Увійти

Готові списки джерел за темами / Graphene Oxide Thin Film / Книги

Книги з теми "Graphene Oxide Thin Film"

Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Graphene Oxide Thin Film.

Автор: Grafiati

Опубліковано: 6 вересня 2023

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-41 книг для дослідження на тему "Graphene Oxide Thin Film".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

National Renewable Energy Laboratory (U.S.), ed. Amorphous indium-zinc-oxide transparent conductors for thin film PV: Preprint. Golden, CO: National Renewable Energy Laboratory, 2011.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

2

Laconte, J. Micromachined thin-film sensors for SOI-CMOS co-integration. New York: Springer, 2011.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

3

Barquinha, Pedro. Transparent oxide electronics: From materials to devices. Hoboken, N.J: Wiley, 2012.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

4

Klaus, Ellmer, Klein Andreas Dr, and Rech Bernd, eds. Transparent conductive zinc oxide: Basics and applications in thin film solar cells. Berlin: Springer, 2008.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

5

Chubb, Donald L. Emittance theory for thin film selective emitter. [Washington, DC]: National Aeronautics and Space Administration, 1994.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

6

Chubb, Donald L. Emittance theory for thin film selective emitter. [Washington, DC]: National Aeronautics and Space Administration, 1994.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

7

Thin film metal-oxides: Fundamentals and applications in electronics and energy. New York: Springer, 2010.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

8

K, Sahoo N., and Bhabha Atomic Research Centre, eds. ION assisted deposition of refractory oxide thin film coatings for improved optical and structural properties. Mumbai: Bhabha Atomic Research Centre, 1999.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

9

Archer, Caroline Jane. An investigation of the low energy RF plasma bombardment of thin film tin oxide surfaces. [s.l: The Author], 1999.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

10

France) International Conference on Thin Film Deposition of Oxide Multilayers Hybrid Structures (2nd 2001 Autrans. International Conference on Thin Film Deposition of Oxide Multilayers Hybrid Structures: TFDOM-2 : Autrans, France, October 18-19, 2001. Les Ulis, France: EDP Sciences, 2001.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

11

Vladimir, Matias, and Materials Research Society Meeting, eds. Artificially induced grain alignment in thin films: Symposium held December 2-3, 2008, Boston, Massachusetts, U.S.A. Warrendale, Pa: Materials Research Society, 2009.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

12

IEEE SOS/SOI Technology Conference. (1990 Key West, Fla.). 1990 IEEE SOS/SOI Technology Conference, October 2-4, 1990, Marriott's Casa, Marina Resort, Key West, Florida : proceedings. [New York: IEEE], 1990.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

13

Maeda, Shigenobu. Teishōhi denryoku kōsoku MOSFET gijutsu: Takesshō shirikon TFT fukagata SRAM to SOI debaisu. Tōkyō: Sipec, 2002.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

14

Habraken, F. H. P. M., ed. LPCVD silicon nitride and oxynitride films: Material and applications in integrated circuit technology. Berlin: Springer-Verlag, 1991.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

15

Saji, K. J. Oxide Thin Film Transistors. Nova Science Publishers, Incorporated, 2017.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

16

Zhou, Ye. Semiconducting Metal Oxide Thin-Film Transistors. IOP Publishing Ltd, 2021. http://dx.doi.org/10.1088/978-0-7503-2556-1.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

17

Metal Oxide-Based Thin Film Structures. Elsevier, 2018. http://dx.doi.org/10.1016/c2015-0-06152-4.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

18

Functional Oxide Based Thin-Film Materials. MDPI, 2020. http://dx.doi.org/10.3390/books978-3-03928-838-0.

Повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

19

Zhou, Ye. Semiconducting Metal Oxide Thin-Film Transistors. IOP Publishing Ltd, 2020.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

20

Ogale, Satishchandra B. Thin Films and Heterostructures for Oxide Electronics (Multifunctional Thin Film Series). Springer, 2005.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

21

Functional Materials: Fundamental Research and Industrial Application. Trans Tech Publications, Limited, 2021.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

22

Korotcenkov, Ghenadii, and Ashrit Pandurang. Transition Metal Oxide Thin Film-Based Chromogenics and Devices. Elsevier, 2017.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

23

Ashrit, Pandurang. Transition Metal Oxide Thin Film-Based Chromogenics and Devices. Elsevier, 2017.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

24

Netzer, Falko P., and Claudine Noguera. Oxide Thin Films and Nanostructures. Oxford University Press, 2021. http://dx.doi.org/10.1093/oso/9780198834618.001.0001.

Повний текст джерела

Анотація:

Nanostructured oxide materials ultra-thin films, nanoparticles and other nanometer-scale objects play prominent roles in many aspects of our every-day life, in nature and in technological applications, among which is the all-oxide electronics of tomorrow. Due to their reduced dimensions and dimensionality, they strongly interact with their environment gaseous atmosphere, water or support. Their novel physical and chemical properties are the subject of this book from both a fundamental and an applied perspective. It reviews and illustrates the various methodologies for their growth, fabrication, experimental and theoretical characterization. The role of key parameters such as film thickness, nanoparticle size and support interactions in driving their fundamental properties is underlined. At the ultimate thickness limit, two-dimensional oxide materials are generated, whose functionalities and potential applications are described. The emerging field of cation mixing is mentioned, which opens new avenues for engineering many oxide properties, as witnessed by natural oxide nanomaterials such as clay minerals, which, beyond their role at the Earth surface, are now widely used in a whole range of human activities. Oxide nanomaterials are involved in many interdisciplinary fields of advanced nanotechnologies: catalysis, photocatalysis, solar energy materials, fuel cells, corrosion protection, and biotechnological applications are amongst the areas where they are making an impact; prototypical examples are outlined. A cautious glimpse into future developments of scientific activity is finally ventured to round off the treatise.

