Книги з теми "Nitride Thin Films"

Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Nitride Thin Films.

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-50 книг для дослідження на тему "Nitride Thin Films".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

Jamal, Deen M., Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division, and Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (4th : 1997 : Montreal, Quebec), eds. Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films: Proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films. Pennington, New Jersey: Electrochemical Society, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Emerging Dielectrics (9th 2007 Chicago, Ill.). Silicon nitride, silicon dioxide, and emerging dielectrics 9. Edited by Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., and Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J: Electrochemical Society, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Emerging Dielectrics (9th 2007 Chicago, Ill.). Silicon nitride, silicon dioxide, and emerging dielectrics 9. Edited by Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., and Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J: Electrochemical Society, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

Luches, Armando. Laser-assisted deposition of boron nitride thin films and nanotubes. Hauppauge, N.Y: Nova Science Publisher's, 2010.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (1988 Chicago, Ill.). Proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films. Pennington, NJ: Electrochemical Society, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (2nd 1986 San Diego, Calif.). Proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films. Pennington, NJ (10 S. Main St., Pennington 08534-2696: Electrochemical Society), 1987.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
7

Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (7th 2003 Paris, France). Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films VII: Proceedings of the international symposium. Edited by Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division, and Electrochemical Society Meeting. Pennington, NJ: Electrochemical Society, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
8

Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (5th 1999 Seattle, Wash.). Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films: Proceedings of the fifth international symposium. Pennington, NJ (10 S. Main St., Pennington 08534-2696: Electrochemical Society), 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
9

Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (3rd 1994 San Francisco, Calif.). Proceedings of the Third Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films. Pennington, NJ (10 S. Main St., Pennington 08534-2696: Electrochemical Society), 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
10

Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (8th 2005 Québec, Québec). Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging diele[c]trics VIII: Proceedings of the international symposium. Edited by Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division, and Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J: Electrochemical Society, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
11

Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (8th 2005 Québec, Québec). Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging diele[c]trics VIII: Proceedings of the international symposium. Edited by Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division, and Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J: Electrochemical Society, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
12

Fong, Chee Yong. Sol-gel spin coating growth of gallium nitride thin films: A simple, safe, and cheap approach. Pulau Pinang: Penerbit Universiti Sains Malaysia, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
13

Bliznakovska, Blagica. Analysis methods and techniques for hard thin layer-coatings characterization: In particular on titanium nitride. Jülich: Forschungszentrum Jülich, 1993.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
14

Friedhelm, Bechstedt, Meyer B. K, Stutzmann M, and Deutsche Forschungsgemeinschaft, eds. Group III-nitrides and their heterostructures: Growth, characterization and applications. Weinheim: Wiley-VCH, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
15

Bliznakovska, Blagica. PACVD of TiN. Jülich: Forschungszentrum Jülich, 1995.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
16

Sloof, Willem Gerrit. Internal stresses and microstructure of layer/substrate assemblies: Analysis of TiC and TiN coatings chemically vapour deposited on various substrates. Delft, Netherlands: Delft University Press, 1996.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
17

Munns, Clifford B. X-ray diffraction studies of evaporated gold thin films deposited on aluminum nitride substrates. Monterey, Calif: Naval Postgraduate School, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
18

Habraken, F. H. P. M., ed. LPCVD silicon nitride and oxynitride films: Material and applications in integrated circuit technology. Berlin: Springer-Verlag, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
19

H, Carter Calvin, and Materials Research Society. Meeting Symposium D., eds. Diamond, SiC and nitride wide bandgap semiconductors: Symposium held April 4-8, 1994, San Francisco, California, U.S. Pittsburgh, PA: Materials Research Society, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
20

1953-, Prelas Mark Antonio, North Atlantic Treaty Organization. Scientific Affairs Division., and NATO Advanced Research Workshop on Diamond Based Composites (1997 : Saint Petersburg, Russia), eds. Diamond based composites: And related materials. Dordrecht: Kluwer Academic Publishers, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
21

Musil, Jindřich. Tenké vrstvy nitridu titanu. Praha: Academia, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
22

John Wiley & Sons. Technical Insights., ed. Supertough coatings: Emerging trends in DLCs, nitrides, borides, and oxides. 2nd ed. Englewood, NJ: Technical Insights, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
23

G, Pensl, and International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (7th : 1998 : Stockholm, Sweden), eds. Silicon carbide, III-nitrides and related materials: ICSCIII-N'97 : Proceedings of the 7th International Conference on Silicon Carbide, III-Nitrides and Related Materials, Stockholm, Sweden, September 1997. Uetikon-Zurich, Switzerland: Trans Tech Publications, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
24

International Seminar Diamond Films (3rd 1996 Saint Petersburg, Russia). Diamond & diamond-like film applications: Nucleation and growth, modeling and phase equilibria, properties and characterization, diamond-like carbon, wide bandgap, nitrides and carbides : proceedings Third International Symposium on Diamond Films, St. Petersburg, Russia, June 16-19, 1996. Lancaster: Technomic Pub. Co., 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
25

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (1999 Research Triangle Park, N.C.). Silicon carbide and related materials--1999: ICSCRM'99 : proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials--1999, Research Triangle Park, North Carolina, USA, October 10-15, 1999. Edited by Carter Calvin H, Devaty Robert Philip 1954-, and Rohrer Gregory S. Uetikon-Zurich, Switzerland: Trans Tech Publications, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
26

A, Ponce Fernando, ed. III-V nitrides: Symposium held December 2-6, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A. Pittsburgh, Pa: Materials Research Society, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
27

