Статті в журналах з теми "Nitride Thin Films"
Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями
Ознайомтеся з топ-50 статей у журналах для дослідження на тему "Nitride Thin Films".
Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.
Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.
Переглядайте статті в журналах для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.
Kikkawa, Shinichi, K. Sakon, Y. Kawaai, and T. Takeda. "Magnetoresistance of Post-Annealed Iron Nitride Related Thin Films." Advances in Science and Technology 52 (October 2006): 70–74. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ast.52.70.
Повний текст джерелаGerlach, J. W., J. Mennig, and B. Rauschenbach. "Epitaxial gadolinium nitride thin films." Applied Physics Letters 90, no. 6 (February 5, 2007): 061919. http://dx.doi.org/10.1063/1.2472538.
Повний текст джерелаPreschilla A., Nisha, S. Major, Nigvendra Kumar, I. Samajdar, and R. S. Srinivasa. "Nanocrystalline gallium nitride thin films." Applied Physics Letters 77, no. 12 (2000): 1861. http://dx.doi.org/10.1063/1.1311595.
Повний текст джерелаKonyashin, Igor, and German Fox-Rabinovich. "Nanograined Titanium Nitride Thin Films." Advanced Materials 10, no. 12 (August 1998): 952–55. http://dx.doi.org/10.1002/(sici)1521-4095(199808)10:12<952::aid-adma952>3.0.co;2-o.
Повний текст джерелаJouan, Pierre Yves, Arnaud Tricoteaux, and Nicolas Horny. "Elaboration of nitride thin films by reactive sputtering." Rem: Revista Escola de Minas 59, no. 2 (June 2006): 225–32. http://dx.doi.org/10.1590/s0370-44672006000200013.
Повний текст джерелаKamat, Hrishikesh, Xingwu Wang, James Parry, Yueling Qin, and Hao Zeng. "Synthesis and Characterization of Copper-Iron Nitride Thin Films." MRS Advances 1, no. 3 (December 14, 2015): 203–8. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2015.13.
Повний текст джерелаRUSOP, M., T. SOGA, T. JIMBO, M. UMENO, and M. SHARON. "SEMICONDUCTING AMORPHOUS CAMPHORIC CARBON NITRIDE THIN FILMS." Surface Review and Letters 12, no. 04 (August 2005): 587–95. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x05007475.
Повний текст джерелаLinthicum, Kevin, Thomas Gehrke, Darren Thomson, Eric Carlson, Pradeep Rajagopal, Tim Smith, Dale Batchelor, and Robert Davis. "Pendeoepitaxy of gallium nitride thin films." Applied Physics Letters 75, no. 2 (July 12, 1999): 196–98. http://dx.doi.org/10.1063/1.124317.
Повний текст джерелаBykhovski, A. D., V. V. Kaminski, M. S. Shur, Q. C. Chen, and M. A. Khan. "Pyroelectricity in gallium nitride thin films." Applied Physics Letters 69, no. 21 (November 18, 1996): 3254–56. http://dx.doi.org/10.1063/1.118027.
Повний текст джерелаHultman, L. "Thermal stability of nitride thin films." Vacuum 57, no. 1 (April 2000): 1–30. http://dx.doi.org/10.1016/s0042-207x(00)00143-3.
Повний текст джерелаWatanabe, Yoshihisa, Yoshikazu Nakamura, Shigekazu Hirayama, and Yuusaku Naota. "Characterization of aluminium nitride thin films." Ceramics International 22, no. 6 (January 1996): 509–13. http://dx.doi.org/10.1016/0272-8842(95)00127-1.
Повний текст джерелаWu, H. Z., T. C. Chou, A. Mishra, D. R. Anderson, J. K. Lampert, and S. C. Gujrathi. "Characterization of titanium nitride thin films." Thin Solid Films 191, no. 1 (October 1990): 55–67. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(90)90274-h.
Повний текст джерелаKarim, M. Z., D. C. Cameron, and M. S. J. Hashmi. "Vapour deposited boron nitride thin films." Materials & Design 13, no. 4 (January 1992): 207–14. http://dx.doi.org/10.1016/0261-3069(92)90026-e.
Повний текст джерелаHellgren, Niklas, Nian Lin, Esteban Broitman, Virginie Serin, Stefano E. Grillo, Ray Twesten, Ivan Petrov, Christian Colliex, Lars Hultman, and Jan-Eric Sundgren. "Thermal stability of carbon nitride thin films." Journal of Materials Research 16, no. 11 (November 2001): 3188–201. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2001.0440.
Повний текст джерелаJafarzadeh, Morteza, Kaykhosrow Khojier, and Hadi Savaloni. "Influence of Nitrogen Gas Flow on Mechanical and Tribological Properties of Sputtered Chromium Nitride Thin Films." Advanced Materials Research 829 (November 2013): 497–501. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.829.497.
Повний текст джерелаChiu, Hsin-Tien, and Shiow-Huey Chuang. "Tungsten nitride thin films prepared by MOCVD." Journal of Materials Research 8, no. 6 (June 1993): 1353–60. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1993.1353.
