Artykuły w czasopismach na temat „Resist film removal”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Sprawdź 48 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „Resist film removal”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.
Mercadier, Thomas, Philippe Garnier, Virginie Loup, Raluca Tiron, Song Zhang, Ayumi Higuchi i Naser Belmiloud. "Evaluation and Optimization of Particle Removal with a Resist Peeling Method". Solid State Phenomena 346 (14.08.2023): 268–74. http://dx.doi.org/10.4028/p-art4vs.
Pełny tekst źródłaSobhian, Mani. "The Role of Extreme Agitation in Accelerating the Removal Rate of Advanced Packaging Photoresists". Additional Conferences (Device Packaging, HiTEC, HiTEN, and CICMT) 2013, DPC (1.01.2013): 001389–416. http://dx.doi.org/10.4071/2013dpc-wp15.
Pełny tekst źródłaHollenbeck, J. L., i R. C. Buchanan. "Oxide thin films for nanometer scale electron beam lithography". Journal of Materials Research 5, nr 5 (maj 1990): 1058–72. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1990.1058.
Pełny tekst źródłaLee, Jong Han, Sang Won Shin, Young Suk Kwon, In Hoon Choi, Chung Nam Whang, Tae Gon Kim i Jong Han Song. "Magnetic Patterning of the Ni/Cu Thin Film by 40 keV O Ion Irradiation". Solid State Phenomena 124-126 (czerwiec 2007): 867–70. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.124-126.867.
Pełny tekst źródłaJimbo, Sadayuki, Kouji Shimomura, Tokuhisa Ohiwa, Makoto Sekine, Haruki Mori, Keiji Horioka i Haruo Okano. "Resist and Sidewall Film Removal after Al Reactive Ion Etching (RIE) Employing F+H2O Downstream Ashing". Japanese Journal of Applied Physics 32, Part 1, No. 6B (30.06.1993): 3045–50. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.32.3045.
Pełny tekst źródłaMikalsen Martinussen, Simen, Raimond N. Frentrop, Meindert Dijkstra i Sonia Maria Garcia-Blanco. "Redeposition-Free Deep Etching in Small KY(WO4)2 Samples". Micromachines 11, nr 12 (24.11.2020): 1033. http://dx.doi.org/10.3390/mi11121033.
Pełny tekst źródłaTomita, Hiroshi, Minako Inukai, Kaori Umezawa i Li Nan Ji. "Direct Observation of Single Bubble Cavitation Damage for MHz Cleaning". Solid State Phenomena 145-146 (styczeń 2009): 3–6. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.145-146.3.
Pełny tekst źródłaMuangtong, Piyanut, Righdan Mohsen Namus i Russell Goodall. "Improved Tribocorrosion Resistance by Addition of Sn to CrFeCoNi High Entropy Alloy". Metals 11, nr 1 (24.12.2020): 13. http://dx.doi.org/10.3390/met11010013.
Pełny tekst źródłaFarahani, Emad, Andre C. Liberati, Amirhossein Mahdavi, Pantcho Stoyanov, Christian Moreau i Ali Dolatabadi. "Ice Adhesion Evaluation of PTFE Solid Lubricant Film Applied on TiO2 Coatings". Coatings 13, nr 6 (6.06.2023): 1049. http://dx.doi.org/10.3390/coatings13061049.
Pełny tekst źródłaLimcharoen, Alonggot, Pichet Limsuwan, Chupong Pakpum i Krisda Siangchaew. "Characterisation of C–F Polymer Film Formation on the Air-Bearing Surface Etched Sidewall of Fluorine-Based Plasma Interacting with AL2O3–TiC Substrate". Journal of Nanomaterials 2013 (2013): 1–6. http://dx.doi.org/10.1155/2013/851489.
Pełny tekst źródłaPfeiffer, P., X. D. Zhang, D. Stümmler, S. Sanders, M. Weingarten, M. Heuken, A. Vescan i H. Kalisch. "Backside Contacting for Uniform Luminance in Large-Area OLED". MRS Advances 2, nr 42 (2017): 2275–80. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.175.
