Artykuły w czasopismach na temat „RF Plasma CVD”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Sprawdź 50 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „RF Plasma CVD”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.
Hay, Stephen O., Ward C. Roman i Meredith B. Colket. "CVD diamond deposition processes investigation: CARS diagnostics/modeling". Journal of Materials Research 5, nr 11 (listopad 1990): 2387–97. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1990.2387.
Pełny tekst źródłaYAMAMOTO, Masaoki, Masayuki FUKUI i Takayuki SHIBATA. "Properties of carbonous films synthesized by RF plasma CVD." Journal of the Japan Society for Precision Engineering 55, nr 12 (1989): 2222–27. http://dx.doi.org/10.2493/jjspe.55.2222.
Pełny tekst źródłaMannan, Md Abdul, Masamitsu Nagano, Norie Hirao i Yuji Baba. "Hexagonal BCN Films Prepared by RF Plasma-enhanced CVD". Chemistry Letters 37, nr 1 (5.01.2008): 96–97. http://dx.doi.org/10.1246/cl.2008.96.
Pełny tekst źródłaTSAKADZE, E., K. OSTRIKOV, Z. TSAKADZE, N. JIANG, R. AHMAD i S. XU. "CONTROL AND DIAGNOSTICS OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMAS FOR CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION ON NANOCOMPOSITE CARBON NITRIDE-BASED FILMS". International Journal of Modern Physics B 16, nr 06n07 (20.03.2002): 1143–47. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979202011019.
Pełny tekst źródłaInao, Takuro, Masahiko Kumadaki, Kohki Satoh, Masaki Yoshino i Hidenori Itoh. "Deposition of Boron Nitride Films using RF Plasma CVD Method". IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials 134, nr 6 (2014): 397–401. http://dx.doi.org/10.1541/ieejfms.134.397.
Pełny tekst źródłaKashem, Abul, Masaki Matsushita i Shinzo Morita. "RF Plasma CVD of C-S Compound under Hydrogen Dilution". Journal of Photopolymer Science and Technology 13, nr 1 (2000): 47–49. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.13.47.
Pełny tekst źródłaJie, Jiang, i Liu Chenzan. "Diamond-like carbon thin films prepared by rf-plasma CVD". Vacuum 42, nr 16 (1991): 1058. http://dx.doi.org/10.1016/0042-207x(91)91327-k.
Pełny tekst źródłaMITSUI, Akira, i Akio KATO. "Preparation of SiC Powders by CVD Method Using RF-Plasma". Journal of the Ceramic Association, Japan 94, nr 1089 (1986): 517–20. http://dx.doi.org/10.2109/jcersj1950.94.1089_517.
Pełny tekst źródłaMitomo, Tohru, Tomohiro Ohta, Hiroaki Sasaki, Kenichi Ohtsuka i Yasuhiro Habu. "Deposition of amorphous-carbon films by RF plasma CVD method." KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU 17, nr 2 (1991): 305–12. http://dx.doi.org/10.1252/kakoronbunshu.17.305.
Pełny tekst źródłaMitsui, Akira, i Akio Kato. "Preparation of SiC powders by CVD method using RF-plasma". International Journal of High Technology Ceramics 3, nr 1 (styczeń 1987): 85. http://dx.doi.org/10.1016/0267-3762(87)90071-3.
Pełny tekst źródłaKim, Y. T., B. Hong, G. E. Jang, S. J. Suh i D. H. Yoon. "Characterization of a-SiC:H Films Deposited by RF Plasma CVD". Crystal Research and Technology 37, nr 2-3 (luty 2002): 219–24. http://dx.doi.org/10.1002/1521-4079(200202)37:2/3<219::aid-crat219>3.0.co;2-9.
Pełny tekst źródłaSuzuki, Keigo, i Kazunori Kijima. "Phase transformation of BaTiO3 nanoparticles synthesized by RF-plasma CVD". Journal of Alloys and Compounds 419, nr 1-2 (sierpień 2006): 234–42. http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2005.08.075.
Pełny tekst źródłaJonas, Stanisława, Karol Kyzioł, Jerzy Lis i Katarzyna Tkacz-Śmiech. "Stability of a-C:N:H Layers Deposited by RF Plasma Enhanced CVD". Solid State Phenomena 147-149 (styczeń 2009): 738–43. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.147-149.738.
