Готові списки джерел за темами / Electron-beam technologies / Книги

Книги з теми "Electron-beam technologies"

Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Electron-beam technologies.
Автор: Grafiati
Опубліковано: 30 травня 2022
Оновлено: 31 травня 2022

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-22 книг для дослідження на тему "Electron-beam technologies".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

Fontaine, Bruno M. La, and F. M. Schellenberg. Alternative lithographic technologies: 24-26 February 2009, San Jose, California, United States. Edited by SPIE (Society) and International SEMATECH. Bellingham, Wash: SPIE, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

Resnick, Douglas J., and William Man-Wai Tong. Alternative lithographic technologies IV: 13-16 February 2012, San Jose, California, United States. Edited by SPIE (Society). Bellingham, Washington: SPIE, 2012.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

Herr, Daniel J. C. Alternative lithographic technologies II: 23-25 February 2010, San Jose, California, United States. Edited by SPIE (Society) and SEMATECH (Organization). Bellingham, Wash: SPIE, 2010.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

Herr, Daniel J. C. Alternative lithographic technologies III: 1-3 March 2011, San Jose, California, United States. Edited by SPIE (Society). Bellingham, Wash: SPIE, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

International Conference on Electron Beam Technologies (3rd 1991 Varna (Bulgaria). International Conference on Electron Beam Technologies: 30 May - June 4, 1991, Varna, Bulgaria = [Mezhdunarodnai͡a︡ konferent͡s︡ii͡a︡ po ėlektronno-luchevym tekhnologii͡a︡m : Varna, Bolgarii͡a︡, 30 mai͡a︡ - 4 i͡u︡ni͡a︡ 1991]. [Sofia]: Bulgarian Academy of Sciences, Institute of electronics, 1991.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

International Conference on Electron Beam Technologies (1st 1985 Varna, Bulgaria). Mezhdunarodnai͡a︡ konferent͡s︡ii͡a︡ po ėlektronno luchevym tekhnologii͡a︡m: Bolgarii͡a︡, Varna, 26 mai͡a︡-2 ii͡u︡ni͡a︡ 1985 g. = International Conference on Electron Beam Technologies : Bulgaria, Varna, 26 May-2 Yune [sic] 1985. Sofii͡a︡: Izd-vo Bolgarskoĭ akademii nauk, 1985.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
7

Kyōkai, Nihon Tekkō. Bīmu riyō gijutsu no saikin no dōkō: Recent trend of beam application technologies. Tokyo: Nihon Tekkō Kyōkai, 1990.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
8

Electron Beam Pasteurization and Complementary Food Processing Technologies. Elsevier, 2015. http://dx.doi.org/10.1016/c2013-0-16457-4.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
9

Electron Beam Pasteurization and Complementary Food Processing Technologies. Woodhead Publishing, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
10

Mackay, R. Scott. Emerging Lithographic Technologies 9. SPIE-International Society for Optical Engine, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
11

Scott, Mackay R., Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Semiconductor Equipment and Materials International., and International SEMATECH, eds. Emerging lithographic technologies VIII: 24-26 February, 2004, Santa Clara, California, USA. Bellingham, Wash., USA: SPIE, 2004.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
12

E, Seeger David, and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Emerging lithographic technologies: 10-11 March 1997, Santa Clara, California. Bellingham, Wash: SPIE, 1997.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
13

Yuli, Vladimirsky, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and Semiconductor Equipment and Materials International, eds. Emerging lithographic technologies III: 15-17 March, 1999, Santa Clara, California. Bellingham, Wash: SPIE, 1999.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
14

Schellenberg, Frank. Emerging Lithographic Technologies XII: 26-28 February 2008, San Jose, California, USA. SPIE, 2008.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
15

L, Engelstad Roxann, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Semiconductor Equipment and Materials International., and International SEMATECH, eds. Emerging lithographic technologies VII: 25-27 February, 2003, Santa Clara, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
16

Ann, Dobisz Elizabeth, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Semiconductor Equipment and Materials International., and International SEMATECH, eds. Emerging lithographic technologies IV: 28 February-1 March, 2000, Santa Clara, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
17

Yuli, Vladimirsky, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Semiconductor Equipment and Materials International, and SEMATECH (Organization), eds. Emerging lithographic technologies II: 23-25 February 1998, Santa Clara, California. Bellingham, Wash: SPIE, 1998.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
18

Ann, Dobisz Elizabeth, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Semiconductor Equipment and Materials International, and International SEMATECH, eds. Emerging lithographic technologies V: 27 February-1 March, 2001, Santa Clara, [California], USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2001.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
19

1969-, Lercel Michael J., Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and International SEMATECH, eds. Emerging lithographic technologies X: 21-23 February, 2006, San Jose, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2006.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
20

1969-, Lercel Michael J., Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and SEMATECH (Organization), eds. Emerging lithographic technologies XI: 27 February- 1 March 2007, San Jose, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
21

1969-, Lercel Michael J., Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and SEMATECH (Organization), eds. Emerging lithographic technologies XI: 27 February- 1 March 2007, San Jose, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
22

Llarich, Kyle W. Cardiac Examination, Valvular Heart Disease, and Congenital Heart Disease. Oxford University Press, 2012. http://dx.doi.org/10.1093/med/9780199755691.003.0042.

Повний текст джерела
Анотація:
Despite tremendous technologic advances in medical testing and imaging, physicians must be able to assess patients accurately at the bedside; this assessment allows appropriate, cost-effective, and efficient ordering of tests. Part I of this chapter outlines the salient features of a thorough physical examination, cardiac imaging techniques, and valvular and congenital heart disease. A thorough physical examination includes assessment of jugular venous pressure, arterial pulses, apical impulses, additional cardiac palpitations, and appropriate imaging techniques. Cardiac imaging techniques include contrast angiography, echocardiography, radionuclide imaging, magnetic resonance imaging, electron beam computed tomography and positron emission tomography. Different types of valvular and congenital heart disease are examined.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Також вас можуть зацікавити добірки на тему "Electron-beam technologies" для інших типів джерел:
Статті в журналах Дисертації
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!

До бібліографії