Artykuły w czasopismach na temat „RF sputtering”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Sprawdź 50 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „RF sputtering”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.
Yokogawa, Yoshiyuki, Taishi Morishima, Mitunori Uno, Masakazu Kurachi, Yutaka Doi, Harumi Kawaki i Masato Hotta. "Wettability and Durability of Si-O Coatings on Zirconia Substrate by RF-Magnetron Plasma Sputtering". Key Engineering Materials 782 (październik 2018): 189–94. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.782.189.
Pełny tekst źródłaPark, Min Woo, Wang Woo Lee, Jae Gab Lee i Chong Mu Lee. "A Comparison of the Mechanical Properties of RF- and DC- Sputter-Deposited Cr Thin Films". Materials Science Forum 546-549 (maj 2007): 1695–98. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.546-549.1695.
Pełny tekst źródłaZhao, Haili, Jingpei Xie i Aixia Mao. "Effects of Bottom Layer Sputtering Pressures and Annealing Temperatures on the Microstructures, Electrical and Optical Properties of Mo Bilayer Films Deposited by RF/DC Magnetron Sputtering". Applied Sciences 9, nr 7 (3.04.2019): 1395. http://dx.doi.org/10.3390/app9071395.
Pełny tekst źródłaBiederman, H., P. Bílková, J. Ježek, P. Hlídek i D. Slavínská. "RF magnetron sputtering of polymers". Journal of Non-Crystalline Solids 218 (wrzesień 1997): 44–49. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-3093(97)00196-8.
Pełny tekst źródłaStelmashuk, V., H. Biederman, D. Slavı́nská, M. Trchová i P. Hlidek. "Rf magnetron sputtering of polypropylene". Vacuum 75, nr 3 (lipiec 2004): 207–15. http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2004.02.007.
Pełny tekst źródłaMorohashi, Shin'ichi, Atsunori Matsuo, Toshihiro Hara, Shogo Tsujimura i Masanori Kawanishi. "SiO2Insulation Layer Fabricated using RF Magnetron Facing Target Sputtering and Conventional RF Magnetron Sputtering". Japanese Journal of Applied Physics 40, Part 1, No. 8 (15.08.2001): 4876–77. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.40.4876.
Pełny tekst źródłaMa, Wei Hong, i Chang Long Cai. "Studying on Thickness Control of ITO Films Deposited Using RF Magnetron Sputtering". Advanced Materials Research 415-417 (grudzień 2011): 1921–24. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.415-417.1921.
Pełny tekst źródłaJin, Chun Long, Ha Na Shim, Eou Sik Cho i Sang Jik Kwon. "Effect of Pulsed-DC Power on the Zinc Oxide Window Layer of CIGS Solar Cells Deposited by In-Line Sputtering Methods". Advanced Materials Research 805-806 (wrzesień 2013): 131–35. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.805-806.131.
Pełny tekst źródłaLee, Chong Mu, Choong Mo Kim, Sook Joo Kim i Yun Kyu Park. "Enhancement of the Quality of the ZnO Thin Films by Optimizing the Process Parameters of High-Temperature RF Magnetron Sputtering". Key Engineering Materials 336-338 (kwiecień 2007): 581–84. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.336-338.581.
Pełny tekst źródłaWatazu, Akira, Katsuhiko Kimoto, Sonoda Tsutomu, Kinya Tanaka, Tomoji Sawada, Minoru Toyoda i Naobumi Saito. "Ti-Ca-P Films Formed by RF Magnetron Sputtering Method Using Dual Targets". Materials Science Forum 544-545 (maj 2007): 495–98. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.544-545.495.
Pełny tekst źródłaXiu, Xian Wu, Li Xu i Cheng Qiang Zhang. "Influence of Sputtering Power on Molybdenum-Doped Zinc Oxide Films Grown by RF Magnetron Sputtering". Advanced Materials Research 873 (grudzień 2013): 426–30. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.873.426.
Pełny tekst źródłaFribourg-Blanc, E., E. Cattan, D. Remiens, M. Dupont i D. Osmont. "rf-sputtering of PMNT thin films". Le Journal de Physique IV 11, PR11 (grudzień 2001): Pr11–145—Pr11–149. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:20011123.
