Artykuły w czasopismach na temat „Tin-oxygen”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Sprawdź 50 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „Tin-oxygen”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.
Okamoto, H. "O-Sn (Oxygen-Tin)". Journal of Phase Equilibria & Diffusion 27, nr 2 (1.04.2006): 202. http://dx.doi.org/10.1361/154770306x97740.
Pełny tekst źródłaOkamoto, H. "O−Sn (Oxygen-Tin)". Journal of Phase Equilibria and Diffusion 27, nr 2 (marzec 2006): 202. http://dx.doi.org/10.1007/s11669-006-0063-6.
Pełny tekst źródłaWang, Sheng, i Teruo Hori. "Oxygen evolution sensitized by tin porphyrin in microheterogeneous system and membrane systems". Journal of Porphyrins and Phthalocyanines 07, nr 01 (styczeń 2003): 37–41. http://dx.doi.org/10.1142/s1088424603000069.
Pełny tekst źródłaRaghavan, V. "Fe-O-Sn (Iron-Oxygen-Tin)". Journal of Phase Equilibria and Diffusion 31, nr 4 (21.04.2010): 372. http://dx.doi.org/10.1007/s11669-010-9715-7.
Pełny tekst źródłaIvanov A. F., Egorov F. S., Platonov N. D., Matukhin V. L. i Terukov E. I. "Influence of the oxygen during the deposition of an indium tin oxide thin film by magnetron sputtering for heterojunction solar cells". Semiconductors 56, nr 3 (2022): 225. http://dx.doi.org/10.21883/sc.2022.03.53063.9747.
Pełny tekst źródłaWu, Xiao Wen, Jian Xin Zhang, Yang Wang i Amin Huang. "Structure and Properties of Ti/TiN/Sb-SnO2 Electrodes with Plasma Sprayed TiN Interlayer". Advanced Materials Research 602-604 (grudzień 2012): 1613–16. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.602-604.1613.
Pełny tekst źródłaLaimböck, Paul. "In-Line Oxygen Sensors for the Glass Melt and the Float Bath". Advanced Materials Research 39-40 (kwiecień 2008): 443–46. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.39-40.443.
Pełny tekst źródłaReuter, Hans, i Hilko Wilberts. "On the structural diversity anions coordinate to the butterfly-shaped [(R2Sn)3O(OH)2]2+ cations and vice versa". Canadian Journal of Chemistry 92, nr 6 (czerwiec 2014): 496–507. http://dx.doi.org/10.1139/cjc-2013-0517.
Pełny tekst źródłaMoatti, A., R. Bayati, S. Singamaneni i J. Narayan. "Epitaxial integration of TiO2 with Si(100) through a novel approach of oxidation of TiN/Si(100) epitaxial heterostructure". MRS Advances 1, nr 37 (2016): 2629–34. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2016.463.
Pełny tekst źródłaBeensh-Marchwicka, Grazyna, i Lubomila Krol-Stepniewska. "Reproducibility of Properties of SnOxThin Films Prepared by Reactive Sputtering". ElectroComponent Science and Technology 11, nr 4 (1985): 271–80. http://dx.doi.org/10.1155/apec.11.271.
Pełny tekst źródłaChoi, Jaewon, Wonjin Jeon, Dongjin Kang, Doowon Kang i Jungyol Jo. "Hydrogen-Assisted Sputtering Growth of TiN on Ceramic Substrates". Coatings 9, nr 4 (17.04.2019): 255. http://dx.doi.org/10.3390/coatings9040255.
Pełny tekst źródłaLyutov, Dimitar, Plamen V. Petkov, Nasko Gorunski, Boyan Todorov i Hristo Iliev. "Investigation of selected materials stability for future application in development of small fast modular reactors (SFMR)". MATEC Web of Conferences 387 (2023): 05002. http://dx.doi.org/10.1051/matecconf/202338705002.
Pełny tekst źródłaHuang, Amin, Jian Xin Zhang, Xiao Wen Wu i Yang Wang. "Structure and Performance of Ti/TiN/PbO2 Electrodes with Plasma-Sprayed TiN Interlayer". Applied Mechanics and Materials 325-326 (czerwiec 2013): 40–42. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.325-326.40.
Pełny tekst źródłaAgbede, Oluseye O., G. H. Kelsall i K. Hellgardt. "A novel molten tin reformer: Kinetics of oxygen dissolution in molten tin". Chemical Engineering Science 231 (luty 2021): 116273. http://dx.doi.org/10.1016/j.ces.2020.116273.
