Статті в журналах з теми "Фоторезист"
Оформте джерело за APA, MLA, Chicago, Harvard та іншими стилями
Ознайомтеся з топ-32 статей у журналах для дослідження на тему "Фоторезист".
Біля кожної праці в переліку літератури доступна кнопка «Додати до бібліографії». Скористайтеся нею – і ми автоматично оформимо бібліографічне посилання на обрану працю в потрібному вам стилі цитування: APA, MLA, «Гарвард», «Чикаго», «Ванкувер» тощо.
Також ви можете завантажити повний текст наукової публікації у форматі «.pdf» та прочитати онлайн анотацію до роботи, якщо відповідні параметри наявні в метаданих.
Переглядайте статті в журналах для різних дисциплін та оформлюйте правильно вашу бібліографію.
Суханов, Д. А. "ЧЕРНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ - НОВЫЕ ВОЗМОЖНОСТИ ДЛЯ ПРОЦЕССА ФОТОЛИТОГРАФИИ НА ПРОИЗВОДСТВЕ УСТРОЙСТВ ФОТОНИКИ И МЭМС". NANOINDUSTRY Russia 13, № 4s (11 вересня 2020): 236–43. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2020.13.4s.236.243.
Повний текст джерелаСуханов, Д. А. "ЧЕРНЫЙ ФОТОРЕЗИСТ - НОВЫЕ ВОЗМОЖНОСТИ ДЛЯ ПРОЦЕССА ФОТОЛИТОГРАФИИ НА ПРОИЗВОДСТВЕ УСТРОЙСТВ ФОТОНИКИ И МЭМС". Nanoindustry Russia 13, № 5s (28 грудня 2020): 246–49. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2020.13.5s.246.249.
Повний текст джерелаЛебедева, Н. М., Т. П. Самсонова, Н. Д. Ильинская, С. И. Трошков та П. А. Иванов. "Формирование SiC-мезаструктур с пологими боковыми стенками cухим селективным травлением через маску из фоторезиста". Журнал технической физики 90, № 6 (2020): 997. http://dx.doi.org/10.21883/jtf.2020.06.49289.12-20.
Повний текст джерелаТихонова, Е. Д. "МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОФИЛЯ ФОТОРЕЗИСТА В ПРОЦЕССЕ САМОСОВМЕЩЕННОГО ДВОЙНОГО ПАТТЕРНИРОВАНИЯ С УЧЕТОМ КОРРЕКЦИИ ПРОБЛЕМЫ ГОРЯЧИХ ТОЧЕК". Nanoindustry Russia 14, № 7s (3 жовтня 2021): 786–87. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2021.14.7s.786.787.
Повний текст джерелаКузнецова, Н. А., Н. В. Малимоненко, М. А. Билданов, Д. А. Варламов та Б. Г. Грибов. "ВЛИЯНИЕ КАТАЛИЗАТОРА ТЕРМООТВЕРЖДЕНИЯ В АНТИОТРАЖАЮЩЕМ ПОКРЫТИИ НА ПРОФИЛЬ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОРЕЗИСТА, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"". Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника, № 4 (2021): 69–71. http://dx.doi.org/10.7868/s2410993221040096.
Повний текст джерелаКузнецова, Н. А., В. И. Беклемышев та Б. Г. Грибов. "ВЛИЯНИЕ ФОТОГЕНЕРАТОРА КИСЛОТЫ В АНТИОТРАЖАЮЩЕМ ПОКРЫТИИ НА ПРОФИЛЬ ЭЛЕМЕНТОВ, ФОРМИРУЕМЫХ В ФОТОРЕЗИСТЕ, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"". Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника, № 4 (2020): 35–37. http://dx.doi.org/10.7868/s2410993220040053.
Повний текст джерелаБринкевич, Д. И., С. Д. Бринкевич, Н. В. Вабищевич, В. Б. Оджаев та В. С. Просолович. "Ионная имплантация позитивных фоторезистов". Микроэлектроника 43, № 3 (2014): 193–99. http://dx.doi.org/10.7868/s0544126914010037.
Повний текст джерелаБринкевич, Д. И., С. Д. Бринкевич, М. Г. Лукашевич, В. С. Просолович, В. Б. Оджаев та Ю. Н. Янковский. "Модификация поверхности позитивного фоторезиста при ионной имплантации". Микроэлектроника 44, № 6 (2015): 448–52. http://dx.doi.org/10.7868/s0544126915060022.