Surowiec, Catherine A., and Roger B. N. Smither. This film is dangerous: A celebration of nitrate film. Edited by International Federation of Film Archives and International Federation of Film Archives. Congress. Bruxelles, Belgium: FIAF, 2002.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
28

Miyoshi, Kazuhisa. Surface design and engineering toward wear-resistant, self-lubricating diamond films and coatings. [Cleveland, Ohio]: National Aeronautics and Space Administration, Lewis Research Center, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
29

Miyoshi, Kazuhisa. Surface design and engineering toward wear-resistant, self-lubricating diamond films and coatings. [Cleveland, Ohio]: National Aeronautics and Space Administration, Lewis Research Center, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
30

E, Voss Kenneth, ed. Materials and processes for environmental protection: Symposium held April 5-7, 1994, San Francisco, California, U.S.A. Pittsburgh, PA: Materials Research Society, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
31

International Conference on Silicon Carbide and Related Materials (9th 2001 Tsukuba, Japan). Silicon carbide and related materials: ICSCRM2001, proceedings of the International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, Tsukuba, Japan, October 28 - November 2, 2001. Uetikon-Zuerich, Switzerland: Trans Tech Publications, 2002.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
32

Kapoor, Vikram J. Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films. Electrochemical Society, 1987.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
33

(Editor), R. E. Sah, M. J. Deen (Editor), J. F. Zhang (Editor), J. Yota (Editor), and Y. Kamakura (Editor), eds. Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Other Emerging Dielectrics VIII 2005. Electrochemical Society, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
34

Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films VII: Proceedings of the International Symposium. Not Avail, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
35

Deen, M. Jamal. Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films: Proceedings of the Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (Proceedings; V. 97-9). Electrochemical Society, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
36

Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films: Proceedings of the sixth international symposium. Pennington, NJ: Electrochemical Society, 2001.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
37

(Editor), Friedhelm Bechstedt, Bruno K. Meyer (Editor), and Martin Stutzmann (Editor), eds. Priority Programme of the Deutsche Forschungsgemeinschaft: Group III-Nitrides and Their Heterostructures: Growth, Characterization and Applications. Wiley-VCH, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
38

Žukauskaitė, Agnė, ed. Piezoelectric Aluminium Scandium Nitride (AlScN) Thin Films: Material Development and Applications in Microdevices. MDPI, 2023. http://dx.doi.org/10.3390/books978-3-0365-6366-4.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
39

Adhesion, friction, and wear of plasma-deposited thin silicon nitride films at temperatures to 700⁰C. Cleveland, Ohio: Lewis Research Center, NASA, 1989.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
40

Carter, Calvin H., and Gennady Gildenblat. Diamond, Sic and Nitride Wide Bandgap Semiconductors: Symposium Held April 4-8, 1994, San Francisco, California, U.S.A. (Materials Research Society Symposium Proceedings). Materials Research Society, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
41

Auciello, Orlando, ed. Ultrananocrystalline Diamond Coatings for Next-Generation High-Tech and Medical Devices. Cambridge University Press, 2022. http://dx.doi.org/10.1017/9781316105177.

Повний текст джерела
Анотація:
A comprehensive guide to the science of a transformational ultrananocrystalline-diamond (UNCDTM) thin film technology enabling a new generation of high-tech and external and implantable medical devices. Edited and co-authored by a co-originator and pioneer in the field, it describes the synthesis and material properties of UNCDTM coatings and multifunctional oxide/nitride thin films and nanoparticles, and how these technologies can be integrated into the development of implantable and external medical devices and treatments of human biological conditions. Bringing together contributions from experts around the world, it covers a range of clinical applications, including ocular implants, glaucoma treatment devices, implantable prostheses, scaffolds for stem cell growth and differentiation, Li-ion batteries for defibrillators and pacemakers, and drug delivery and sensor devices. Technology transfer and regulatory issues are also covered. This is essential reading for researchers, engineers and practitioners in the field of high-tech and medical device technologies across materials science and biomedical engineering.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
42

Bergonzo, Philippe, Richard B. Jackman, Milos Nesladek, Kian Ping Loh, and Butler James E. Diamond Electronics and Bioelectronics - Fundamentals to Applications III: Volume 1203. University of Cambridge ESOL Examinations, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
43

Diamond Electronics and Bioelectronics - Fundamentals to Applications III: Volume 1203. Cambridge University Press, 2010.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
44

Semi-annual progress report on a study of reactive plasma deposited thin films. Greensboro, N.C: North Carolina Agricultural and Technical State University, Dept. of Physics, 1986.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
45

Semi-annual progress report on a study of reactive plasma deposited thin films. Greensboro, N.C: North Carolina Agricultural and Technical State University, Dept. of Physics, 1986.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
46

Wiley. Supertough Coatings: Emerging Trends in DLCs, Nitrides, Borides, and Oxides, 2nd Edition. Technical Insights/John Wiley & Sons, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
47

(Editor), G. Pensl, B. Monemar (Editor), and H. Morkoc (Editor), eds. Silicon Carbid, III-Nitrides & Related Materials: Proceedings of the 7th International Conference on Silicon Carbide, III-Nitrides & Related Materials (Materials Science Forum,). Scitec Publications, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
48

Diamond Electronics Vol. 1039: Fundamentals to Applications II. Cambridge University Press, 2008.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
49

Diamond Electronics: Fundamentals to Applications: Symposium Held November 27-30, 2006, Boston, Massachusetts, U.S.A. (Materials Research Society Symposium Proceedings). Materials Research Society, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
50

(Editor), Calvin H. Carter, Robert P. Devaty (Editor), and Gregory S. Rohrer (Editor), eds. Silicon Carbide and Related Materials-1999 (Materials Science Forum). Trans Tech Publications, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!

До бібліографії