Готові списки джерел за темами / Elaboration des couches minces / Статті в журналах
Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Elaboration des couches minces.

Статті в журналах з теми "Elaboration des couches minces"

Автор: Grafiati
Опубліковано: 19 квітня 2025

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-50 статей у журналах для дослідження на тему "Elaboration des couches minces".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте статті в журналах для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

Azzoug, Asma. "Elaboration et caractérisation des couches minces d'oxyde de cuivre : Application à la photo-dégradation de Méthyle Orange." Journal of Physical & Chemical Research 1, no. 1 (June 1, 2022): 57–71. http://dx.doi.org/10.58452/jpcr.v1i1.32.

Повний текст джерела
Анотація:
Dans ce travail nous avons étudié l’effet du temps de déposition sur lesdifférentes propriétés des couches minces d’oxyde de cuivre. En premierlieu nous avons élaboré des films minces de Cu 2O par électrodéposition surun substrat ITO dans un milieu sulfate à température fixé de T=60° et unpotentiel imposé de - 0.5V/ECS. En second lieu les couches minces del’oxyde de cuivre (Cu 2O/ITO) ont subi un traitement thermique àtempérature de 500 °C pendant 1h pour obtenir des films mince nomméCuO/ITO. Les couches minces déposées ont été caractérisées par ladiffraction du rayon X (DRX), la microscopie à force atomique (AFM), lemicroscope électronique à balayage (MEB) et la spectroscopie UV-Vis.L’activité photocatalytique des films Cu 2O et CuO a été étudiée au moyende la dégradation du méthyl orange (MO) sous irradiation directe de rayonsUV. Les propriétés photocalytique montrent des meilleures vitesses dedégradation avec une constante de vitesse de l’ordre 0,00087 min -1 pourCu2O et 0.0025 min-1 pour CuO.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

Garry, G. "Elaboration de couches minces supraconductrices Y1Ba2CU3O7 par pulverisation magnetron r.f." Journal de Physique III 1, no. 2 (February 1991): 305–12. http://dx.doi.org/10.1051/jp3:1991110.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

Rouhabi, C., T. Besombes, R. P. Tan, F. Guerin, C. Capello, F. Gessinn, G. Benassayag, A. Claverie, X. Hebras, and M. Respaud. "Elaboration de couches minces de Silicium sur isolant (SOI) par le procédé Smart-CutTM." J3eA 16 (2017): 1011. http://dx.doi.org/10.1051/j3ea/20171011.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

Deschanvres, J. L., B. Bochu, and J. C. Joubert. "Elaboration par le procédé pyrosol de couches minces texturées de ZnO pour la réalisation de microcapteurs." Journal de Physique III 4, no. 7 (July 1994): 1243–51. http://dx.doi.org/10.1051/jp3:1994199.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

Mennad, Abdelkader. "Les techniques de dépôt de couches minces et leurs applications." Journal of Renewable Energies 18, no. 4 (October 18, 2023): 713–19. http://dx.doi.org/10.54966/jreen.v18i4.541.

Повний текст джерела
Анотація:
Plusieurs techniques de dépôt de couches minces sont développées, mais leurs applications peuvent être conditionnées par des conditions opératoires ou restreintes à une surface réduite de substrat. La technique ALD ‘Atomic Layer Deposition’ est une option idéale pour effectuer des dépôts de couches minces dans des conditions de température plus douce et de contrôle d’épaisseur de couches sur des substrats de grande surface. Elle peut être utilisée pour des applications variées en comparaison aux autres techniques.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

Abderrahmane, Abdelkader, Messaoud Kermiche, Samah Adjmi, and Chewki Zegadi. "Réalisation d’un appareil de SILAR pour la déposition des nano couches des matériaux chalcogénures pour les cellules solaires." Journal of Renewable Energies 19, no. 4 (October 17, 2023): 567–74. http://dx.doi.org/10.54966/jreen.v19i4.595.

Повний текст джерела
Анотація:
Cet article représente la réalisation d’un appareillage fonctionnant automatiquement pour l'élaboration des nano couches par la technique 'Successive Ionic Layer Adsorption and Reaction', SILAR–Successive Adsorption Ionique des Couches et Réaction–. La technique SILAR est une technique innovante et économique. Elle consiste à l’immersion successive d’un substrat dans des solutions de composés hydrolysables. Dans ce contexte, nous avons réussi à l’élaboration de plusieurs composés qui sont utilisés dans la construction des cellules solaires. Nos résultats montrent que les couches minces obtenues sont homogènes et uniformes, leurs épaisseurs peuvent être contrôlés avec précision de quelques nanomètres. L’appareil fabriqué est prometteur et fiable pour l’application dans le domaine des couches minces pour cellules solaires.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
7