Pełny tekst źródłaKarami, Hassan, i Somayyeh Babaei. "Application of Tin Sulfide-Tin Dioxide Nanocomposite as Oxygen Gas-Sensing Agent". International Journal of Electrochemical Science 8, nr 11 (listopad 2013): 12078–87. http://dx.doi.org/10.1016/s1452-3981(23)13245-7.
Pełny tekst źródłaWen, Shijie, G. Campet i J. Portier. "Influence of Thermal Treatment Under Various Oxygen Pressures on The Electronic Properties of Ceramics and Single Crystals of Pure and Tin-Doped Indium Oxide". Active and Passive Electronic Components 14, nr 4 (1992): 191–98. http://dx.doi.org/10.1155/1992/56168.
Pełny tekst źródłaZhu, Dongsheng, Wanli Kang, Dewen Dong, Qun Liu i Lin Xu. "A Novel Macrocyclic Dimeric Dicarboxylato Distannoxane Assembled from a Flexible Dicarboxylic Acid". Journal of Chemical Research 2007, nr 10 (październik 2007): 577–79. http://dx.doi.org/10.3184/030823407x255524.
Pełny tekst źródłaItoh, Satoshi, Hiroki Osamura i Kimihiko Komada. "Thermodynamics of Indium-Tin-Oxygen Ternary System". MATERIALS TRANSACTIONS 52, nr 6 (2011): 1192–99. http://dx.doi.org/10.2320/matertrans.m-m2011806.
Pełny tekst źródłaKhirunenko, Lyudmila I., Yu V. Pomozov i Mikhail G. Sosnin. "Oxygen Precipitation in Silicon Doped with Tin". Solid State Phenomena 82-84 (listopad 2001): 111–14. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.82-84.111.
Pełny tekst źródłaKamp, B., R. Merkle i J. Maier. "Chemical diffusion of oxygen in tin dioxide". Sensors and Actuators B: Chemical 77, nr 1-2 (czerwiec 2001): 534–42. http://dx.doi.org/10.1016/s0925-4005(01)00694-3.
Pełny tekst źródłaHARRISON, P. G. "ChemInform Abstract: Transformations Involving Tin-Oxygen Bonds". ChemInform 23, nr 42 (21.08.2010): no. http://dx.doi.org/10.1002/chin.199242256.
Pełny tekst źródłaUngureanu, Ana-Maria, Ovidiu Oprea, Bogdan Vasile, Corina Andronescu, Georgeta Voicu i Ioana Jitaru. "Temperature effect over structure and photochemical properties of nanostructured SnO2 powders". Open Chemistry 12, nr 9 (1.09.2014): 909–17. http://dx.doi.org/10.2478/s11532-013-0400-7.
Pełny tekst źródłaHan, Dongsuk, Jaehyung Park, Minsoo Kang, Hyeongtag Jeon i Jongwan Park. "Improvement in the Positive Bias Temperature Stability of SnOx-Based Thin Film Transistors by Hf and Zn Doping". Journal of Nanoscience and Nanotechnology 15, nr 10 (1.10.2015): 7606–10. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2015.11155.
Pełny tekst źródłaAbdul Basyir, Abdul Basyir, Robby Kurnia Robby Kurnia, Cherly Firdharini Cherly Firdharini, Didik Aryanto Didik Aryanto, Wahyu Bambang Widayatno Wahyu Bambang Widayatno i Agus Sukarto Wismogroho Agus Sukarto Wismogroho. "Investigation of Effect of Various Hot Gas Atomisation and Melting Pot Temperatures on Tin Alloy Powder Product". Sains Malaysiana 51, nr 9 (30.09.2022): 3027–41. http://dx.doi.org/10.17576/jsm-2022-5109-23.
Pełny tekst źródłaЧувенкова, Ольга Александровна, Николай Игоревич Бойков, Станислав Викторович Рябцев, Елена Владимировна Паринова, Ратибор Григорьевич Чумаков, Алексей Михайлович Лебедев, Дмитрий Смирнов i in. "Electronic structure and composition of tin oxide thin epitaxial and magnetron layers according to synchrotron XANES studies". Конденсированные среды и межфазные границы 26, nr 1 (28.02.2024): 153–60. http://dx.doi.org/10.17308/kcmf.2024.26/11897.
Pełny tekst źródłaGeoffroy, C., G. Campet, F. Menil, J. Portier, J. Salardenne i G. Couturier. "Optical and Electrical Properties of SnO2:F Thin Films Obtained by R.F. Sputtering With Various Targets". Active and Passive Electronic Components 14, nr 3 (1991): 111–18. http://dx.doi.org/10.1155/1991/85965.
