Готові списки джерел за темами / Advance Device Applications / Книги

Книги з теми "Advance Device Applications"

Щоб переглянути інші типи публікацій з цієї теми, перейдіть за посиланням: Advance Device Applications.
Автор: Grafiati
Опубліковано: 7 вересня 2023

Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями

Оберіть тип джерела:

Ознайомтеся з топ-50 книг для дослідження на тему "Advance Device Applications".

Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.

Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.

Переглядайте книги для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.

1

Mitra, Dutta, and Stroscio Michael A. 1949-, eds. Advanced semiconductor heterostructures: Novel devices, potential device applications and basic properties. Singapore: World Scientific, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
2

Sharma, Ashok K. Advanced semiconductor memories: Architectures, designs, and applications. Piscataway, NJ: IEEE Press, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
3

Photographic Science: Advances in Nanoparticles, J-aggregates, Dye Sensitization, and Organic Devices. Oxford: Oxford University Press, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
4

R, Dunker, ed. Advances in techniques for engine applications. Chichester: Wiley, 1994.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
5

Engineers, Society of Automotive, and SAE International Spring Fuels & Lubricants Meeting and Exposition (2000 : Paris, France), eds. Advanced emissions aftertreatment for gasoline applications. Warrendale, Pa: Society of Automotive Engineers, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
6

Inamuddin. Advanced organic-inorganic composites: Materials, devices, and allied applications. Hauppauge, N.Y: Nova Science Publisher, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
7

Kouzaev, Guennadi A. Applications of Advanced Electromagnetics: Components and Systems. Berlin, Heidelberg: Springer Berlin Heidelberg, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
8

W, Ruppel Clemens C., and Fjeldly Tor A, eds. Advances in surface acoustic wave technology, systems, and applications. Singapore: World Scientific, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
9

Yu, Francis T. S., 1932-, Guo Ruyan, Yin Shizhuo 1963-, and SPIE (Society), eds. Photonic fiber and crystal devices: Advances in materials and innovations in device applications : 26-27 August 2007, San Diego, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
10

Kulawski, Martin. Advanced CMP processes for special substrates and for device manufacturing in MEMS applications. [Espoo, Finland]: VTT Technical Research Centre of Finland, 2006.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
11

Guo, Ruyan. Photonic fiber and crystal devices: Advances in materials and innovations in device applications III : 2-5 August 2009, San Diego, California, United States. Bellingham, Wash: SPIE, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
12

Guo, Ruyan. Photonic fiber and crystal devices: Advances in materials and innovations in device applications III : 2-5 August 2009, San Diego, California, United States. Edited by SPIE (Society). Bellingham, Wash: SPIE, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
13

Carreras, Richard A. Advanced wavefront control: Methods, devices, and applications V : 29-30 August 2007, San Diego, California, USA. Edited by Society of Photo-optical Instrumentation Engineers. Bellingham, Wash: SPIE, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
14

Diego, Calif ). Photonic Fiber and Crystal Devices: Advances in Materials and Innovations in Device Applications (Conference) (7th 2013 San. Photonic Fiber and Crystal Devices: Advances in Materials and Innovations in Device Application VII: 25-26 August 2013, San Diego, California, United States. Bellingham, Washington, USA: SPIE, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
15

Topical Meeting on Advanced Semiconductor Lasers and Their Applications (1999 Santa Barbara, California). Advanced semiconductor lasers and their applications: From the Topical Meeting on Advanced Semiconductor Lasers and Their Applications, July 21-23, 1999, Santa Barbara, California. Washington, DC: Optical Society of America, 2000.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
16

D, Gonglewski John, Gruneisen Mark Tyree 1958-, Giles Michael K, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., and Geological Society of America, eds. Advanced wavefront control: Methods, devices and applications II : 2-3 August, 2004, Denver, Colorado, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2004.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
17

(Society), SPIE, ed. Advanced wavefront control: Methods, devices, and applications VI : 14 August 2008, San Diego, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2008.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
18

Janis, Spigulis, Latvijas universitāte. Cietvielu fizikas institūts., European Commission, and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Advanced optical devices, technologies, and medical applications: 19-22 August 2002, Riga, Latvia. Bellingham, Wash., USA: SPIE, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
19

name, No. Advanced optical devices, technologies, and medical applications: 19-22 August, 2002, Riga, Latvia. Bellingham, Wash: SPIE, 2003.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
20

(Society), SPIE, ed. Advanced wavefront control: Methods, devices, and applications VII : 6 August 2009, San Diego, California, United States. Bellingham, Wash: SPIE, 2009.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
21

K, Giles Michael, Gonglewski John D, Carreras Richard A, and Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., eds. Advanced wavefront control: Methods, devices and applications IV : 14-15 August, 2006, San Diego, California, USA. Bellingham, Wash: SPIE, 2006.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
22

Dayton, David C., Troy Allen Rhoadarmer, and Darryl J. Sanchez. Advanced wavefront control: Methods, devices, and applications VIII : 2 and 5 August 2010, San Diego, California, United States. Edited by SPIE (Society). Bellingham, Wash: SPIE, 2010.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
23

A, Vaseashta, Dimova-Malinovska D, and Marshall J. M, eds. Nanostructured and advanced materials for applications in sensor, optoelectronic and photovaltaic technology. Dordrecht: Springer, 2005.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
24

Iniewski, Krzysztof, and James W. M. Chon. Nanoplasmonics: Advanced Device Applications. Taylor & Francis Group, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
25

