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1

Pierret, Robert F. Field effect devices. 2a ed. Reading, Mass: Addison-Wesley Pub. Co., 1990.

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2

Baliga, B. Jayant. Advanced power MOSFET concepts. New York: Springer, 2010.

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3

Soclof, Sidney. Metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (MOSFETS): Principles and applications. Boston: Artech House, 1996.

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4

Physics of semiconductor devices. Englewood Cliffs, N.J: Prentice Hall, 1990.

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5

T, Andre Noah, e Simon Lucas M, eds. MOSFETS: Properties, preparations to performance. New York: Nova Science Publishers, 2008.

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6

Korec, Jacek. Low voltage power MOSFETs: Design, performance and applications. New York: Springer, 2011.

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7

Paul, Reinhold. MOS-Feldeffekttransistoren. Berlin: Springer-Verlag, 1994.

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8

Shur, Michael. Physics of semiconductor devices: Software and manual. London: Prentice-Hall, 1990.

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9

Oktyabrsky, Serge, e Peide D. Ye. Fundamentals of III-V semiconductor MOSFETs. New York: Springer, 2010.

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10

Amara, Amara, e Rozeau Olivier, eds. Planar double-gate transistor: From technology to circuit. [Dordrecht?]: Springer, 2009.

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Taylor, B. E. Power Mosfet design. Chichester, W. Sussex, England: Wiley, 1993.

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Tsividis, Yannis. Operation and modeling of the MOS transistor. 3a ed. New York: Oxford University Press, 2010.

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Tsividis, Yannis. Operation and modeling of the MOS transistor. 3a ed. New York: Oxford University Press, 2010.

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Tsividis, Yannis. Operation and modeling of the MOS transistor. 3a ed. New York: Oxford University Press, 2011.

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Baliga, Jayant. Silicon RF power MOSFETs. Singapore: World Scientific, 2005.

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16

Silicon RF power MOSFETS. Singapore: World Scientific, 2005.

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Cherem, Schneider Márcio, ed. MOSFET modeling for circuit analysis and design. Singapore: World Scientific, 2007.

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Quantum-mechanical modeling of transport parameters for MOS devices. Konstanz: Hartnung-Gorre, 2006.

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19

Jürgen, Mattausch Hans, e Ezaki Tatsuya, eds. The physics and modeling of MOSFETS: Surface-potential model HiSIM. Singapore: World Scientific, 2008.

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20

Schroder, Dieter K. Advanced MOS devices. Reading, Mass: Addison-Wesley Pub. Co., 1987.

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21

Schroder, Dieter K. Advanced MOS devices. Reading, Mass: Addison-Wesley Pub. Co., 1990.

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22

Warner, R. M. MOSFET theory and design. New York: Oxford University Press, 1999.

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23

1952-, Chattopadhyay Swapan, e Bera L. K, eds. Strained-Si heterostructure field effect devices. New York: Taylor & Francis, 2007.

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Saijets, Jan. MOSFET RF characterization using bulk and SOI CMOS technologies. [Espoo, Finland]: VTT Technical Research Centre of Finland, 2007.

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25

Hänsch, W. The drift diffusion equation and its applications in MOSFET modeling. Wien: Springer-Verlag, 1991.

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Hänsch, W. The drift diffusion equation and its applications in MOSFET modeling. Wien: Springer-Verlag, 1991.

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27

Center, Lewis Research, ed. Analog synthesized fast-variable linear load. Brook Park, Ohio: Sverdrup Technology, Inc., Lewis Research Center Group, 1991.

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Center, Lewis Research, ed. Analog synthesized fast-variable linear load. Brook Park, Ohio: Sverdrup Technology, Inc., Lewis Research Center Group, 1991.

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Wikström, Mats Olaf Tobias. MOS-controlled switches for high-voltage application. Konstanz: Hartung-Gorre, 2001.

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30

Wilson, C. L. MOS1: A program for two-dimensional analysis of Si MOSFETs. Gaithersburg, Md: U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards, 1985.

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31

Hisham, Haddara, ed. Characterization methods for submicron MOSFETs. Boston: Kluwer Academic Publishers, 1995.

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L, Blue J., ed. MOS1: A program for two-dimensional analysis of Si MOSFETs. Gaithersburg, Md: U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards, 1985.

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L, Wilson C. MOS1: A program for two-dimensional analysis of Si MOSFETs. Gaithersburg, MD: U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards, 1985.

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34

CMOS: Circuit design, layout, and simulation. 3a ed. Piscataway, NJ: IEEE Press, 2010.

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35

Linder, Stefan. Power semiconductors. Lausanne, Switzerland: EPFL Press, 2006.

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1960-, Li Harry W., Boyce David E. 1940- e Institute of Electrical and Electronics Engineers, eds. CMOS circuit design, layout, and simulation. New Delhi: Prentice-Hall of India, 2004.

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Foty, D. MOSFET modeling with SPICE: Principles and practice. Upper Saddle River, NJ: Prentice Hall PTR, 1997.

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38

Tsividis, Yannis. Operation and modeling of the MOS transistor. 2a ed. Boston: WCB/McGraw-Hill, 1999.

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Tsividis, Yannis. Operation and modeling of the MOS transistor. New York: McGraw-Hill, 1987.

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Tsividis, Yannis. Operation and modeling of the MOS transistor. 2a ed. New York: Oxford University Press, 1999.

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41

Chaudhry, Amit. Fundamentals of Nanoscaled Field Effect Transistors. New York, NY: Springer New York, 2013.

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42

Bufler, Fabian M. Full-band Monte Carlo simulation of nanoscale strained silicon MOSFETs. Konstanz: Hartung-Gorre, 2003.

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43

Warner, R. M. Transistors: Fundamentals for the integrated-circuit engineer. Malabar, Fla: R.E. Krieger Pub. Co., 1990.

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44

El-Khatib, Ziad. Distributed CMOS bidirectional amplifiers: Broadbanding and linearization techniques. New York: Springer, 2012.

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45

Fleetwood, Daniel. Defects in microelectronic materials and devices. Boca Raton, FL: CRC Press, 2008.

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46

Madrid, Philip E. Device design and process window analysis of a deep submicron CMOS VLSI technology. Reading, Mass: Addison-Wesley, 1992.

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47

Cheng, Yuhua. MOSFET modeling & BSIM3 user's guide. New York: Kluwer Academic Publishers, 2002.

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48

Cheng, Yuhua. MOSFET modeling & BSIM3 user's guide. Boston: Kluwer Academic Publishers, 1999.

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49

Chenming, Hu, ed. MOSFET modeling & BSIM3 user's guide. Boston: Kluwer Academic Publishers, 1999.

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50

Maeda, Shigenobu. Teishōhi denryoku kōsoku MOSFET gijutsu: Takesshō shirikon TFT fukagata SRAM to SOI debaisu. Tōkyō: Sipec, 2002.

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