Pełny tekst źródłaBecker, Martin, Angelika Polity, Davar Feili i Bruno K. Meyer. "Deposition of tin oxides by Ion-Beam-Sputtering". MRS Proceedings 1494 (2012): 153–58. http://dx.doi.org/10.1557/opl.2012.1650.
Pełny tekst źródłaWang, Qi, Zhi Jian Peng, Yang Wang i Xiu Li Fu. "Deposition and Electrical Resistivity of Oxygen-Deficient Tin Oxide Films Prepared by RF Magnetron Sputtering at Different Powers". Solid State Phenomena 281 (sierpień 2018): 504–9. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.281.504.
Pełny tekst źródłaLin, Yichao, Minghui Guo, Jin Liu, Laijin Tian i Xicheng Liu. "Synthesis and structural characterization of the complexes of 2-(menthoxycarbonyl)ethyltin chloride". Main Group Metal Chemistry 42, nr 1 (25.05.2019): 37–45. http://dx.doi.org/10.1515/mgmc-2019-0003.
Pełny tekst źródłaMukhamedshina, D. M., A. I. Fedosimova, E. A. Dmitriyeva, I. A. Lebedev, E. A. Grushevskaya, S. A. Ibraimova, K. A. Mit’ i A. S. Serikkanov. "Influence of Plasma Treatment on Physical Properties of Thin SnO2 Films Obtained from SnCl4 Solutions with Additions of NH4F and NH4OH". Eurasian Chemico-Technological Journal, nr 1 (20.02.2019): 57. http://dx.doi.org/10.18321/ectj791.
Pełny tekst źródłaIngold, K. U., i Gino A. DiLabio. "Is the oxygen “side-on”, or “end-on” and fluctional, in peroxyl radicals with magnetically equivalent oxygen atoms?" Canadian Journal of Chemistry 88, nr 11 (listopad 2010): 1053–56. http://dx.doi.org/10.1139/v10-071.
Pełny tekst źródłaWan, C. F., R. D. McGrath, W. F. Keenan i S. N. Frank. "LPCVD of Tin Oxide from Tetramethyltin and Oxygen". Journal of The Electrochemical Society 136, nr 5 (1.05.1989): 1459–63. http://dx.doi.org/10.1149/1.2096941.
Pełny tekst źródłaTompkins, Harland G., i James A. Sellers. "Oxidation of TiN in an oxygen plasma asher". Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 12, nr 4 (lipiec 1994): 2446–50. http://dx.doi.org/10.1116/1.579191.
Pełny tekst źródłaSeidel, F., H. R. Stock i P. Mayr. "Carbon, nitrogen and oxygen implantation into TiN coatings". Surface and Coatings Technology 108-109 (październik 1998): 271–75. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(98)00562-3.
Pełny tekst źródłaRaghavan, V. "Fe-O-Sn-Zn (Iron-Oxygen-Tin-Zinc)". Journal of Phase Equilibria and Diffusion 31, nr 4 (21.04.2010): 387–88. http://dx.doi.org/10.1007/s11669-010-9722-8.
Pełny tekst źródłaRaghavan, V. "ChemInform Abstract: Fe-O-Sn (Iron-Oxygen-Tin)". ChemInform 42, nr 6 (13.01.2011): no. http://dx.doi.org/10.1002/chin.201106217.
Pełny tekst źródłaAmato-Wierda, Carmela, i Derk A. Wierda. "Chemical vapor deposition of titanium nitride thin films from tetrakis(dimethylamido)titanium and hydrazine as a coreactant". Journal of Materials Research 15, nr 11 (listopad 2000): 2414–24. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0347.
Pełny tekst źródłaMortazavi, S. Mohammad Reza, Fereshteh Rashchi i Rasoul Khayyam Nekouei. "Characterization of Nano-Structured Tin Oxide Film Prepared by Anodic Oxidation Process". Advanced Materials Research 829 (listopad 2013): 366–70. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.829.366.
Pełny tekst źródłaPaskaleva, Albena, Boris Hudec, Peter Jancovic, Karol Fröhlich i Dencho Spassov. "The influence of technology and switching parameters on resistive switching behavior of Pt/HfO2/TiN MIM structures". Facta universitatis - series: Electronics and Energetics 27, nr 4 (2014): 621–30. http://dx.doi.org/10.2298/fuee1404621p.
Pełny tekst źródłaCzerwiński, Andrzej, Agata Skwarek, Mariusz Płuska, Jacek Ratajczak i Krzysztof Witek. "Tin Pest and Tin Oxidation on Tin-Rich Lead-Free Alloys Investigated by Electron Microscopy Methods". Solid State Phenomena 186 (marzec 2012): 275–78. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.186.275.