Повний текст джерелаОлешкевич, А. Н., Н. М. Лапчук, В. Б. Оджаев, И. А. Карпович, В. С. Просолович, Д. И. Бринкевич та С. Д. Бринкевич. "Электронная проводимость в имплантированном ионами Р + позитивном фоторезисте". Микроэлектроника 49, № 1 (2020): 58–65. http://dx.doi.org/10.31857/s0544126919060073.
Повний текст джерелаСкиданов, Р. В., О. Ю. Моисеев та С. В. Ганчевская. "Формирование микротурбин методом прямой лазерной записи по фоторезисту". Журнал технической физики 88, № 6 (2018): 888. http://dx.doi.org/10.21883/jtf.2018.06.46021.1795.
Повний текст джерелаБринкевич, С. Д., Д. И. Бринкевич та В. С. Просолович. "Модификация пленок диазохинон-новолачного фоторезиста имплантацией ионов сурьмы". Микроэлектроника 50, № 1 (2021): 36–42. http://dx.doi.org/10.31857/s0544126920060022.
Повний текст джерелаВабищевич, С. А., С. Д. Бринкевич, Н. В. Вабищевич, Д. И. Бринкевич та В. С. Просолович. "Адгезия облученных пленок диазохинонноволачного фоторезиста к монокристаллическому кремнию". Химия высоких энергий 55, № 6 (2021): 461–68. http://dx.doi.org/10.31857/s0023119321060152.
Повний текст джерелаЛебедев, В. И., В. Е. Котомина та С. В. Зеленцов. "Способы увеличения срока службы позитивных фоторезистов". Микроэлектроника 45, № 6 (2016): 448–51. http://dx.doi.org/10.7868/s0544126916060041.
Повний текст джерелаShushpanov, A. N., A. Ya Vasin, V. M. Raykova, and G. G. Gadzhiev. "Ability of Naphthoquinondiazide Photoresists to Exothermic Decomposition." Occupational Safety in Industry, no. 10 (October 2020): 90–96. http://dx.doi.org/10.24000/0409-2961-2020-10-90-96.
Повний текст джерелаПанкратова, А. В., А. А. Крючин, Ю. О. Бородін, Є. В. Беляк та О. В. Пригун. "Дослідження процесу формування мікрорельєфних структур у плівках хрому на основі методу хімічного травлення". Реєстрація, зберігання і обробка даних 23, № 1 (16 березня 2021): 5–14. http://dx.doi.org/10.35681/1560-9189.2021.23.1.235022.
Повний текст джерелаМалимоненко, Н. В., Н. А. Кузнецова, В. И. Беклемышев та Б. Г. Грибов. "ОПТИМИЗАЦИЯ ОПТИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ АНТИОТРАЖАЮЩЕГО ПОКРЫТИЯ В ФОТОЛИТОГРАФИИ". NANOINDUSTRY Russia 13, № 4s (11 вересня 2020): 191–93. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2020.13.4s.191.193.
Повний текст джерелаВолков, П. В., С. В. Зеленцов, С. А. Королёв, А. Ю. Лукьянов, А. И. Охапкин та А. Н. Тропанова. "ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССОВ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА С ПОМОЩЬЮ ОПТИЧЕСКОГО МОНИТОРИНГА, "Микроэлектроника"". Микроэлектроника, № 1 (2017): 44–49. http://dx.doi.org/10.7868/s0544126916060090.
Повний текст джерелаSimonov, O. "THE USE OF MICROWAVE PLASMA TO REMOVE PHOTORESIST DURING GROUP PROCESSING OF SEMICONDUCTOR WAFERS." ELECTRONICS: Science, Technology, Business 2 (2017): 180–84. http://dx.doi.org/10.22184/1992-4178.2017.162.2.180.184.
Повний текст джерелаБринкевич, С. Д., Е. В. Гринюк, Д. И. Бринкевич та В. С. Просолович. "Модификация пленок диазохинон-новолачного фоторезиста за пределами области внедрения ионов В +". Химия высоких энергий 54, № 5 (2020): 377–86. http://dx.doi.org/10.31857/s0023119320050046.
Повний текст джерелаБулгакова, С. А., Д. А. Гурова, С. Д. Зайцев, Е. Е. Куликов, Е. В. Скороходов, М. Н. Торопов, А. Е. Пестов, Н. И. Чхало та Н. Н. Салащенко. "Влияние полимерной матрицы и фотогенератора кислоты на литографические свойства химически усиленного фоторезиста". Микроэлектроника 43, № 6 (2014): 419–28. http://dx.doi.org/10.7868/s0544126914050020.