Pełny tekst źródłaOng, Si Ci, Usman Ilyas i Rajdeep Singh Rawat. "Nanofabrication using home-made RF plasma coupled chemical vapour deposition system". International Journal of Modern Physics: Conference Series 32 (styczeń 2014): 1460342. http://dx.doi.org/10.1142/s2010194514603421.
Pełny tekst źródłaTsai, C., J. Nelson, W. W. Gerberich, J. Heberlein i E. Pfender. "Metal reinforced thermal plasma diamond coatings". Journal of Materials Research 7, nr 8 (sierpień 1992): 1967–69. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1992.1967.
Pełny tekst źródłaKURAMASU, Keizaburo, Tetsuhiro KORECHIKA, Masatoshi KITAGAWA i Takashi HIRAO. "Mechanical Properties of SiOxNy Films Deposited by RF Plasma-Enhanced CVD". Journal of the Ceramic Society of Japan 105, nr 1218 (1997): 161–65. http://dx.doi.org/10.2109/jcersj.105.161.
Pełny tekst źródłaBerghaus, J. O., J. L. Meunier i F. Gitzhofer. "Direct current bias effects in RF induction thermal plasma diamond CVD". IEEE Transactions on Plasma Science 30, nr 1 (luty 2002): 442–49. http://dx.doi.org/10.1109/tps.2002.1003894.
Pełny tekst źródłaKim, Dong-Sun, i Tae-Won Kang. "Deposition of Amorphous Carbon Thin Films by Pulsed RF Plasma CVD". JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN 38, nr 8 (2005): 593–99. http://dx.doi.org/10.1252/jcej.38.593.
Pełny tekst źródłaKejun, Liao, i Wang Wanlu. "Cubic Boron Nitride Films Formed by Thermally Assisted rf Plasma CVD". Chinese Physics Letters 12, nr 1 (styczeń 1995): 58–60. http://dx.doi.org/10.1088/0256-307x/12/1/016.
Pełny tekst źródłaSachdev, H., i P. Scheid. "Formation of silicon carbide and silicon carbonitride by RF-plasma CVD". Diamond and Related Materials 10, nr 3-7 (marzec 2001): 1160–64. http://dx.doi.org/10.1016/s0925-9635(00)00575-6.
Pełny tekst źródłaBaldwin, S. K., T. G. Owano i C. H. Kruger. "Growth rate studies of CVD diamond in an RF plasma torch". Plasma Chemistry and Plasma Processing 14, nr 4 (grudzień 1994): 383–406. http://dx.doi.org/10.1007/bf01570203.
Pełny tekst źródłaItoh, Naomi, Kiyotaka Kato i Isamu Kato. "Fabrication of sin thin films by rf biased microwave plasma CVD". Electronics and Communications in Japan (Part II: Electronics) 74, nr 7 (1991): 101–6. http://dx.doi.org/10.1002/ecjb.4420740711.
Pełny tekst źródłaShimizu, Hideki, Setsuo Nakao, Hiroshi Kusakabe i Mikio Noda. "Microstructures of hydrogenated amorphous carbon films prepared by rf plasma CVD". Journal of Non-Crystalline Solids 114 (grudzień 1989): 196–98. http://dx.doi.org/10.1016/0022-3093(89)90111-7.
Pełny tekst źródłaTakenaka, Kosuke, Yusuke Okumura i Yuichi Setsuhara. "Characterization of inductively coupled RF plasmas for plasma-assisted mist CVD of ZnO films". Journal of Physics: Conference Series 379 (7.08.2012): 012031. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/379/1/012031.
Pełny tekst źródłaSaha, Sucharita, i Debajyoti Das. "Diamond-Like Carbon Thin Films from Low-Pressure and High-Density CH4 Plasma". IOP Conference Series: Materials Science and Engineering 1221, nr 1 (1.03.2022): 012037. http://dx.doi.org/10.1088/1757-899x/1221/1/012037.
Pełny tekst źródłaFantoni, R., M. Giorgi, A. G. G. Moliterni, W. C. M. Berden, V. Lazic, O. Martini i F. Polla Mattiot. "On-line gas-phase optical diagnostics in plasma CVD deposition of carbon films". Journal of Materials Research 7, nr 5 (maj 1992): 1204–14. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1992.1204.
