photoluminescence enhancement from β-FeSi2 on Ag-coated Si". У 2012 International Conference on Solid State Devices and Materials. The Japan Society of Applied Physics, 2012. http://dx.doi.org/10.7567/ssdm.2012.ps-8-9.
Повний текст джерелаMaeda, Yoshihito, Takahide Tatsumi, Yuki Kawakubo, Yuya Noguchi, Kosuke Morita, Hiroyuki Kobayashi та Kazumasa Narumi. "Enhancement of photoluminescence from Cu-doped β-FeSi2/Si heterostructures". У International Conference and Summer School on Advanced Silicide Technology 2014. Japan Society of Applied Physics, 2015. http://dx.doi.org/10.7567/jjapcp.3.011108.
Повний текст джерелаGALKIN, N. G., E. A. CHUSOVITIN, K. N. GALKIN, T. S. SHAMIRSAEV, A. K. GUTAKOVSKI та A. V. LATYSHEV. "LIGHT EMITTING β-FeSi2 NANOCRYSTALS IN MULTILAYER Si/β-FeSi2NCS/Si/…/Si NANOHETEROSTRUCTURES GROWN BY SPE, RDE AND MBE TECHNIQUES". У Proceedings of International Conference Nanomeeting – 2011. WORLD SCIENTIFIC, 2011. http://dx.doi.org/10.1142/9789814343909_0036.
Повний текст джерелаMaeda, Yoshihito, Yoshikazu Terai та Masaru Itakura. "Crystal Growth and Photoresponse of Al-doped β-FeSi2 /Si Heterojunctions". У 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials. The Japan Society of Applied Physics, 2004. http://dx.doi.org/10.7567/ssdm.2004.d-9-3.
Повний текст джерелаTerai, Yoshikazu, Yoshihito Maeda, Kensuke Akiyama та Yasufumi Fujiwara. "Investigation of β-FeSi2/Si Heterostructures by Photoluminescence with Different Optical Configurations". У 2005 International Conference on Solid State Devices and Materials. The Japan Society of Applied Physics, 2005. http://dx.doi.org/10.7567/ssdm.2005.e-4-3.
Повний текст джерелаGALKIN, N. G., D. L. GOROSHKO, A. S. GOURALNIK, V. O. POLYARNYI, S. V. VAVANOVA та I. V. LOUCHANINOV. "SILICON GROWTH ATOP β-FeSi2 ISLANDS ON Si(111) SUBSTRATE AND Si(111)-Cr SURFACE PHASES". У Reviews and Short Notes to Nanomeeting-2005. WORLD SCIENTIFIC, 2005. http://dx.doi.org/10.1142/9789812701947_0034.
Повний текст джерелаBorun, A. F., N. P. Khmelnitskaja, Yu N. Parkhomenko, E. G. Polyakova та E. A. Vygovskaja. "The strain distribution in Si lattice of the layer containing β-FeSi2 precipitates". У SPIE Proceedings, редактори Kamil A. Valiev та Alexander A. Orlikovsky. SPIE, 2004. http://dx.doi.org/10.1117/12.557967.
Повний текст джерелаTakauji, Motoki, Cheng Li, Takashi Suemasu та Fumio Hasegawa. "Fabrication of p-Si/β-FeSi2/n-Si Double-Heterostructure Light-Emitting Diode by Molecular Beam Epitaxy". У 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials. The Japan Society of Applied Physics, 2004. http://dx.doi.org/10.7567/ssdm.2004.d-9-1.
Повний текст джерелаTakahara, Motoki, Tarek M. Mostafa, Ryuji Baba, Suguru Funasaki, Mahmoud Shaban, Nathaporn Promros та Tsuyoshi Yoshitake. "Electric properties of carbon-doped n-type β-FeSi2/p-type Si heterojunction diodes". У International Conference and Summer School on Advanced Silicide Technology 2014. Japan Society of Applied Physics, 2015. http://dx.doi.org/10.7567/jjapcp.3.011101.
Повний текст джерелаShevlyagin, A. V., D. L. Goroshko, E. A. Chusovitin, S. A. Balagan, S. A. Dotsenko, K. N. Galkin, N. G. Galkin та ін. "Stress-induced indirect to direct band gap transition in β-FeSi2 nanocrystals embedded in Si". У ADVANCES IN ELECTRICAL AND ELECTRONIC ENGINEERING: FROM THEORY TO APPLICATIONS: Proceedings of the International Conference on Electrical and Electronic Engineering (IC3E 2017). Author(s), 2017. http://dx.doi.org/10.1063/1.4998036.
Повний текст джерела