Повний текст джерелаВайнер, А. Я., К. М. Дюмаев, А. М. Коваленко, Я. Л. Бабушкин, С. А. Кричевская та Г. Р. Лубенский. "Полифенольные производные флуоренсодержащих порфиринов: синтез и позитивные фоторезисты для 22-нанометровой литографии". Доклады Академии наук 468, № 5 (2016): 525–29. http://dx.doi.org/10.7868/s0869565216170151.
Повний текст джерелаБринкевич, Д. И., С. Д. Бринкевич, А. Н. Петлицкий та В. С. Просолович. "Трансформация спектров нарушенного полного внутреннего отражения в процессе сушки диазохинон-новолачного фоторезиста". Микроэлектроника 50, № 4 (2021): 274–80. http://dx.doi.org/10.31857/s0544126921040037.
Повний текст джерелаБринкевич, Д. И., А. А. Харченко, В. С. Просолович, В. Б. Оджаев, С. Д. Бринкевич та Ю. Н. Янковский. "Модификация спектров отражения пленок диазохинон-новолачного фоторезиста при имплантации ионами бора и фосфора". Микроэлектроника 48, № 3 (2019): 235–39. http://dx.doi.org/10.1134/s0544126919020029.
Повний текст джерелаХарченко, А. А., Д. И. Бринкевич, В. С. Просолович, С. Д. Бринкевич, В. Б. Оджаев та Ю. Н. Янковский. "Радиационно-стимулированная трансформация спектров отражения пленок диазохинон-новолачного фоторезиста при имплантации ионов сурьмы". Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, № 6 (2020): 14–18. http://dx.doi.org/10.31857/s1028096020060084.
Повний текст джерелаВабищевич, С. А., С. Д. Бринкевич, Д. И. Бринкевич та В. С. Просолович. "Адгезия к монокристаллическому кремнию пленок диазохинон-новолачного фоторезиста, имплантированных ионами бора и фосфора". Химия высоких энергий 54, № 1 (2020): 54–59. http://dx.doi.org/10.31857/s002311932001012x.
Повний текст джерелаКовивчак, В. С. "Формирование углеродных нановолокон на поверхности фоторезиста под действием мощного ионного пучка наносекундной длительности". Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, № 10 (2021): 97–101. http://dx.doi.org/10.31857/s1028096021100095.
Повний текст джерелаБахадирханов, М. К., Ш. Н. Ибодуллаев, Н. Ф. Зикриллаев та С. В. Ковешников. "Фоторезистор инфракрасного излучения на основе кремния с нанокластерами атомов марганца". Письма в журнал технической физики 47, № 13 (2021): 12. http://dx.doi.org/10.21883/pjtf.2021.13.51114.18582.
Повний текст джерелаДолгополов, В. М., В. В. Одиноков, П. А. Иракин та В. М. Варакин. "Новое оборудование для травления кремниевых структур на пластинах диаметром до 200 мм". NANOINDUSTRY Russia 12, № 5 (6 вересня 2019): 268–74. http://dx.doi.org/10.22184/1993-8578.2019.12.5.268.274.
Повний текст джерелаИванов, П. А., Н. М. Лебедева, Н. Д. Ильинская, Т. П. Самсонова та О. И. Коньков. "Высоковольтные лавинные 4H-SiC диоды с прямой фаской". Физика и техника полупроводников 55, № 4 (2021): 349. http://dx.doi.org/10.21883/ftp.2021.04.50737.9566.
Повний текст джерелаИванов, П. А., Н. М. Лебедева, Н. Д. Ильинская, Т. П. Самсонова та О. И. Коньков. "Высоковольтные лавинные 4H-SiC диоды с прямой фаской". Физика и техника полупроводников 55, № 4 (2021): 349. http://dx.doi.org/10.21883/ftp.2021.04.50737.9566.
Повний текст джерелаI. Z. Indutny, A. A. Kryuchyn, Yu. A. Borodin, V. A. Danko, M. V. Lukanyuk, V. I. Minko, P. E. Shepelyavyi, E. V. Gera та V. M. Rubish. "Оптичний запис мікро- та нанорозмірних рельєфних структур на неорганічних резистах Ge-Se". Реєстрація, зберігання і обробка даних 15, № 4 (8 грудня 2013). http://dx.doi.org/10.35681/1560-9189.2013.15.4.103416.
Повний текст джерелаТИТОВЕЦ, П. А., А. И. САТТАРОВА, А. А. ПИЩЕРКОВ, and Н. С. БЕКУШЕВ. "LOOP ANTENNA WITH A SEMICONDUCTOR ELEMENT." Труды НИИР, no. 3(6) (September 27, 2021). http://dx.doi.org/10.34832/niir.2021.6.3.006.
Повний текст джерела