Готові списки джерел за темами / Plasma Circuits / Книги

Книги з теми "Plasma Circuits"

Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Plasma Circuits.
Автор: Grafiati
Опубліковано: 10 грудня 2022
Оновлено: 28 січня 2023

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-48 книг для дослідження на тему "Plasma Circuits".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

Samukawa, Seiji. Feature profile evolution in plasma processing using on-wafer monitoring system. Tokyo: Springer, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

1955-, Bozhevolnyi Sergey I., ed. Plasmonic nanoguides and circuits. Singapore: Distributed by World Scientific Pub., 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

Danilin, B. S. Primenenie nizkotemperaturnoĭ plazmy dli͡a︡ nanesenii͡a︡ tonkikh plenok. Moskva: Ėnergoatomizdat, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

Zaĭt︠s︡ev, F. S. Matematicheskoe modelirovanie ėvoli︠u︡t︠s︡ii toroidalʹnoĭ plazmy. Moskva: MAKS Press, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

Tan, Cher Ming. Electromigration Modeling at Circuit Layout Level. Singapore: Springer Singapore, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

Roosmalen, A. J. van. Dry etching for VLSI. New York: Plenum Press, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
7

R, Viswanathan. Environmentally-induced discharge transient coupling to spacecraft. [Washington, DC]: National Aeronautics and Space Administration, 1985.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
8

R, Viswanathan. Environmentally-induced discharge transient coupling to spacecraft. [Washington, DC]: National Aeronautics and Space Administration, 1985.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
9

S, Grabowski Kenneth, ed. Materials modification by energetic atoms and ions: Symposium held April 28-30, 1992, San Francisco, California, USA. Pittsburgh, PA: Materials Research Society, 1992.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
10

Symposium on Dry Process (9th 1987 Honolulu, Hawaii). Proceedings of the Symposium on Dry Process. Pennington, NJ (10 S. Main St., Pennington 08534-2896): Electrochemical Society, 1988.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
11

Symposium on Interconnect and Contact Metallization (1997 Paris, France). Proceedings of the Symposium on Interconnect and Contact Metallization. Edited by Rathore Harzara S, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division, and Electrochemical Society Electrodeposition Division. Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
12

Blaikley, David Charles William. Chemical studies of plasma etchants used in integrated circuit manufacture. Birmingham: AstonUniversity. Department of Chemical Engineering and Applied Chemistry, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
13

S, Mathad G., Rathore Harzara S, and Arita Y, eds. Interconnect and contact metallization for ULSI: Proceedings of the international symposium. Pennington, N.J: Electrochemical Society, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
14

1955-, Bozhevolnyi Sergey I., ed. Plasmonic nanoguides and circuits. Singapore: Distributed by World Scientific Pub., 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
15

1955-, Bozhevolnyi Sergey I., ed. Plasmonic nanoguides and circuits. Singapore: Pan Stanford, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
16

Samukawa, Seiji. Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using on-Wafer Monitoring System. Springer London, Limited, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
17

Einspruch, Norman G., and Dale M. Brown. Plasma Processing for VLSI. Elsevier Science & Technology Books, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
18

(Editor), R. J. Shul, and S. J. Pearton (Editor), eds. Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques. Springer, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
19

Applications of plasma processes to VLSI technology. New York: Wiley, 1985.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
20

A, Orlikovskiĭ A., ed. Problemy submikronnoĭ tekhnologii. Moskva: Nauka, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
21

A, Orlikovskiĭ A., ed. Problemy submikronnoĭ tekhnologii. Moskva: "Nauka", 1993.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
22

Lucovsky, Gerald, Dale E. Ibbotson, and Dennis W. Hess. Characterization of Plasma-Enhanced CVD Processes: Volume 165. University of Cambridge ESOL Examinations, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
23

W, York Kenneth, Bowers Glen E, and United States. National Aeronautics and Space Administration., eds. Integration issues of a plasma contactor power electronics unit. [Washington, D.C.]: National Aeronautics and Space Administration, 1995.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
24

Roosmalen, A. J. Van. Dry Etching for Vlsi. Springer, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
25

S, Mathad G., Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division, and International Symposium on Plasma Etching Processes for Sub-Quarter Micron Devices (1999 : Honolulu, Hawaii), eds. Plasma etching processes for sub-quarter micron devices: Proceedings of the International Symposium. Pennington, New Jersey: Electrochemical Society., 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
26

G, Sabnis Anant, Raaijmakers Ivo J, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and Semiconductor Equipment and Materials International., eds. Process, equipment, and materials control in integrated circuit manufacturing: 25-26 October 1995, Austin, Texas. Bellingham, Wash: SPIE, 1995.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
27