Pełny tekst źródłaKoenig, H. R., i L. I. Maissel. "Application of rf discharges to sputtering". IBM Journal of Research and Development 44, nr 1.2 (styczeń 2000): 106–10. http://dx.doi.org/10.1147/rd.441.0106.
Pełny tekst źródłaNomura, Ichirou, Takayuki Miyazaki i Takeo Nishimura. "Novel method in rf bias sputtering". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 39, nr 1-4 (marzec 1989): 99–103. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(89)90749-0.
Pełny tekst źródłaWen, Dong Cherng, Chun Yao Hsu i Chun Yuan Wu. "Effect of Sputtering Parameters on Photocatalytic Activity of Anatase TiO2 Films Deposited at Room Temperature". Advanced Materials Research 518-523 (maj 2012): 724–27. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.518-523.724.
Pełny tekst źródłaKhalaf, Mohammed K. "Effect of sputtering power on optical Properties of RF sputtering deposited Ti6Al4V Thin Films". Iraqi Journal of Physics (IJP) 15, nr 33 (8.01.2019): 71–77. http://dx.doi.org/10.30723/ijp.v15i33.142.
Pełny tekst źródłaZhao, Zhenqian, Min Yu Yin, Sang Jik Kwon i Eou-Sik Cho. "Effects of Radio-Frequency Sputtering Power on Low Temperature Formation of MoS2 Thin Films on Soda-Lime Glass Substrates". Journal of Nanoscience and Nanotechnology 20, nr 8 (1.08.2020): 4892–98. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2020.17849.
Pełny tekst źródłaNi, Zegang, Yuan Zhong, Xingfu Tao, Wei Li, Huifang Gao i Yan Yao. "Effects of Radio Frequency Bias on the Structure Parameters and Mechanical Properties of Magnetron-Sputtered Nb Films". Crystals 12, nr 2 (14.02.2022): 256. http://dx.doi.org/10.3390/cryst12020256.
Pełny tekst źródłaNOIKAEW, Busarin, Laksana WANGMOOKLANG, Saisamorn NIYOMSOAN i Siriporn LARPKIATTAWORN. "Preparation of transparent alumina thin films deposited by RF magnetron sputtering". Journal of Metals, Materials and Minerals 31, nr 2 (27.06.2021): 96–103. http://dx.doi.org/10.55713/jmmm.v31i2.1066.
Pełny tekst źródłaLiu, Jiaqi, Kazuya Tajima, Imane Abdellaoui, Muhammad Monirul Islam, Shigeru Ikeda i Takeaki Sakurai. "Effect of Radio-Frequency Power on the Composition of BiVO4 Thin-Film Photoanodes Sputtered from a Single Target". Energies 14, nr 8 (10.04.2021): 2122. http://dx.doi.org/10.3390/en14082122.
Pełny tekst źródłaHuguenin-Love, James, Noel T. Lauer, Rodney J. Soukup, Ned J. Ianno, Štepan Kment i Zdenek Hubička. "The Deposition of 3C-SiC Thin Films onto the (111) and (110) Faces of Si Using Pulsed Sputtering of a Hollow Cathode". Materials Science Forum 645-648 (kwiecień 2010): 131–34. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.645-648.131.
Pełny tekst źródłaJeon, Yong-Su, Yeo-Chun Yun i Seong-Su Kim. "Microstructure and Electrical Properties of In2O3Thin Films Fabricated by RF Magnetron Sputtering". Korean Journal of Materials Research 12, nr 4 (1.04.2002): 290–95. http://dx.doi.org/10.3740/mrsk.2002.12.4.290.
Pełny tekst źródłaYao, Yan Ping, i Bao Xue Bo. "Composition Study of Amorphous InxAs1-x Films Prepared by Radio-Frequency Sputtering". Applied Mechanics and Materials 568-570 (czerwiec 2014): 1653–57. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.568-570.1653.
Pełny tekst źródłaPark, Sang-Shik. "Preparation and Electrical Properties of BiFeO3Films by RF Magnetron Sputtering". Korean Journal of Materials Research 19, nr 5 (27.05.2009): 253–58. http://dx.doi.org/10.3740/mrsk.2009.19.5.253.
