Artigos de revistas sobre o tema "Accumulation de charge photoinduite"
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Russo, Christopher J., e Richard Henderson. "Charge accumulation in electron cryomicroscopy". Ultramicroscopy 187 (abril de 2018): 43–49. http://dx.doi.org/10.1016/j.ultramic.2018.01.009.
Texto completo da fonteOlsson, L. Ö., C. B. M. Andersson, M. C. Håkansson, J. Kanski, L. Ilver e U. O. Karlsson. "Charge Accumulation at InAs Surfaces". Physical Review Letters 76, n.º 19 (6 de maio de 1996): 3626–29. http://dx.doi.org/10.1103/physrevlett.76.3626.
Texto completo da fonteGao, Mingze, Jiangkun Sun, Sheng Yu, Jun Feng, Xingjing Ren, Yongmeng Zhang, Xuezhong Wu e Dingbang Xiao. "Investigation of the Charge Accumulation Based on Stiffness Variation of the Micro-Shell Resonator Gyroscope". Micromachines 14, n.º 9 (8 de setembro de 2023): 1755. http://dx.doi.org/10.3390/mi14091755.
Texto completo da fonteBonn, Annabell G., e Oliver S. Wenger. "Photoinduced Charge Accumulation in Molecular Systems". CHIMIA International Journal for Chemistry 69, n.º 1 (25 de fevereiro de 2015): 17–21. http://dx.doi.org/10.2533/chimia.2015.17.
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Texto completo da fonteLai, Yundong, Hui Jiang, Yufei Han e Jinyu Tang. "Characteristics of Surface Charge Accumulation on Spacers and Its Influencing Factors". Electronics 13, n.º 7 (30 de março de 2024): 1294. http://dx.doi.org/10.3390/electronics13071294.
Texto completo da fonteZHANG, JIA-WEI, TIAN-HAO LI e WEI ZHANG. "SIMULATION OF SURFACE CHARGE DISSIPATION OF INSULATING BACKSHEETS FOR FLEXIBLE PHOTOVOLTAIC MODULE UNDER VARIOUS TEMPERATURE CONDITIONS". Surface Review and Letters 27, n.º 11 (8 de julho de 2020): 1950230. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x19502305.
Texto completo da fonteWang, Wenqu, Yu Gao e Huicun Zhao. "The Effect of a Metal Particle on Surface Charge Accumulation Behavior of Epoxy Insulator with Zoning Coating". Energies 15, n.º 13 (28 de junho de 2022): 4730. http://dx.doi.org/10.3390/en15134730.
Texto completo da fonteLiang, Fangwei, Hanhua Luo, Xianhao Fan, Xuetong Li e Xu Wang. "Review of Surface Charge Accumulation on Insulators in DC Gas-Insulated Power Transmission Lines: Measurement and Suppression Measures". Energies 16, n.º 16 (17 de agosto de 2023): 6027. http://dx.doi.org/10.3390/en16166027.
Texto completo da fonteShimakawa, Hajime, Akiko Kumada, Kunihiko Hidaka, Takanori Yasuoka, Yoshikazu Hoshina e Motoharu Shiiki. "Surface Charge Accumulation of DC-GIS Spacer". IEEJ Transactions on Power and Energy 140, n.º 6 (1 de junho de 2020): 548–49. http://dx.doi.org/10.1541/ieejpes.140.548.
Texto completo da fonteGierus, A. V., e T. G. Gierus. "Charge accumulation effects in quantum-well structures". Semiconductors 40, n.º 6 (junho de 2006): 681–86. http://dx.doi.org/10.1134/s1063782606060133.
Texto completo da fonteFeng Wang, Yuchang Qiu, W. Pfeiffer e E. Kuffel. "Insulator surface charge accumulation under impulse voltage". IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation 11, n.º 5 (outubro de 2004): 847–54. http://dx.doi.org/10.1109/tdei.2004.1349790.