Armando, Iturralde, Lin Te-Hua, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and Semiconductor Equipment and Materials International., eds. Process, equipment, and materials control in integrated circuit manufacturing II: 16-17 October 1996, Austin, Texas. Bellingham, Wash., USA: SPIE, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
28

Abe, Ghanbari, Toprac Anthony J, and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Process, equipment, and materials control in integrated circuit manufacturing III: 1-2 October 1997, Austin, Texas. Bellingham, Washington: SPIE, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
29

E, Chen Fusen, Murarka S. P, and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Microelectronics technology and process integration: 20-21 October 1994, Austin, Texas. Bellingham, Wash., USA: SPIE, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
30

1955-, Toprac Anthony J., Dang Kim, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and Solid State Technology (Organization), eds. Process, equipment, and materials control in integrated circuit manufacturing IV: 22-24 September, 1998, Santa Clara, California. Bellingham, Washington: SPIE, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
31

G, Lucovsky, Ibbotson Dale E, and Hess Dennis W, eds. Characterization of plasma-enhanced CVD processes: Symposium held Novermber 27-28, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A. Pittsburgh, Pa: Materials Research Society, 1990.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
32

Baggerman, J. A. G., S. J. H. Brader, and A. J. van Roosmalen. Dry Etching for VLSI. Springer, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
33

1955-, Toprac Anthony J., Dang Kim, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and Electrochemical Society, eds. Process, equipment, and materials control in integrated circuit manufacturing V: 22-23 September, 1999, Santa Clara, California. Bellingham, Wash., USA: SPIE, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
34

Tan, Cher Ming, and Feifei He. Electromigration Modeling at Circuit Layout Level. Springer, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
35

Dry etch technology, 9-10 September 1991, San Jose, Calif. Bellingham, Wash: SPIE--The International Societyfor Optical Engineering, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
36

Deepak, Ranadive, and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Dry etch technology: 9-10-September 1991, San Jose, California. Bellingham, Wash: SPIE, 1992.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
37

James, Bondur, and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Microelectronic processes, sensors, and controls: 27-29 September 1993, Monterey, California. Bellingham, Wash: SPIE, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
38

2001 IEEE Radiation Effects Data Workshop: IEEE Nuclear and Plasma Sciences Society : The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc, : Workshop Record (IEEE Conference Proceedings). Inst Elect & Electronic Engineers, 2001.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
39

Lucovsky, Gerald, Dale E. Ibbotson, and Dennis W. Hess. Characterization of Plasma-Enhanced Cvd Processes: Symposium Held November 27-28, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A. (Materials Research Society Symposium Proceedings). Materials Research Society, 1990.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
40

N, Patel Divyesh, Graef Mart, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Semiconductor Equipment and Materials International., Solid State Technology (Organization), and Electrochemical Society, eds. Multilevel interconnect technology: 1-2 October 1997, Austin, Texas. Bellingham, Wash: SPIE, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
41

Rossnagel, Stephen M., Kenneth S. Grabowski, Scott A. Barnett, and Kiyotaka Wasa. Materials Modification by Energetic Atoms and Ions: Volume 268. University of Cambridge ESOL Examinations, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
42

Grabowski, Kenneth S., and Scott A. Barnett. Materials Modification by Energetic Atoms and Ions: Symposium Held April 28-30, 1992, San Francisco, California, USA (Materials Research Society Symposium Proceedings). Materials Research Society, 1992.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
43

Mart, Graef, Patel Divyesh N, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and Electrochemical Society, eds. Multilevel interconnect technology III: 22-23 September 1999, Santa Clara, California. Bellingham, Wash., USA: SPIE, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
44

Geng, Hwaiyu. Semiconductor Manufacturing Handbook (McGraw-Hill Handbooks). McGraw-Hill Professional, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
45

Geng, Hwaiyu. Semiconductor Manufacturing Handbook (McGraw-Hill Handbooks). McGraw-Hill Professional, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
46

Mart, Graef, Patel Divyesh N, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Solid State Technology (Organization), Electrochemical Society, and American Vacuum Society, eds. Multilevel interconnect technology II: 23-24 September, Santa Clara, California. Bellingham, Washington: SPIE, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
47

Coaxial microwave electrothermal thruster performance in hydrogen: W. Richardson and J. Asmussen. [Washington, DC: National Aeronautics and Space Administration, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
48

García, Miguel A., and Gloria Beatriz Chicote. Voces de tinta. Editorial de la Universidad Nacional de La Plata (EDULP), 2008. http://dx.doi.org/10.35537/10915/90795.