Pełny tekst źródłaXu, Li Hai, Yu Xing Xu, Cong Wang i Tian Min Wang. "Preparation and Properties of Ce0.9Sm0.1O1.95 as the Electrolytes of IT-SOFC". Key Engineering Materials 336-338 (kwiecień 2007): 398–400. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.336-338.398.
Pełny tekst źródłaHwang, Shun Fa, i Wen Bin Li. "PZT Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering". Applied Mechanics and Materials 302 (luty 2013): 8–13. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.302.8.
Pełny tekst źródłaHomma, Yoshio, i Sukeyoshi Tsunekawa. "Planar Deposition of Aluminum by RF/DC Sputtering with RF Bias". Journal of The Electrochemical Society 132, nr 6 (1.06.1985): 1466–72. http://dx.doi.org/10.1149/1.2114145.
Pełny tekst źródłaTumanov, N. A., D. V. Kirillov i E. V. Vorob’ev. "Investigation of a high-frequency magnetron sputtering system operation modes during copper thin films deposition". Journal of Physics: Conference Series 2270, nr 1 (1.05.2022): 012055. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/2270/1/012055.
Pełny tekst źródłaLI, WENHAO. "SYNTHESIS OF CUPROUS OXIDE THIN FILMS BY RF-MAGNETRON SPUTTERING". Surface Review and Letters 25, nr 02 (luty 2018): 1850051. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x18500518.
Pełny tekst źródłaPhelps, Justin Ryan, Ashwin Kumar Saikumar, Reza Abdolvand i Kalpathy B. Sundaram. "Comparison of RF and High Impulse Magnetron Sputtered Gallium-Doped Zinc Oxide Thin Films". Coatings 13, nr 1 (31.12.2022): 71. http://dx.doi.org/10.3390/coatings13010071.
Pełny tekst źródłaYu, Jie, Wen Hui Ma, Hang Sheng Lin, Hong Yan Sun, Xiu Hua Chen i Bin Yang. "Fabrication of LSGM Thin Film Electrolyte on LSCM Anode by RF Magnetron Sputtering for IT-SOFC". Materials Science Forum 675-677 (luty 2011): 81–84. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.675-677.81.
Pełny tekst źródłaAchoi, M. F., Mohd Nor Asiah, Mohamad Rusop i Saifollah Abdullah. "A Comparative Study of TiO2 Nanocoated Mild Steel Surface Properties between Short and Long Sputtering Time of RF Magnetron". Advanced Materials Research 667 (marzec 2013): 562–68. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.667.562.
Pełny tekst źródłada Cunha, António F., F. Kurdzesau i Pedro M. P. Salomé. "Cu(In,Ga)Se2 Prepared by a 2 and 3-Stage Hybrid RF-Magnetron Sputtering and Se Evaporation Method: Properties and Solar Cell Performance". Materials Science Forum 514-516 (maj 2006): 93–97. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.514-516.93.
Pełny tekst źródłaTang, Hui Dong, Shou Hong Tan i Zheng Ren Huang. "SiC Coatings Deposited by RF Magnetron Sputtering". Key Engineering Materials 280-283 (luty 2007): 1309–12. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.280-283.1309.
Pełny tekst źródłaMASUDA, Haruho, Kyoichiro YASUDA, Michihiko TAKEDA i Akira YOSHIDA. "Preparation of ZnSe films by RF sputtering." SHINKU 30, nr 5 (1987): 481–84. http://dx.doi.org/10.3131/jvsj.30.481.
Pełny tekst źródłaCho, Jaekyong, Manabu Gomi i Masanori Abe. "Ferromagnetic (LaSr)MnO3Films Deposited by RF Sputtering". Japanese Journal of Applied Physics 29, Part 1, No. 9 (20.09.1990): 1686–89. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.29.1686.
Pełny tekst źródłaYazawa, Ichiro, Norio Terada, Katsuhiro Matsutani, Ryoji Sugise, Masatoshi Jo i Hideo Ihara. "Orientation of CaCuO2Thin Films in RF Sputtering". Japanese Journal of Applied Physics 29, Part 2, No. 4 (20.04.1990): L566—L568. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.29.l566.
