Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Computational fabrication.

Книги з теми "Computational fabrication"

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-29 книг для дослідження на тему "Computational fabrication".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

Saravanos, D. A. Optimal fabrication processes for unidirectional metal-matrix composites: A computational simulation. [Washington, D.C.]: NASA, 1990.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

Mönch, Lars. Production Planning and Control for Semiconductor Wafer Fabrication Facilities: Modeling, Analysis, and Systems. New York, NY: Springer New York, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

ZHOU, Hong, and Jiangchao WANG. FE Computation on Accuracy Fabrication of Ship and Offshore Structure Based on Processing Mechanics. Singapore: Springer Singapore, 2021. http://dx.doi.org/10.1007/978-981-16-4087-2.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

Proceedings of the 1st Annual ACM Symposium on Computational Fabrication. Association for Computing Machinery, 2017.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

Gray, T., N. McPherson, and D. Camilleri. Control of Welding Distortion in Thin-Plate Fabrication: Design Support Exploiting Computational Simulation. Elsevier Science & Technology, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

Control of Welding Distortion in Thin-Plate Fabrication: Design Support Exploiting Computational Simulation. Elsevier Science & Technology, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
7

Gray, T., N. McPherson, and D. Camilleri. Control of Welding Distortion in Thin-Plate Fabrication: Design Support Exploiting Computational Simulation. Elsevier Science & Technology, 2017.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
8

Computational Intelligence In Manufacturing Handbook. London: Taylor and Francis, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
9

Sun, Tongyue, Keke Li, Philip F. Yuan, Chao Yan, and Hua Chai. Hybrid Intelligence: Proceedings of the 4th International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer, 2023.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
10

Sun, Tongyue, Keke Li, Philip F. Yuan, Chao Yan, and Hua Chai. Hybrid Intelligence: Proceedings of the 4th International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer, 2023.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
11

Phygital Intelligence: Proceedings of the 5th International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer, 2024.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
12

Phygital Intelligence: Proceedings of the 5th International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer, 2024.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
13

Proceedings of the 2021 DigitalFUTURES: The 3rd International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer Singapore Pte. Limited, 2021.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
14

Proceedings of the 2021 DigitalFUTURES: The 3rd International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer Singapore Pte. Limited, 2021.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
15

Yao, Jiawei, Philip F. Yuan, Yi Min (Mike) Xie, and Chao Yan. Proceedings of the 2019 DigitalFUTURES: The 1st International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer, 2020.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
16

Leach, Neil, Jiawei Yao, Xiang Wang, Philip F. Yuan, and Mike Xie. Architectural Intelligence: Selected Papers from the 1st International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer Singapore Pte. Limited, 2020.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
17

Yao, Jiawei, Philip F. Yuan, Yi Min (Mike) Xie, and Chao Yan. Proceedings of the 2019 DigitalFUTURES: The 1st International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer, 2019.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
18

Leach, Neil, Jiawei Yao, Xiang Wang, Philip F. Yuan, and Chao Yan. Proceedings of the 2020 DigitalFUTURES: The 2nd International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer Singapore Pte. Limited, 2021.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
19

Architectural Intelligence: Selected Papers from the 1st International Conference on Computational Design and Robotic Fabrication. Springer Singapore Pte. Limited, 2021.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
20

Shiraishi, K., and T. Nakayama. Role of computational sciences in Si nanotechnologies and devices. Edited by A. V. Narlikar and Y. Y. Fu. Oxford University Press, 2017. http://dx.doi.org/10.1093/oxfordhb/9780199533060.013.1.

Повний текст джерела
Анотація:
This article discusses the role of computational sciences in the fabrication of silicon nanotechnologies and devices, with particular emphasis on new scientific findings that offer great insight into such devices. It first considers how the present Si technology trend is stimulated by scientific knowledge, focusing on the potential of complimentary metaloxide semiconductor (CMOS) technology and the importance of understanding the atomisticprocess of Si thermal oxidation. It then discusses key knowledge for Si nanodevices obtainedby computational science, paying attention to the microscopic process of Si oxidation and the curious properties of high-k gate dielectrics. It also describes the possibility of Si nanowire channels as an example of computational-science-guided channel engineering and concludes with an assessment of the future trend of Si nanotechnologies driven by computational science, including Si nanowires, GaAs nanoWires, and carbon nanotubes.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
21

Mönch, Lars, John W. Fowler, and Scott J. Mason. Production Planning and Control for Semiconductor Wafer Fabrication Facilities: Modeling, Analysis, and Systems. Springer New York, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
22

Mönch, Lars, John W. Fowler, and Scott J. Mason. Production Planning and Control for Semiconductor Wafer Fabrication Facilities: Modeling, Analysis, and Systems. Springer, 2012.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
23

Mönch, Lars, John W. Fowler, and Scott J. Mason. Production Planning and Control for Semiconductor Wafer Fabrication Facilities: Modeling, Analysis, and Systems. Springer, 2012.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
24

Robotics and Autonomous Systems 1: Integrated Approaches to Fabrication, Computation, and Architectural Design. Antique Collectors' Club, 2024.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
25

ZHOU, Hong, and Jiangchao WANG. FE Computation on Accuracy Fabrication of Ship and Offshore Structure Based on Processing Mechanics. Springer, 2022.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
26

Hong, Zhou, and Wang Jiangchao. FE Computation on Accuracy Fabrication of Ship and Offshore Structure Based on Processing Mechanics. Springer Singapore Pte. Limited, 2021.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
27

NanoScience & Technology Inst (NSTI). Nanotechnology 2013: Electronic Devices, Fabrication, MEMS, Fluidics and Computation Technical Proceedings of the 2013 NSTI Nanotechnology Conference and Expo. Taylor & Francis Group, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
28

NanoScience & Technology Inst (NSTI). Nanotechnology 2013: Electronic Devices, Fabrication, MEMS, Fluidics and Computation Technical Proceedings of the 2013 NSTI Nanotechnology Conference and Expo. Taylor & Francis Group, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
29

NanoScience & Technology Inst (NSTI). Nanotechnology 2012 : Electronics, Devices, Fabrication, MEMS, Fluidics and Computation: Technical Proceedings of the 2012 NSTI Nanotechnology Conference and Expo. Taylor & Francis Group, 2012.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!

До бібліографії