Daviéro, S., C. Avinens, A. Ibanez, J. C. Giuntini, and E. Philippot. "Couches minces diélectriques de phosphate d'aluminium." Journal de Physique III 3, no. 4 (April 1993): 745–56. http://dx.doi.org/10.1051/jp3:1993160.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
8

Broll, N., V. Dontenwill, and E. Zeh. "Analyse de couches minces. Rendement d'excitation." Le Journal de Physique IV 06, no. C4 (July 1996): C4–659—C4–665. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:1996463.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
9

Marty, A., and S. Andrieu. "Croissance et structure des couches minces." Le Journal de Physique IV 06, no. C7 (November 1996): C7–3—C7–11. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:1996701.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
10

Catherinot, A., B. Angleraud, J. Aubreton, C. Champeaux, C. Germain, and C. Girault. "Dépôt de couches minces par photoablation." Annales de Physique 19 (October 1994): C1–237—C1–244. http://dx.doi.org/10.1051/anphys/1994055.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
11

Chicot, D., and J. Lesage. "Dureté des matériaux déposés en couches minces." Matériaux & Techniques 82, no. 10 (1994): 19–23. http://dx.doi.org/10.1051/mattech/199482100019.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
12

Manzerolles, P., F. Gregoire, R. Morancho, A. Reynes, and N. Sefiani. "Precurseurs organometalliques de couches minces amorphes semiconductrices." Journal of Organometallic Chemistry 328, no. 1-2 (July 1987): 49–59. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-328x(00)99766-3.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
13

Mouchart, Jacques. "Isoréflectance des dépôts optiques en couches minces." Comptes Rendus de l'Académie des Sciences - Series IIB - Mechanics-Physics-Chemistry-Astronomy 326, no. 6 (June 1998): 385–92. http://dx.doi.org/10.1016/s1251-8069(98)80417-x.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
14

Khelifi, M., M. Mejatty, J. Berrehar, and H. Bouchriha. "Effet photovoltaïque dans des couches minces de phtalocyanines." Revue de Physique Appliquée 20, no. 7 (1985): 511–21. http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:01985002007051100.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
15

Bourezg, R., G. Couturier, and J. Salardenne. "Élaboration par CVD de WSe2 en couches minces." Journal de Chimie Physique 88 (1991): 2021–30. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/1991882021.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
16

Mouchart, J., J. Begel, and S. Chalot. "Stabilisation Spectrale Des Dépôts Optiques en Couches Minces." Journal of Modern Optics 34, no. 10 (October 1987): 1297–325. http://dx.doi.org/10.1080/09500348714551181.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
17

Thériault, Jean-Marc, and Germain Boivin. "Modèle quantitatif pour l'étude des couches minces diffusantes." Canadian Journal of Physics 66, no. 5 (May 1, 1988): 390–95. http://dx.doi.org/10.1139/p88-064.

Повний текст джерела
Анотація:
The phenomenon of light scattering by dielectric thin films is studied by a photometric analysis method. This method is based on an empirical model of the diffusing film and has been validated using lead iodide. The model is presented here together with the analysis results that made it possible (i) to establish a precise microstructure for the films and (ii) to study the evolution of the microstructure via the thickness of the films. [Translated by the journal]
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
18

Augie, D., M. Belhadji, and P. Vigier. "Contraintes internes de couches minces Ni-Ag amorphes." physica status solidi (a) 96, no. 1 (July 16, 1986): K5—K8. http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2210960146.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
19

Cros, B., E. Gat, J. Durand, and L. Cot. "Matériaux céramiques déposés en couches minces par plasma CVD." Journal de Physique III 3, no. 4 (April 1993): 729–44. http://dx.doi.org/10.1051/jp3:1993159.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
20

Lincot, Daniel, and Jean-François Guillemoles. "Cellules solaires en couches minces à base de CuInSe2." Reflets de la physique, no. 5 (July 2007): 16–19. http://dx.doi.org/10.1051/refdp/2007060.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
21

Bourée, Jean-Éric, and Pere Roca i Cabarrocas. "Cellules solaires en couches minces à base de silicium." Reflets de la physique, no. 6 (October 2007): 12–15. http://dx.doi.org/10.1051/refdp/2007062.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
22

Ammari, Habib, and Chiraz Latiri-Grouz. "Conditions aux limites approchées pour les couches minces périodiques." ESAIM: Mathematical Modelling and Numerical Analysis 33, no. 4 (July 1999): 673–92. http://dx.doi.org/10.1051/m2an:1999157.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
23