Повний текст джерелаKrishna, M. Ghanashyam, and K. A. Padmanabhan. "Titanium Nitride based multi-functional thin films." IOP Conference Series: Materials Science and Engineering 1221, no. 1 (March 1, 2022): 012007. http://dx.doi.org/10.1088/1757-899x/1221/1/012007.
Повний текст джерелаŢălu, Ştefan, Sebastian Stach, Shahoo Valedbagi, Reza Bavadi, S. Mohammad Elahi, and Mihai Ţălu. "Multifractal characteristics of titanium nitride thin films." Materials Science-Poland 33, no. 3 (September 1, 2015): 541–48. http://dx.doi.org/10.1515/msp-2015-0086.
Повний текст джерелаKuzmin, A., A. Kalinko, A. Anspoks, J. Timoshenko, and R. Kalendarev. "Study of Copper Nitride Thin Film Structure." Latvian Journal of Physics and Technical Sciences 53, no. 2 (April 1, 2016): 31–37. http://dx.doi.org/10.1515/lpts-2016-0011.
Повний текст джерелаGordon, Roy G., Umar Riaz, and David M. Hoffman. "Chemical vapor deposition of aluminum nitride thin films." Journal of Materials Research 7, no. 7 (July 1992): 1679–84. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1992.1679.
Повний текст джерелаNOMA, Masao, Eiji KOMATSU, Toshio TOKORO, Hiroaki OHNISHI, Keiji OGAWA, and Heisaburo NAKAGAWA. "Hardness Property of Cubic Boron Nitride Thin Films and Tool Applications by Cubic Boron Nitride Thin Films." Shinku 50, no. 5 (2007): 382–85. http://dx.doi.org/10.3131/jvsj.50.382.
Повний текст джерелаFeng, Jun Qin, and Jun Fang Chen. "Optical Properties and Zinc Nitride Thin Films Prepared Using Magnetron Reactive Sputtering." Advanced Materials Research 940 (June 2014): 11–15. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.940.11.
Повний текст джерелаMazumder, M. K., K. Kobayashi, J. Mitsuhashi, and H. Koyama. "Stress-induced current in nitride and oxidized nitride thin films." IEEE Transactions on Electron Devices 41, no. 12 (1994): 2417–22. http://dx.doi.org/10.1109/16.337458.
Повний текст джерелаGrant Norton, M., Paul G. Kotula, and C. Barry Carter. "Growth and characterization of aluminum nitride thin films." Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 49 (August 1991): 952–53. http://dx.doi.org/10.1017/s042482010008907x.
Повний текст джерелаMajeed, U., I. Tariq, M. Wasib, and M. K. Mustafa. "Surface study of RF magnetron sputtered silicon nitride thin films." Journal of Optoelectronic and Biomedical Materials 15, no. 2 (April 2023): 55–64. http://dx.doi.org/10.15251/jobm.2023.152.55.
Повний текст джерелаMustafa, M. K., U. Majeed, and Y. Iqbal. "Effect on Silicon Nitride thin Films Properties at Various Powers of RF Magnetron Sputtering." International Journal of Engineering & Technology 7, no. 4.30 (November 30, 2018): 39. http://dx.doi.org/10.14419/ijet.v7i4.30.22000.
Повний текст джерелаTao, Qing, Yan Wei Sui, Sun Zhi, and Wei Song. "Study on Arc Ion Plating Nitride Films of Microscopic Morphology and Micro-Hardness." Advanced Materials Research 306-307 (August 2011): 274–79. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.306-307.274.
Повний текст джерелаChoeysuppaket, Attapol, Nirun Witit-Anun, and Surasing Chaiyakun. "Characterization of ZrN Thin Films Deposited by Reactive DC Magnetron Sputtering." Advanced Materials Research 770 (September 2013): 350–53. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.770.350.
Повний текст джерелаSato, Yuichi, and Tatsuya Matsunaga. "Properties of GaN-Related Epitaxial Thin Films Grown on Sapphire Substrates as Transparent Conducting Electrodes." Materials Science Forum 783-786 (May 2014): 1652–57. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.783-786.1652.
Повний текст джерелаCao, Chuanbao, Jiyu Fu, and Hesun Zhu. "CARBON NITRIDE THIN FILMS DEPOSITED BY CATHODIC ELECTRODEPOSITION." International Journal of Modern Physics B 16, no. 06n07 (March 20, 2002): 1138–42. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979202011007.
Повний текст джерелаŠimůrka, Lukáš, Selen Erkan, and Tuncay Turutoglu. "Characterization of Silicon Nitride Thin Films on Glass." Defect and Diffusion Forum 368 (July 2016): 86–90. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ddf.368.86.
Повний текст джерелаKester, D. J., K. S. Ailey, R. F. Davis, and K. L. More. "Phase evolution in boron nitride thin films." Journal of Materials Research 8, no. 6 (June 1993): 1213–16. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1993.1213.
Повний текст джерелаMatsuoka, Morito, Ken’ichi Ono, and Takashi Inukai. "Magnetic properties of cobalt nitride thin films." Applied Physics Letters 49, no. 15 (October 13, 1986): 977–79. http://dx.doi.org/10.1063/1.97501.