Iniewski, Krzysztof, and James W. M. Chon. Nanoplasmonics: Advanced Device Applications. Taylor & Francis Group, 2017.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
26

Nanoplasmonics Advanced Device Applications. CRC Press, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
27

Iniewski, Krzysztof, and James W. M. Chon. Nanoplasmonics: Advanced Device Applications. Taylor & Francis Group, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
28

Iniewski, Krzysztof, and James W. M. Chon. Nanoplasmonics: Advanced Device Applications. Taylor & Francis Group, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
29

Chon, James W. Nanoplasmonics: Advanced Device Applications. Taylor & Francis Group, 2013.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
30

Iniewski, Krzysztof, and James W. M. Chon. Nanoplasmonics: Advanced Device Applications. Taylor & Francis Group, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
31

Dutta, Mitra, and Michael A. Stroscio, eds. Advanced Semiconductor Heterostructures - Novel Devices, Potential Device Applications and Basic Properties. World Scientific Publishing Co. Pte. Ltd., 2003. http://dx.doi.org/10.1142/9789812775542.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
32

Advanced semiconductor heterostructures: Novel devices, potential device applications and basic properties. Singapore: World Scientific, 2004.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
33

Heithaus, Robert Evans, Almas Syed, and Chet R. Rees. Slow and Steady Method for Advancing Devices Through Tight or Tortuous Anatomy. Edited by S. Lowell Kahn, Bulent Arslan, and Abdulrahman Masrani. Oxford University Press, 2018. http://dx.doi.org/10.1093/med/9780199986071.003.0059.

Повний текст джерела
Анотація:
Advancing vascular sheaths, catheters, balloons, stent grafts, or drainage catheters can prove difficult in tight or tortuous anatomy, leading to prolonged procedure and fluoroscopy time. Overcoming the static forces of friction requires greater magnitude of force compared to the kinetic forces of friction. Static forces of friction can result in catheter or device kinking, particularly in tight or tortuous anatomy. By applying slow, steady force (as opposed to multiple isolated applications of force) in a manner described in this chapter, one can advance a device in a slow and steady manner, thus reducing the amount of pain, tissue damage, and potentially fluoroscopy time.
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
34

Lee, Sanghyun, ed. Advanced Material and Device Applications with Germanium. InTech, 2018. http://dx.doi.org/10.5772/intechopen.73146.

Повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
35

Guo, Ruyan, and Shizhuo Yin. Photonic Fiber and Crystal Devices: Advances in Materials and Innovations in Device Applications VIII. SPIE, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
36

Guo, Ruyan, and Shizhuo Yin. Photonic Fiber and Crystal Devices: Advances in Materials and Innovations in Device Applications IX. SPIE, 2015.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
37

Guo, Ruyan, and Shizhuo Yin. Photonic Fiber and Crystal Devices: Advances in Materials and Innovations in Device Applications XI. SPIE, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
38

Guo, Ruyan, and Shizhuo Yin. Photonic Fiber and Crystal Devices: Advances in Materials and Innovations in Device Applications V. SPIE, 2011.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
39

Guo, Ruyan, and Shizhuo Yin. Photonic Fiber and Crystal Devices: Advances in Materials and Innovations in Device Applications X. SPIE, 2017.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
40

Dai, Liming, Wen Lu, and Jong-Beom Baek. Carbon Nanomaterials for Advanced Energy Systems: Advances in Materials Synthesis and Device Applications. Wiley & Sons, Incorporated, John, 2015.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
41

Carbon Nanomaterials For Advanced Energy Systems Advances In Materials Synthesis And Device Applications. John Wiley & Sons Inc, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
42

Dai, Liming, Wen Lu, and Jong-Beom Baek. Carbon Nanomaterials for Advanced Energy Systems: Advances in Materials Synthesis and Device Applications. Wiley & Sons, Limited, John, 2015.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
43

Dai, Liming, Wen Lu, and Jong-Beom Baek. Carbon Nanomaterials for Advanced Energy Systems: Advances in Materials Synthesis and Device Applications. Wiley & Sons, Incorporated, John, 2015.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
44

MANJUNATHA. Real-Time Applications Advanced Electrhb: Real-Time Applications of Advanced Electrochemical Sensing Devices. Institute of Physics Publishing, 2023.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
45

Kouzaev, Guennadi A. A. Applications of Advanced Electromagnetics: Components and Systems. Springer, 2014.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
46

Advanced Wavefront Control: Methods, Devices, and Applications V. SPIE, 2007.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
47

Schöning, Michael J., and Arshak Poghossian. Label-Free Biosensing: Advanced Materials, Devices and Applications. Springer, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
48

Label-Free Biosensing: Advanced Materials, Devices and Applications. Springer, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
49

Aluf, Ofer. Advance Elements of Optoisolation Circuits: Nonlinearity Applications in Engineering. Springer, 2018.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
50

Aluf, Ofer. Advance Elements of Optoisolation Circuits: Nonlinearity Applications in Engineering. Springer, 2017.

Знайти повний текст джерела
Стилі APA, Harvard, Vancouver, ISO та ін.
Також вас можуть зацікавити добірки на тему "Advance Device Applications" для інших типів джерел:
Статті в журналах Дисертації
Ми пропонуємо знижки на всі преміум-плани для авторів, чиї праці увійшли до тематичних добірок літератури. Зв'яжіться з нами, щоб отримати унікальний промокод!

До бібліографії