Pełny tekst źródłaSawada, Yasushi, Keiichi Yamazaki, Noriyuki Taguchi i Tetsuji Shibata. "Pretreatment of Blind Via Holes before Ni/Au and Cu Plating Applied with Atmospheric Pressure Plasma Jet". Journal of Microelectronics and Electronic Packaging 2, nr 3 (1.07.2005): 189–96. http://dx.doi.org/10.4071/1551-4897-2.3.189.
Pełny tekst źródłaAhner, Nicole, Sven Zimmermann, Matthias Schaller i Stefan E. Schulz. "Determination of Surface Energy Characteristics of Plasma Processed Ultra Low-K Dielectrics for Optimized Wetting in Wet Chemical Plasma Etch Residue Removal". Solid State Phenomena 195 (grudzień 2012): 110–13. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.195.110.
Pełny tekst źródłaEs-Souni, Mona, Martha Es-Souni, Hamzah Bakhti, Aydin Gülses, Helge Fischer-Brandies, Yahya Açil, Jörg Wiltfang i Christian Flörke. "A Bacteria and Cell Repellent Zwitterionic Polymer Coating on Titanium Base Substrates towards Smart Implant Devices". Polymers 13, nr 15 (27.07.2021): 2472. http://dx.doi.org/10.3390/polym13152472.
Pełny tekst źródłaMoore, John, Jared Pettit, Alex Brewer i Alman Law. "Temporary Bonding of Wafers, Displays, and Components". Additional Conferences (Device Packaging, HiTEC, HiTEN, and CICMT) 2015, DPC (1.01.2015): 1–68. http://dx.doi.org/10.4071/2015dpc-tp13.
Pełny tekst źródłaHoribe, H., M. Yamamoto, T. Maruoka, Y. Goto, A. Kono, I. Nishiyama i S. Tagawa. "Ion-implanted resist removal using atomic hydrogen". Thin Solid Films 519, nr 14 (maj 2011): 4578–81. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.01.287.
Pełny tekst źródłaChavez, K. L., i D. W. Hess. "Removal of Resist Materials Using Acetic Acid". Journal of The Electrochemical Society 150, nr 4 (2003): G284. http://dx.doi.org/10.1149/1.1557085.
Pełny tekst źródłaHoribe, Hideo, Masayuki Fujita i Akira Yoshikado. "Acrylic-Type Resist Removal Using 532 nm Laser Pulses". Journal of The Electrochemical Society 153, nr 7 (2006): G609. http://dx.doi.org/10.1149/1.2197767.
Pełny tekst źródłaGupta, Atul, Eric Snyder, Christiane Gottschalke, Kevin Wenzel, James Gunn, Hao Lu, Yuya Suzuki, Venky Sundaram i Rao Tummala. "First Demonstration of Fine Line RDL Yield Enhancement using an Innovative Ozone Treatment Process for Panel Fan-out and Interposers". Additional Conferences (Device Packaging, HiTEC, HiTEN, and CICMT) 2017, DPC (1.01.2017): 1–19. http://dx.doi.org/10.4071/2017dpc-tp1_presentation2.
Pełny tekst źródłaHollenbeck, J. L., i R. C. Buchanan. "Nanometer-scale structures produced in oxide films". Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 45 (sierpień 1987): 396–97. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100126779.
Pełny tekst źródłaHossain, Sylvia D., i Michael F. Pas. "Heated SC1 Solution for Selective Etching and Resist Particulate Removal". Journal of The Electrochemical Society 140, nr 12 (1.12.1993): 3604–6. http://dx.doi.org/10.1149/1.2221133.
Pełny tekst źródłaPavlova, T. V., V. M. Shevlyuga, B. V. Andryushechkin, G. M. Zhidomirov i K. N. Eltsov. "Local removal of silicon layers on Si(1 0 0)-2 × 1 with chlorine-resist STM lithography". Applied Surface Science 509 (kwiecień 2020): 145235. http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.145235.
Pełny tekst źródłaNoda, Seiji, Kazumasa Kawase, Hideo Horibe, Masaki Kuzumoto i Tatsuo Kataoka. "Development of a Method for Resist Removal by Ozone with Acetic Acid Vapor". Journal of The Electrochemical Society 152, nr 1 (2005): G73. http://dx.doi.org/10.1149/1.1833311.