Pełny tekst źródłaKong, Xianqi, i T. Bruce Grindley. "Control of regioselectivity in reactions of dialkylstannylene acetals. Part I. A dramatic reversal of regioselectivity in mono-p-toluenesulfonation reactions". Canadian Journal of Chemistry 72, nr 12 (1.12.1994): 2396–404. http://dx.doi.org/10.1139/v94-306.
Pełny tekst źródłaPanjan, Peter, Aljaž Drnovšek, Pal Terek, Aleksandar Miletić, Miha Čekada i Matjaž Panjan. "Comparative Study of Tribological Behavior of TiN Hard Coatings Deposited by Various PVD Deposition Techniques". Coatings 12, nr 3 (22.02.2022): 294. http://dx.doi.org/10.3390/coatings12030294.
Pełny tekst źródłaMoskalewicz, Tomasz, Maciej Warcaba, Sławomir Zimowski i Alicja Łukaszczyk. "Improvement of the Ti-6Al-4V Alloy’s Tribological Properties and Electrochemical Corrosion Resistance by Nanocomposite TiN/PEEK708 Coatings". Metallurgical and Materials Transactions A 50, nr 12 (10.10.2019): 5914–24. http://dx.doi.org/10.1007/s11661-019-05484-7.
Pełny tekst źródłaZeinati, Aseel, Durga Misra, Dina H. Triyoso, Sophia Rogalskyj, K. Imakita, Kandabara Tapily, Steven Consiglio, Cory S. Wajda i Gert J. Leusink. "Impact of Bottom Electrode in HfO2-Based Rram Devices on Switching Characteristics". ECS Meeting Abstracts MA2023-01, nr 29 (28.08.2023): 1783. http://dx.doi.org/10.1149/ma2023-01291783mtgabs.
Pełny tekst źródłaHerzog, Thomas, Naomi Weitzel i Sebastian Polarz. "Oxygen vacancy injection-induced resistive switching in combined mobile and static gradient doped tin oxide nanorods". Nanoscale 12, nr 35 (2020): 18322–32. http://dx.doi.org/10.1039/d0nr03734f.
Pełny tekst źródłaHoleček, Jaroslav, Karel Handlíř, Antonín Lyčka, T. K. Chattopadhyay, B. Majee i A. K. Kumar. "Preparation and infrared and 13C, 17O, and 119Sn NMR spectra of some substituted di- and tri(1-butyl)tin phenoxyacetates and phenylthioacetates". Collection of Czechoslovak Chemical Communications 51, nr 5 (1986): 1100–1111. http://dx.doi.org/10.1135/cccc19861100.
Pełny tekst źródłaZhang, Chun Min, Xiao Yong Liu, Lin Qing Zhang, Hong Liang Lu, Peng Fei Wang i David Wei Zhang. "Ru Thin Film Formation Using Oxygen Plasma Enhanced ALD and Rapid Thermal Processing". Materials Science Forum 815 (marzec 2015): 8–13. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.815.8.
Pełny tekst źródłaABDULSATTAR, MUDAR AHMED, ADEEBH L. RESNE, SHROK ABDULLAH, RIYADH J. MOHAMMED, NOON KADHUM ALARED i ELHAM HANIE NASER. "CHLORINE GAS SENSING OF SnO2 NANOCLUSTERS AS A FUNCTION OF TEMPERATURE: A DFT STUDY". Surface Review and Letters 26, nr 04 (maj 2019): 1850172. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x1850172x.
Pełny tekst źródłaDmitriyeva, E. A., I. A. Lebedev, E. A. Grushevskaya, D. O. Murzalinov, A. S. Serikkanov, N. M. Tompakova, A. I. Fedosimova i A. T. Temiraliev. "The effect of three-minute exposure of oxygen plasma on the properties of tin oxide films". Bulletin of the Karaganda University. "Physics" Series 99, nr 3 (30.09.2020): 38–45. http://dx.doi.org/10.31489/2020ph3/38-45.
Pełny tekst źródłaSong, Seok-Kyun, Daeil Kim, Steven Kim, Seok-Keun Koh, Hyung-Jin Jung, Jeong-Young Lee i Hong-Koo Baik. "Structure and chemical characteristics of tin oxide films prepared by reactive-ion-assisted deposition as a function of oxygen ion beam energy". Journal of Materials Research 15, nr 9 (wrzesień 2000): 1911–21. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0277.
Pełny tekst źródła