Повний текст джерелаWatanabe, Y., Y. Hara, T. Tokuda, N. Kitazawa, and Y. Nakamura. "Surface oxidation of aluminium nitride thin films." Surface Engineering 16, no. 3 (June 2000): 211–14. http://dx.doi.org/10.1179/026708400101517152.
Повний текст джерелаULRICH, R., G. ZHAO, and W. BROWN. "POTENTIOSTATIC TESTING OF THIN SILICON NITRIDE FILMS." Chemical Engineering Communications 137, no. 1 (June 10, 1995): 23–32. http://dx.doi.org/10.1080/00986449508936363.
Повний текст джерелаBaskaran, R., A. V. Thanikai Arasu, E. P. Amaladass, L. S. Vaidhyanathan, and D. K. Baisnab. "Superconducting fluctuations in molybdenum nitride thin films." Physica C: Superconductivity and its Applications 545 (February 2018): 5–9. http://dx.doi.org/10.1016/j.physc.2017.11.006.
Повний текст джерелаHuang, Jia-Hong, Cheng-Han Lin, and Ge-Ping Yu. "Texture evolution of vanadium nitride thin films." Thin Solid Films 688 (October 2019): 137415. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2019.137415.
Повний текст джерелаJoo, Han-Yong, Hyeong Joon Kim, Sang June Kim, and Sang Youl Kim. "Spectrophotometric analysis of aluminum nitride thin films." Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 17, no. 3 (May 1999): 862–70. http://dx.doi.org/10.1116/1.582035.
Повний текст джерелаSimpson, J. C. B., L. G. Earwaker, and M. N. Khan. "Nuclear analysis of zirconium nitride thin films." Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 24-25 (April 1987): 701–4. http://dx.doi.org/10.1016/s0168-583x(87)80229-x.
Повний текст джерелаRadnóczi, G., I. Kovács, O. Geszti, L. P. Bı́ró, and G. Sáfrán. "Structure of amorphous carbon-nitride thin films." Surface and Coatings Technology 151-152 (March 2002): 133–37. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(01)01626-7.
Повний текст джерелаLippitz, A., and Th Hübert. "XPS investigations of chromium nitride thin films." Surface and Coatings Technology 200, no. 1-4 (October 2005): 250–53. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2005.02.091.
Повний текст джерелаTsukimoto, S., M. Moriyama, and Masanori Murakami. "Microstructure of amorphous tantalum nitride thin films." Thin Solid Films 460, no. 1-2 (July 2004): 222–26. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2004.01.073.
Повний текст джерелаMachunze, R., and G. C. A. M. Janssen. "Stress gradients in titanium nitride thin films." Surface and Coatings Technology 203, no. 5-7 (December 2008): 550–53. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2008.05.005.
Повний текст джерелаMcKenzie, D. R., W. D. McFall, S. Reisch, B. W. James, I. S. Falconer, R. W. Boswell, H. Persing, A. J. Perry, and A. Durandet. "Synthesis of cubic boron nitride thin films." Surface and Coatings Technology 78, no. 1-3 (January 1996): 255–62. http://dx.doi.org/10.1016/0257-8972(95)02419-0.
Повний текст джерелаMéndez, J. M., S. Muhl, E. Andrade, L. Cota-Araiza, M. Farías, and G. Soto. "Optical properties of boron nitride thin films." Diamond and Related Materials 3, no. 4-6 (April 1994): 831–35. http://dx.doi.org/10.1016/0925-9635(94)90279-8.
Повний текст джерелаSioshansi, Piran, and Ray Bricault. "Hard Boron Nitride Thin Films by IBED." JOM 39, no. 9 (September 1987): 63. http://dx.doi.org/10.1007/bf03257660.
Повний текст джерелаVertchenko, Larissa, Lorenzo Leandro, Evgeniy Shkondin, Osamu Takayama, Igor V. Bondarev, Nika Akopian, and Andrei V. Lavrinenko. "Cryogenic characterization of titanium nitride thin films." Optical Materials Express 9, no. 5 (April 8, 2019): 2117. http://dx.doi.org/10.1364/ome.9.002117.
Повний текст джерелаHoffman, David M. "Chemical vapour deposition of nitride thin films." Polyhedron 13, no. 8 (April 1994): 1169–79. http://dx.doi.org/10.1016/s0277-5387(00)80253-3.
Повний текст джерелаPlass, M. F., W. Fukarek, A. Kolitsch, N. Schell, and W. Möller. "Layered growth of boron nitride thin films." Thin Solid Films 305, no. 1-2 (August 1997): 172–84. http://dx.doi.org/10.1016/s0040-6090(96)09575-2.
Повний текст джерелаJiang, Zhong-Tao, Tomuo Yamaguchi, Mitsuru Aoyama, Yoichiro Nakanishi, and Leo Asinovsky. "Spectroellipsometric characterization of thin silicon nitride films." Thin Solid Films 313-314 (February 1998): 298–302. http://dx.doi.org/10.1016/s0040-6090(97)00836-5.
Повний текст джерела