Pełny tekst źródłaFurusawa, Takeshi, Noriyuki Sakuma, Daisuke Ryuzaki, Seiichi Kondo, Ken-ichi Takeda, Shuntaro Machida, Ryo Yoneyama i Kenji Hinode. "Direct Resist Removal Process from Copper-Exposed Vias for Low-Parasitic-Capacitance Interconnects". Journal of The Electrochemical Society 148, nr 4 (2001): G190. http://dx.doi.org/10.1149/1.1353580.
Pełny tekst źródłaChen, Y., D. S. Macintyre i S. Thoms. "A non-destructive method for the removal of residual resist in imprinted patterns". Microelectronic Engineering 67-68 (czerwiec 2003): 245–51. http://dx.doi.org/10.1016/s0167-9317(03)00184-9.
Pełny tekst źródłaKono, Akihiko, Yu Arai, Takeshi Maruoka, Masashi Yamamoto, Yousuke Goto, Seiji Takahashi, Takashi Nishiyama i Hideo Horibe. "High removal rate of cross-linked SU-8 resist using hydrogen radicals generated by tungsten hot-wire catalyzer". Thin Solid Films 562 (lipiec 2014): 632–37. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2014.04.062.
Pełny tekst źródłaLu, Ming, i Shaozhang Niu. "A Detection Approach Using LSTM-CNN for Object Removal Caused by Exemplar-Based Image Inpainting". Electronics 9, nr 5 (22.05.2020): 858. http://dx.doi.org/10.3390/electronics9050858.
Pełny tekst źródłaLi, X., H. Zhou, J. Abrokwah, P. Zurcher, K. Rajagopalan, W. Liu, R. Gregory, M. Passlack i I. G. Thayne. "Low damage ashing and etching processes for ion implanted resist and Si3N4 removal by ICP and RIE methods". Microelectronic Engineering 85, nr 5-6 (maj 2008): 966–68. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2007.12.056.
Pełny tekst źródłaKalai, Amina, Fadila Malek i Leila Bousmaha-Marroki. "Effect of Thymus ciliatus oil-based disinfectant solutions against bio-films formed by Bacillus cereus strains isolated from pasteurized-milk processing lines in Algeria". South Asian Journal of Experimental Biology 8, nr 1 (29.10.2018): 01–12. http://dx.doi.org/10.38150/sajeb.8(1).p01-12.
Pełny tekst źródłaP. Yu. Glagolev, G. D. Demin, N. A. Djuzhev, M. A. Makhiboroda i N. A. Filippo. "Study of the dynamics of heating anode units in a maskless nanolithograph based on an array of microfocus X-ray tubes". Technical Physics 92, nr 13 (2022): 2125. http://dx.doi.org/10.21883/tp.2022.13.52233.132-21.
Pełny tekst źródłaSun, Yong, i Richard Bailey. "Tribocorrosion Behavior of γ′-Fe4N Nitride Layer Formed on Mild Steel by Plasma Nitriding in Chloride-Containing Solution". Lubricants 11, nr 7 (29.06.2023): 281. http://dx.doi.org/10.3390/lubricants11070281.
Pełny tekst źródłaChang, Shih-Chia, i Jeffrey M. Kempisty. "Lift-off Methods for MEMS Devices". MRS Proceedings 729 (2002). http://dx.doi.org/10.1557/proc-729-u2.3.
Pełny tekst źródłaMatsubara, Y., K. Endo, T. Tatsumi i T. Horiuchi. "Adhesion of a-C:F during oxygen plasma annealing". MRS Proceedings 476 (1997). http://dx.doi.org/10.1557/proc-476-19.
Pełny tekst źródłaPremnath, Vijay Anirudh, i Chih-Hao Chang. "Investigation of polymer template removal techniques in three-dimensional thin-shell nanolattices". Journal of Vacuum Science & Technology B 41, nr 6 (17.10.2023). http://dx.doi.org/10.1116/6.0003036.
Pełny tekst źródłaBoumerzoug, Mohamed, Han Xu, Richard Bersin, Peter Mascher i Ginutis Balcaitis. "Removal of Titanium Oxide Grown on Titanium Nitride and Reduction of VIA Contact Resistance using a Modern Plasma Asher". MRS Proceedings 495 (1997). http://dx.doi.org/10.1557/proc-495-345.