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

25

Klein, Andreas, Klaus Ellmer, and Bernd Rech. Transparent Conductive Zinc Oxide: Basics and Applications in Thin Film Solar Cells. Springer, 2010.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

26

Esposito, Vincenzo, Ghenadii Korotcenkov, and Nini Pryds. Metal Oxide-Based Thin Film Structures: Formation, Characterization and Application of Interface-Based Phenomena. Elsevier, 2017.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

27

Korotcenkov, Ghenadii, Nini Pryds, and Vicenzo Esposito. Metal Oxide-Based Thin Film Structures: Formation, Characterization and Application of Interface-Based Phenomena. Elsevier Science & Technology Books, 2017.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

28

Toxic Gas Sensors and Biosensors. Materials Research Forum LLC, 2021. http://dx.doi.org/10.21741/9781644901175.

Повний текст джерела

Анотація:

The book focuses on novel sensor materials and their environmental and healthcare applications, such as NO2 detection, toxic gas and biosensing, hydrazine determination, glucose sensing and the detection of toxins and pollutants on surfaces. Materials covered include catalytic nanomaterials, metal oxides, perovskites, zeolites, spinels, graphene-based gas sensors, CNT/Ni nanocomposites, glucose biosensors, single and multi-layered stacked MXenes, black phosphorus, transition metal dichalcogenides and P3OT thin films.

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

29

Ramanathan, Shriram. Thin Film Metal-Oxides: Fundamentals and Applications in Electronics and Energy. Springer, 2014.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

30

Kim, Won-Seok. Enhanced electrochemical characteristics of lithium manganese oxide thin film cathodes for li-ion rechargeable microbatteries. 2004.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

31

Micromachined Thin-Film Sensors for SOI-CMOS Co-Integration. Springer, 2006.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

32

(Editor), Marilyn Hawley, D. H. A. Blank (Editor), C.-B. Eom (Editor), S. K. Streiffer (Editor), and D. G. Schlom (Editor), eds. Multicomponent Oxide Films for Electronics: Symposium Held April 6-8, 1999, San Francisco, California, U.S.A (Materials Research Society Symposium Proceedings). Materials Research Society, 1999.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

33

Yang, Ping-Chang. Development of new characterization techniques for thin-film silicon-on-insulator (SOI) materials and devices. 1993.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

34

(Editor), David S. Ginley, John D. Perkins (Editor), Hiroshi Kawazoe (Editor), Dennis M. Newns (Editor), and Audrey B. Kozyrev (Editor), eds. Materials Science of Novel Oxide-Based Electronics: Symposium Held April 24-27, 2000, in San Francisco, California, U.S.A (Materials Research Society Symposia Proceedings, V. 623.). Materials Research Society, 2000.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

35

Transparent Conductive Zinc Oxide: Basics and Applications in Thin Film Solar Cells (Springer Series in Materials Science Book 104). Springer, 2007.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

36

Advanced Technologies for Next Generation Integrated Circuits. Institution of Engineering & Technology, 2020.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

37

VLSI and Post-CMOS Electronics: Design, Modelling and Simulation. Institution of Engineering & Technology, 2019.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

38

Dhiman, Rohit, and Rajeevan Chandel. VLSI and Post-CMOS Electronics: Devices, Circuits and Interconnects, Volume 2. Institution of Engineering & Technology, 2019.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

39

VLSI and Post-CMOS Electronics: Devices, Circuits and Interconnects. Institution of Engineering & Technology, 2019.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

40

Dhiman, Rohit, and Rajeevan Chandel. VLSI and Post-CMOS Electronics: Design, Modelling and Simulation, Volume 1. Institution of Engineering & Technology, 2019.

Знайти повний текст джерела

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

41

Auciello, Orlando, ed. Ultrananocrystalline Diamond Coatings for Next-Generation High-Tech and Medical Devices. Cambridge University Press, 2022. http://dx.doi.org/10.1017/9781316105177.

Повний текст джерела

Анотація:

A comprehensive guide to the science of a transformational ultrananocrystalline-diamond (UNCDTM) thin film technology enabling a new generation of high-tech and external and implantable medical devices. Edited and co-authored by a co-originator and pioneer in the field, it describes the synthesis and material properties of UNCDTM coatings and multifunctional oxide/nitride thin films and nanoparticles, and how these technologies can be integrated into the development of implantable and external medical devices and treatments of human biological conditions. Bringing together contributions from experts around the world, it covers a range of clinical applications, including ocular implants, glaucoma treatment devices, implantable prostheses, scaffolds for stem cell growth and differentiation, Li-ion batteries for defibrillators and pacemakers, and drug delivery and sensor devices. Technology transfer and regulatory issues are also covered. This is essential reading for researchers, engineers and practitioners in the field of high-tech and medical device technologies across materials science and biomedical engineering.

Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.

Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!