Texto completo da fonte(George)Yu, Zhao-Zhi, e Keith Watson. "Two-step model for contact charge accumulation". Journal of Electrostatics 51-52 (maio de 2001): 313–18. http://dx.doi.org/10.1016/s0304-3886(01)00071-7.
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Texto completo da fonteJing, T., P. H. F. Morshuis e F. H. Kreuger. "Mechanisms of surface charge accumulation in SF6". Archiv für Elektrotechnik 77, n.º 2 (janeiro de 1994): 151–55. http://dx.doi.org/10.1007/bf01578538.
Texto completo da fonteGu, Wenhao, Fei Teng, Yaozhu Chu, An Zhang e Zain Ul Abideen. "An interesting charge accumulation process of Bi12O15Cl6". Journal of Electroanalytical Chemistry 846 (agosto de 2019): 113169. http://dx.doi.org/10.1016/j.jelechem.2019.05.051.
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Texto completo da fonteJin, Rui, Xiaoyan Liu, Gang Du, Jinfeng Kang e Ruqi Han. "Effect of trapped charge accumulation on the retention of charge trapping memory". Journal of Semiconductors 31, n.º 12 (dezembro de 2010): 124016. http://dx.doi.org/10.1088/1674-4926/31/12/124016.
Texto completo da fonteHuan, Bai, Guangmao Li, Gang Du, Jun Xiong e Wenxiong Mo. "Effect of Semiconductive Layer on Space Charge Accumulation in XLPE". E3S Web of Conferences 204 (2020): 02004. http://dx.doi.org/10.1051/e3sconf/202020402004.
Texto completo da fonteLi, Zhonglei, Jingang Su, Boxue Du, Zhaohao Hou e Chenlei Han. "Inhibition Effect of Graphene on Space Charge Injection and Accumulation in Low-Density Polyethylene". Nanomaterials 8, n.º 11 (20 de novembro de 2018): 956. http://dx.doi.org/10.3390/nano8110956.
Texto completo da fonteXing, Zhaoliang, Chong Zhang, Haozhe Cui, Yali Hai, Qingzhou Wu e Daomin Min. "Space Charge Accumulation and Decay in Dielectric Materials with Dual Discrete Traps". Applied Sciences 9, n.º 20 (11 de outubro de 2019): 4253. http://dx.doi.org/10.3390/app9204253.
Texto completo da fonteYan, Zhiyu, Hong Zhao, Baozhong Han, Jiaming Yang e Junqi Chen. "The suppression of space charge accumulation in CB/LDPE nanocomposites and its association with molecule relaxation". e-Polymers 18, n.º 1 (26 de janeiro de 2018): 49–56. http://dx.doi.org/10.1515/epoly-2017-0111.
Texto completo da fonteZhao, Wei, Huaqiang Li, Wenpeng Li, Xin Chen, Lisheng Zhong e Jinghui Gao. "Charge Accumulation in the Homo-Crosslinked-Polyethylene Bilayer". Materials 15, n.º 9 (21 de abril de 2022): 3024. http://dx.doi.org/10.3390/ma15093024.
Texto completo da fonteShimotani, Hidekazu, Haruhiko Asanuma, Jun Takeya e Yoshihiro Iwasa. "Electrolyte-gated charge accumulation in organic single crystals". Applied Physics Letters 89, n.º 20 (13 de novembro de 2006): 203501. http://dx.doi.org/10.1063/1.2387884.
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Texto completo da fonteAlexandrov O. V., Tyapkin N. S., Mokrushina S. A. e Fomin V. N. "Effect of ionizing irradiation on charge distribution and breakdown of MOSFETs". Semiconductors 56, n.º 2 (2022): 188. http://dx.doi.org/10.21883/sc.2022.02.53051.9735.
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Texto completo da fonteParfenov P. S., Korzhenevskii I. G., Babaev A. A., Litvin. A. P., Sokolova A. V. e Fedorov A. V. "Measuring the mobility of charge carriers in samples with low conductivity by the field effect transistor method using output characteristics". Technical Physics 68, n.º 4 (2023): 546. http://dx.doi.org/10.21883/tp.2023.04.55948.283-22.
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