Pełny tekst źródłaAdelung, Rainer, Mady Elbahri, Shiva Kumar Rudra, Abhijit Biswas, Seid Jebril, Rainer Kunz, Sebastian Wille i Michael Scharnberg. "Employing Thin Film Failure Mechanisms to Form Templates for Nano-electronics". MRS Proceedings 863 (2005). http://dx.doi.org/10.1557/proc-863-b7.3/o11.3.
Pełny tekst źródłaGuo, Hanwen, Xiaoying Chu, Yishun Guo, Jianhua Yang, Yingying Jin, Liyang Zhou, Yaou Peng, Qingying Wang, Fan Lu i Bailiang Wang. "A water transfer printing method for contact lenses surface 2D MXene modification to resist bacterial infection and inflammation". Science Advances 10, nr 15 (12.04.2024). http://dx.doi.org/10.1126/sciadv.adl3262.
Pełny tekst źródłaSandstrom, Clifford, i Tim Olson. "Mask-less Laser Direct Imaging & Adaptive Patterning for Fan-Out Heterogeneous Integration". IMAPSource Proceedings 2022, DPC (14.11.2023). http://dx.doi.org/10.4071/001c.90153.
Pełny tekst źródłaBorini, Stefano, Andrea M. Rossi, Luca Boarino i Giampiero Amato. "Etching Silicon Through an Effective Nanomask: An Electrochemical Way to Nanomachining". MRS Proceedings 872 (2005). http://dx.doi.org/10.1557/proc-872-j13.9.
Pełny tekst źródłaHockett, R. S., M. H. Herman, X. C. Mu i Li-Jia Ma. "Investigations of Residual Chlorine on Etched AlCu Metal Lines by Total Reflection X-Ray Fluorescence (TXRF)". MRS Proceedings 225 (1991). http://dx.doi.org/10.1557/proc-225-329.
Pełny tekst źródłaTian, Xiaoli, Fu Li, Zhenyuan Tang, Song Wang, Kangkang Weng, Dan Liu, Shaoyong Lu i in. "Crosslinking-induced patterning of MOFs by direct photo- and electron-beam lithography". Nature Communications 15, nr 1 (4.04.2024). http://dx.doi.org/10.1038/s41467-024-47293-6.
Pełny tekst źródłaHanevelt, Julia, Jelle F. Huisman, Laura W. Leicher, Miangela M. Lacle, Milan C. Richir, Paul Didden, Joost M. J. Geesing i in. "Limited wedge resection for T1 colon cancer (LIMERIC-II trial) – rationale and study protocol of a prospective multicenter clinical trial". BMC Gastroenterology 23, nr 1 (19.06.2023). http://dx.doi.org/10.1186/s12876-023-02854-9.
Pełny tekst źródłaMaras, Steven. "Reflections on Adobe Corporation, Bill Viola, and Peter Ramus while Printing Lecture Notes". M/C Journal 8, nr 2 (1.06.2005). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.2338.
Pełny tekst źródłaLevey, Nick. "“Analysis Paralysis”: The Suspicion of Suspicion in the Fiction of David Foster Wallace". M/C Journal 15, nr 1 (31.10.2011). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.383.
Pełny tekst źródłaHughes, Karen Elizabeth. "Resilience, Agency and Resistance in the Storytelling Practice of Aunty Hilda Wilson (1911-2007), Ngarrindjeri Aboriginal Elder". M/C Journal 16, nr 5 (28.08.2013). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.714.
Pełny tekst źródłaBallard, Su. "Information, Noise and et al." M/C Journal 10, nr 5 (1.10.2007). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.2704.
Pełny tekst źródłaLombard, Kara-Jane. "“To Us Writers, the Differences Are Obvious”". M/C Journal 10, nr 2 (1.05.2007). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.2629.
Pełny tekst źródłaMurphy, Ffion, i Richard Nile. "The Many Transformations of Albert Facey". M/C Journal 19, nr 4 (31.08.2016). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.1132.
Pełny tekst źródła