Mouchart, Jacques, Jacqueline Begel, and Claudy Clement. "Réflectance Spectrale Minimale des Dépôts Optiques en Couches Minces." Journal of Modern Optics 38, no. 12 (December 1991): 2371–92. http://dx.doi.org/10.1080/09500349114552531.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
24

Guilloux-Viry, M., and A. Perrin. "Couches minces supraconductrices à haute température critique pour l'électronique." European Physical Journal Applied Physics 3, no. 2 (August 1998): 141–47. http://dx.doi.org/10.1051/epjap:1998216.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
25

Orain, S., Y. Scudeller, and T. Brousse. "Mesure de la conductivité thermique des couches minces d’oxyde." Revue de Métallurgie 96, no. 5 (May 1999): 667–76. http://dx.doi.org/10.1051/metal/199996050667.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
26

Courjal, Nadège, Florent Behague, Vincent Pêcheur, Mathieu Chauvet, Maria-Pilar Bernal, and Jérôme Hauden. "Microsystèmes intégrés en niobate de lithium." Photoniques, no. 98 (September 2019): 34–38. http://dx.doi.org/10.1051/photon/20199834.

Повний текст джерела
Анотація:
Le niobate de lithium (LiNbO3) suscite un vif intérêt en photonique depuis des décennies en raison de ses fortes propriétés électro-optiques et non-linéaires. L’opportunité récente de l’usiner en couches minces a élargi le spectre des applications déjà nombreuses du matériau. Les enjeux actuels concernent la miniaturisation des composants tout en préservant de faibles pertes optiques.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
27

Schmutz, C., E. Basset, and P. Barboux. "Couches minces de phosphates de titane par voie sol-gel." Journal de Physique III 3, no. 4 (April 1993): 757–66. http://dx.doi.org/10.1051/jp3:1993161.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
28

Bernede, J. C., N. Manai, M. Kettaf, M. Spiesser, and G. Goureaux. "Réalisation et caractérisation de couches minces de dichalcogénure de molybdène." Revue de Physique Appliquée 25, no. 4 (1990): 339–46. http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:01990002504033900.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
29

Athouël, L., Y. Pelous, G. Froyer, G. Louarn, and S. Lefrant. "Étude de l’oxydation par AsF5 de couches minces de parasexiphényle." Journal de Chimie Physique 89 (1992): 1285–90. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/1992891285.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
30

De Backer, M. G., F. X. Sauvage, B. Van Vlierberge, M. Z. Yang, and A. Chapput. "Étude spectroélectrochimique de couches minces de colorants déposés sur électrodes." Journal de Chimie Physique 84 (1987): 915–19. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/1987840915.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
31

Carchano, H., F. Lalande, and R. Loussier. "Dépôt de couches minces d'AsGa polycrystallin par pulvérisation cathodique r.f." Thin Solid Films 135, no. 1 (January 1986): 107–13. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(86)90093-3.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
32

Nissim, Y. I., J. Flicstein, Y. Vitel, O. Dulac, C. Debauche, and C. Licoppe. "Source VUV pour les dépots photochimiques de couches minces diélectriques." Annales de Physique 19 (October 1994): C1–229—C1–236. http://dx.doi.org/10.1051/anphys/1994054.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
33

Bernègde, J. C., A. Mallouky, and J. Pouzet. "Etude de la résistivité de couches minces polycristallines de MoSe2." Physica Status Solidi (a) 111, no. 1 (January 16, 1989): 181–91. http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2211110119.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
34

Belgacem, S., and R. Bennaceur. "Propriétés optiques des couches minces de SNO2 et CuInS2 airless spray." Journal de Physique III 1, no. 5 (May 1991): 827. http://dx.doi.org/10.1051/jp3:1991158.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
35

Dang Tran Quan, A. Le Bloa, H. Hbib, O. Bonnaud, J. Meinnel, A. Quemerais, and R. Marchand. "Couches minces d'oxynitrure de phosphore. Application aux structures MIS sur InP." Revue de Physique Appliquée 24, no. 5 (1989): 545–51. http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:01989002405054500.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
36

Belgacem, S., and R. Bennaceur. "Propriétés optiques des couches minces de SnO2 et CuInS2 airless spray." Revue de Physique Appliquée 25, no. 12 (1990): 1245–58. http://dx.doi.org/10.1051/rphysap:0199000250120124500.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
37

Basillais, A., R. Benzerga, E. Le Menn, J. Mathias, C. Boulmer-Leborgne, and J. Perrière. "Diagnostic du plasma d'ablation laser pour la croissance de couches minces." Journal de Physique IV (Proceedings) 108 (June 2003): 29–32. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:20030589.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
38

Lequime, Michel. "Matériaux en couches minces : des corps purs composés aux méta-matériaux." Photoniques, no. 69 (January 2014): 35–39. http://dx.doi.org/10.1051/photon/20146935.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
39