Pełny tekst źródłaRamos, Manuel, John Nogan, Manuela Ortíz-Díaz, Jose L. Enriquez-Carrejo, Claudia A. Rodriguez-González, Jose Mireles-Jr-Garcia, Carlos Ornelas i Abel Hurtado-Macias. "Mechanical properties of RF-sputtering MoS2thin films". Surface Topography: Metrology and Properties 5, nr 2 (12.06.2017): 025003. http://dx.doi.org/10.1088/2051-672x/aa7421.
Pełny tekst źródłaPaven-Thivet, Le, C. Malibert, Ph Houdy i P. A. Albouy. "RF-sputtering deposition of Al/Al2O3 multilayers". Thin Solid Films 336, nr 1-2 (grudzień 1998): 373–76. http://dx.doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01288-7.
Pełny tekst źródłaMechnich, Peter. "Y2SiO5 coatings fabricated by RF magnetron sputtering". Surface and Coatings Technology 237 (grudzień 2013): 88–94. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2013.08.015.
Pełny tekst źródłaCarabias, I., A. Martinez, M. A. Garcia, E. Pina, J. M. Gonzalez, A. Hernando i P. Crespo. "Magnetostrictive thin films prepared by RF sputtering". Journal of Magnetism and Magnetic Materials 290-291 (kwiecień 2005): 823–25. http://dx.doi.org/10.1016/j.jmmm.2004.11.373.
Pełny tekst źródłaSilva Filho, José Maria Clemente da, Nelson Fabián Villegas Borrero, Gustavo Alexandre Viana, Rafael Borges Merlo i Francisco Chagas Marques. "Lead Iodide Thin Films via rf Sputtering". Crystal Growth & Design 20, nr 3 (24.01.2020): 1531–37. http://dx.doi.org/10.1021/acs.cgd.9b01250.
Pełny tekst źródłaSpencer, AG, i RP Howson. "Rf oscillations in dc planar sputtering magnetrons". Vacuum 38, nr 6 (styczeń 1988): 497–98. http://dx.doi.org/10.1016/0042-207x(88)90595-7.
Pełny tekst źródłaHomma, Yoshio, Sukeyoshi Tunekawa, Akira Satou i Tomoguki Terada. "Planarization Mechanism of RF‐Biased Al Sputtering". Journal of The Electrochemical Society 140, nr 3 (1.03.1993): 855–60. http://dx.doi.org/10.1149/1.2056173.
Pełny tekst źródłaTamai, Fujio, i Yuji Kawakami. "Reflecting Multi-Layer Coatings by RF Sputtering". Materials Science Forum 502 (grudzień 2005): 309–14. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.502.309.
Pełny tekst źródłaMalavasi, L., M. C. Mozzati, G. Chiodelli, C. B. Azzoni i G. Flor. "RF sputtering deposition of MgMn2O4spinel thin films". Journal of Materials Science 39, nr 5 (marzec 2004): 1671–75. http://dx.doi.org/10.1023/b:jmsc.0000016168.47812.88.
Pełny tekst źródłaMiyazaki, Takayuki, i Sadao Adachi. "Low‐temperature silicon homoepitaxy by rf sputtering". Journal of Applied Physics 72, nr 11 (grudzień 1992): 5471–73. http://dx.doi.org/10.1063/1.351991.
Pełny tekst źródłaYasuda, K., A. Yoshida, M. Takeda, H. Masuda i I. Akasaki. "Boron nitride films prepared by RF sputtering". physica status solidi (a) 90, nr 1 (16.07.1985): K7—K9. http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2210900146.
Pełny tekst źródłaCHAHBOUN, N., K. ELASSALI, A. KHIARA, E. AMEZIANE i T. BEKKAY. "Growth of CuAlTe2 films by RF sputtering". Solar Energy Materials and Solar Cells 32, nr 2 (luty 1994): 213–18. http://dx.doi.org/10.1016/0927-0248(94)90305-0.
Pełny tekst źródłaChoopun, Supab, Niyom Hongsith, Sornchai Tanunchai, Torranin Chairuangsri, Chatchai Krua-in, Somsorn Singkarat, Thirapat Vilaithong, Pongsri Mangkorntong i Nikorn Mangkorntong. "Single-crystalline ZnO nanobelts by RF sputtering". Journal of Crystal Growth 282, nr 3-4 (wrzesień 2005): 365–69. http://dx.doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2005.05.020.
Pełny tekst źródła