Pełny tekst źródłaCho, Chung-Woo, Byungyou Hong i Young-Ze Lee. "Wear life evaluation of diamond-like carbon films deposited by microwave plasma-enhanced CVD and RF plasma-enhanced CVD method". Wear 259, nr 1-6 (lipiec 2005): 789–94. http://dx.doi.org/10.1016/j.wear.2005.02.007.
Pełny tekst źródłaJeong, Chaehwan, Seongjae Boo, Minsung Jeon i Koichi Kamisako. "Characterization of Intrinsic a-Si:H Films Prepared by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition for Solar Cell Applications". Journal of Nanoscience and Nanotechnology 7, nr 11 (1.11.2007): 4169–73. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2007.064.
Pełny tekst źródłaFouad, Osama A., Nizam Uddin, Masaaki Yamazato i Masamitsu Nagano. "RF-plasma enhanced CVD of TiSi2 thin films: effects of TiCl4 flow rate and RF power". Journal of Crystal Growth 257, nr 1-2 (wrzesień 2003): 153–60. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-0248(03)01419-2.
Pełny tekst źródłaPrzetakiewicz, Karol, Katarzyna Tkacz-Śmiech, Piotr Boszkowicz i Stanisława Jonas. "Polymer-Surface Modification with a-C:N:H Layers Plasma Chemically Deposited in RF CVD and MW CVD Systems". Solid State Phenomena 165 (czerwiec 2010): 159–64. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.165.159.
Pełny tekst źródłaPark, Yonggyun, Pengzhan Liu, Seunghwan Lee, Jinill Cho, Eric Joo, Hyeong-U. Kim i Taesung Kim. "Diagnosing Time-Varying Harmonics in Low-k Oxide Thin Film (SiOF) Deposition by Using HDP CVD". Sensors 23, nr 12 (14.06.2023): 5563. http://dx.doi.org/10.3390/s23125563.
Pełny tekst źródłaSleptsova, Anastasia A., Sergey V. Chernykh, Dmitry A. Podgorny i Ilya A. Zhilnikov. "Optimization of passivation in AlGaN/GaN heterostructure microwave transistor fabrication by ICP CVD". Modern Electronic Materials 6, nr 2 (15.07.2020): 71–75. http://dx.doi.org/10.3897/j.moem.6.2.58860.
Pełny tekst źródłaSaitoh, Hidetoshi, Yoshihiko Hirotsu i Yukio Ichinose. "Conditions for Formation of BN Film by Thermally Assisted RF Plasma CVD". Journal of the Japan Institute of Metals 54, nr 2 (1990): 186–92. http://dx.doi.org/10.2320/jinstmet1952.54.2_186.
Pełny tekst źródłaISHIGURO, Takashi, Hidetoshi SAITOH i Yukio ICHINOSE. "Synthesis of cubic boron nitride film by an RF plasma CVD method." Journal of the Japan Society for Precision Engineering 53, nr 10 (1987): 1527–31. http://dx.doi.org/10.2493/jjspe.53.1527.
Pełny tekst źródłaKumadaki, Masahiko, Masaki Yoshino, Kohki Sato i Hidenori Itoh. "Low-temperature Deposition of SiCN Thin Films by RF Plasma CVD Method". IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials 134, nr 10 (2014): 538–44. http://dx.doi.org/10.1541/ieejfms.134.538.
Pełny tekst źródłaNAKAYAMA, Masatoshi, Kunihiro UEDA, Masanori SHIBAHARA, Kazunori MARUYAMA i Kiichiro KAMATA. "Bias Effect on the Formation of Carbon Films by RF-Plasma CVD". Journal of the Ceramic Society of Japan 98, nr 1138 (1990): 597–600. http://dx.doi.org/10.2109/jcersj.98.597.
Pełny tekst źródłaOkuyama, Hideo, Kazuhiro Honnma i Satoru Ohno. "Synthesis of Composite Metal Particles Modified UFP Using the RF-plasma CVD." Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy 47, nr 9 (2000): 993–98. http://dx.doi.org/10.2497/jjspm.47.993.
Pełny tekst źródłaKim, Je-Deok, Hiroyuki Sugimura i Osamu Takai. "Water-repellency of a-C:H films deposited by rf plasma-enhanced CVD". Vacuum 66, nr 3-4 (sierpień 2002): 379–83. http://dx.doi.org/10.1016/s0042-207x(02)00158-6.