Khéfacha, Zoubeida, Mohamed Mnari, and Mohamed Dachraoui. "Caractérisation des couches minces de Cd1–xZnxS préparées par dépôt chimique." Comptes Rendus Chimie 5, no. 3 (March 2002): 149–55. http://dx.doi.org/10.1016/s1631-0748(02)01355-3.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
40

Athouël, L., MT Riou, G. Froyer, G. Louarn, S. Lefrant, A. Siove, and C. Chevrot. "Caractérisation de couches minces de parasexiphényle déposé par évaporation sous vide." Journal de Chimie Physique 89 (1992): 1271–77. http://dx.doi.org/10.1051/jcp/1992891271.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
41

Arrazat, B., V. Mandrillon, and K. Inal. "Nano indentation de couches dures ultra minces de ruthénium sur or." Matériaux & Techniques 99, no. 2 (2011): 245–52. http://dx.doi.org/10.1051/mattech/2011031.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
42

CROS, B., H. CAMON, Y. BROCHETON, J. P. GONCHOND, A. TISSIER, J. L. BALLADORE, and M. RIBES. "CARACTÉRISATION DE COUCHES MINCES DE VERRES DE CHALCOGENURE PRÉPARÉES PAR PECVD." Le Journal de Physique Colloques 50, no. C5 (May 1989): C5–343—C5–351. http://dx.doi.org/10.1051/jphyscol:1989541.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
43

Mabrouk, Mongi, and Hassan Samadi. "Problèmes linéaires et semi-linéaires de renforcement par des couches minces." Comptes Rendus de l'Académie des Sciences - Series I - Mathematics 329, no. 8 (October 1999): 747–52. http://dx.doi.org/10.1016/s0764-4442(00)88229-4.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
44

Butto, C., J. Berty, and Ch Bonnafous. "Texture propriétés électriques de couches minces de bismuth dopé au plomb." Thin Solid Films 190, no. 1 (September 1990): 1–7. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(90)90125-w.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
45

Juhel, M., and P. Juliet. "Traitement par laser pulse de couches minces d'al deposees sur acier." Scripta Metallurgica et Materialia 24, no. 6 (June 1990): 1045–49. http://dx.doi.org/10.1016/0956-716x(90)90297-t.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
46

Antoni, F., E. Fogarassy, C. Fuchs, B. Prévot, and J. P. Stoquert. "Couches minces de Si1-xGex déposées par la technique d'ablation laser." Annales de Physique 19 (October 1994): C1–39—C1–40. http://dx.doi.org/10.1051/anphys/1994008.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
47

Bernard, C., J. N. Barbier, M. Pons, and R. Madar. "Thermodynamique et transport de matière : vers la CAO des couches minces." Revue de Métallurgie 90, no. 9 (September 1993): 1095. http://dx.doi.org/10.1051/metal/199390091095.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
48

Leroy, E., C. Djega-Mariadassou, G. Cizeron, H. Bernas, O. Kaitasov, M. O. Ruault, and R. Krishnan. "Paramètres hyperfins de couches minces de fer implantées en ions azote." Revue de Métallurgie 91, no. 9 (September 1994): 1254. http://dx.doi.org/10.1051/metal/199491091254.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
49

Adam, Guillaume, Anne Souchon, Michael Delay, Elizabeth Bernhardt, and Xavier Elbaz. "Filtres spectraux pour le multiplexage de fluorescence." Photoniques, no. 111 (November 2021): 56–60. http://dx.doi.org/10.1051/photon/202111156.

Повний текст джерела
Анотація:
Les progrès constants de la technologie de dépôt de couches minces au cours des dernières décennies ont permis la production de filtres optiques multibandes haute performance, répondant ainsi à la demande croissante d'instruments de fluorescence multispectraux. Bien qu'il existe maintenant une large gamme de filtres standards conçus pour une grande variété de fluorophores, la sélection de filtres appropriés est souvent un processus complexe. Nous présentons ici les caractéristiques techniques à considérer pour la conception d'un tel système multiplexe.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
50

Mechri, Charfeddine, Pascal Ruello, Jean-Marc Breteau, Mikhail Baklanov, Patrick Verdonck, and Vitaly Gusev. "Profilométrie des propriétés élastiques de couches minces transparentes par interférométrie acoustique ultrarapide." Instrumentation Mesure Métrologie 10, no. 1-2 (June 28, 2010): 155–73. http://dx.doi.org/10.3166/i2m.10.1-2.155-173.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Також вас можуть зацікавити добірки на тему "Elaboration des couches minces" для інших типів джерел:
Дисертації Книги
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!

До бібліографії