Повний текст джерела
Анотація:
El libro constituye la edición parcial y anotada de un manuscrito inédito de Robert Lehmann-Nitsche en el cual el estudioso alemán reunió un conjunto de poemas que se cantaban en el área cultural del Río de la Plata entre fines del siglo XIX y principios del XX. Los textos que integran el manuscrito se corresponden con las versiones grabadas en un fonógrafo por el mismo investigador en la ciudad de La Plata entre los meses de febrero y mayo de 1905. La amplia variedad de géneros poéticos y musicales presentes en este, y la diversidad de registros de escritura, narrativas y personajes que ellos abordan,dan cuenta de la pluralidad de actores, prácticas y representaciones propias de los escenarios urbanos de entresiglos, en el momento en que la cultura criolla de carácter fundamentalmente rural y los estilos de vida de miles de inmigrantes europeos, comenzaban a fusionarse y a plasmar nuevas formas de convivencia. En el pasado, el conjunto de poemas que editamos en este libro eran poseedores de una naturaleza lúdica y transformadora como parte de las expresiones que los habitantes urbanos empleaban para describir, domesticar y comprender el mundo emergente, y para delinear una frontera entre sus peculiares formas de ser y esa otredad amenazante que pugnaba por establecer zonas particulares de familiaridad. En la actualidad, estos mismos poemas testimonian el carácter fundante e inestable de esa realidad, con letras y músicas que operaron como un campo de experimentación en el cual escritores, músicos, lectores y oyentes intentaban reconfigurar y vigorizar sus viejas identidades desterritorializadas. La edición ofrece una caracterización general del manuscrito y nuestro juicio sobre la perspectiva teórico-metodológica desplegada por Lehmann-Nitsche en torno a la recolección de los poemas y a la confección del manuscrito, partiendo desde una coordenada cultural que intenta reanimar en los textos parte de esa profusión de actores sociales y juegos de exotización y reconocimiento, que evita tanto un estricto análisis de tipo estilístico-literario como otro de orden estructural-musicológico. Asimismo, a partir de una selección representativa y anotada del corpus, intentamos establecer relaciones con el fenómeno de la literatura popular impresa en sus vertientes criollistas y europeizantes, dando cuenta de cómo ha sido comprendida la emergencia de dicha literatura por otros investigadores. Si bien en este trabajo está presente una larga tradición de estudios textualistas que afecta al análisis formal y a la exaltación de las figuras del escritor y del lector, intentamos además, un poco en sentido divergente de esa tendencia, poner de relieve el consumo auditivo de estas expresiones llevando a un primer plano al sujeto que no se constituye sólo como un individuo lector fascinado por la flamante adquisición de la tecnología de la lecto-escritura, sino también como un consumidor de esos mismos textos a partir de su condición de oyente. El objetivo último es hacer confluir el desarrollo de todos estos aspectos en una cuestión que ha sido obsesivamente abordada por las ciencias sociales y las humanidades desde el romanticismo: las relaciones entre las llamadas cultura popular y letrada, y entre los medios de comunicación orales y escritos. En este sentido, la edición del manuscrito ha sido casi un pretexto para reflexionar en clave cultural sobre el proceso que atravesaron los centros urbanos rioplatenses en ese período y marcó el rumbo que adoptaron tanto la literatura como la música popular en las décadas siguientes.Con estas expectativas en el horizonte, brindamos, en primer lugar, una descripción del ambiente sociocultural urbano de la época resaltando la incidencia de las inmigraciones interna y externa, el plan modernizador y el proyecto educativo emprendidos por el Estado, la aparición de un circuito de literatura popular impresa y su interacción con el circuito letrado. En segundo término dedicamos un apartado a la figura de Lehmann-Nitsche a fin de comprender cómo operó en su labor eso que Hans-Georg Gadamer (1991) definió como pertenencia a una tradición de pensamiento. Con ese objetivo establecemos un diálogo entre los textos que componen el manuscrito, la colección de literatura popular impresa también reunida por Lehmann-Nitsche, conocida como, las monografías que dedicó a temas y personajes gauchescos, y su libro Textos Eróticos del Río de La Plata (1981). En tercer lugar exponemos nuestras reflexiones sobre aspectos contextuales, literarios y musicales de los poemas para introducir la selección de textos anotados con transcripciones musicales. Un CD con registros sonoros tomados por Lehmann-Nitsche y reproducciones de imágenes de la época pertenecientes a su Legado completan la publicación.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Також вас можуть зацікавити добірки на тему "Plasma Circuits" для інших типів джерел:
Статті в журналах Дисертації
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!

До бібліографії