Pełny tekst źródłaGarci´a, A., V. Bellido, N. Flan˜o i J. I. On˜ate. "Submicron characterization of B-C:H thin films produced by RF plasma CVD". Diamond and Related Materials 1, nr 2-4 (marzec 1992): 350–54. http://dx.doi.org/10.1016/0925-9635(92)90056-t.
Pełny tekst źródłaDehning, C., A. Holländer, A.-M. Leventi-Peetz i K. Silmy. "Simulation of a Plasma Enhanced µ-jet-CVD Process". NAFEMS International Journal of CFD Case Studies 5 (kwiecień 2006): 51–56. http://dx.doi.org/10.59972/8ptzprew.
Pełny tekst źródłaGaisin, I. R., R. M. Valeeva i N. I. Maksimov. "Cardiorenal continuum in hypertensive pregnancy". "Arterial’naya Gipertenziya" ("Arterial Hypertension") 15, nr 5 (28.10.2009): 590–97. http://dx.doi.org/10.18705/1607-419x-2009-15-5-590-597.
Pełny tekst źródłaZarchi, Meysam, i Shahrokh Ahangarani. "A Comparison between Thin-Film Transistors Deposited by Hot-Wire Chemical Vapor Deposition and PECVD". Metallurgical and Materials Engineering 21, nr 1 (31.03.2015): 7–14. http://dx.doi.org/10.30544/128.
Pełny tekst źródłaYasuoka, Yuki, Toru Harigai, Jun-Seok Oh, Hiroshi Furuta, Akimitsu Hatta, Tsuneo Suzuki i Hidetoshi Saitoh. "Diamond-like carbon films from CO source gas by RF plasma CVD method". Japanese Journal of Applied Physics 54, nr 1S (10.11.2014): 01AD04. http://dx.doi.org/10.7567/jjap.54.01ad04.
Pełny tekst źródłaShimada, Y., K. Kobayashi, N. Mutsukura i Y. Machi. "Synthesis of diamond on substrate with mechanical treatment by RF plasma CVD method". Plasma Sources Science and Technology 2, nr 1 (1.02.1993): 18–22. http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/2/1/005.
Pełny tekst źródłaMaemura, Yoko, Hiroshi Fujiyama, Tomoko Takagi, Ryo Hayashi, Wataru Futako, Michio Kondo i Akihisa Matsuda. "Particle formation and a-Si:H film deposition in narrow-gap RF plasma CVD". Thin Solid Films 345, nr 1 (maj 1999): 80–84. http://dx.doi.org/10.1016/s0040-6090(99)00100-5.
Pełny tekst źródłaDeb, B., B. Bhattacharjee, A. Ganguli, S. Chaudhuri i A. K. Pal. "Boron nitride films synthesized by RF plasma CVD of borane–ammonia and nitrogen". Materials Chemistry and Physics 76, nr 2 (sierpień 2002): 130–36. http://dx.doi.org/10.1016/s0254-0584(01)00524-7.
Pełny tekst źródłaNanbu, Toshikazu, Mikio Takemoto i Toshitsugu Fukai. "Corrosion Resistance of TiN Coating Deposited on Quartz by RF Plasma-Assisted CVD". Zairyo-to-Kankyo 41, nr 11 (1992): 734–40. http://dx.doi.org/10.3323/jcorr1991.41.734.
Pełny tekst źródłaMATSUI, ISAO. "CVD Material Processing. Effect of O2 on Formation of Ar-O2 RF Plasma." KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU 26, nr 6 (2000): 792–97. http://dx.doi.org/10.1252/kakoronbunshu.26.792.
Pełny tekst źródłaHozumi, Atsushi, Hiroki Sekoguchi, Nobuhisa Sugimoto i Osamu Takai. "Transparent Water-repellent Films Containing Fluoro-alkyl Functions by RF Plasma-enhanced CVD". Transactions of the IMF 76, nr 2 (styczeń 1998): 51–53. http://dx.doi.org/10.1080/00202967.1998.11871194.
Pełny tekst źródłaTóth, A., M. Mohai, T. Ujvári i I. Bertóti. "Surface and nanomechanical properties of Si:C:H films prepared by RF plasma beam CVD". Diamond and Related Materials 14, nr 3-7 (marzec 2005): 954–58. http://dx.doi.org/10.1016/j.diamond.2005.01.017.
Pełny tekst źródła