Artykuły w czasopismach na temat „Plasma immersion ion implantation”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Sprawdź 50 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „Plasma immersion ion implantation”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.
Mantese, Joseph V., Ian G. Brown, Nathan W. Cheung i George A. Collins. "Plasma-Immersion Ion Implantation". MRS Bulletin 21, nr 8 (sierpień 1996): 52–56. http://dx.doi.org/10.1557/s0883769400035727.
Pełny tekst źródłaThomae, Rainer W. "Plasma-immersion ion implantation". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 139, nr 1-4 (kwiecień 1998): 37–42. http://dx.doi.org/10.1016/s0168-583x(97)00952-x.
Pełny tekst źródłaMIREAULT, N., i G. G. ROSS. "MODIFICATION OF WETTING PROPERTIES OF PMMA BY IMMERSION PLASMA ION IMPLANTATION". Surface Review and Letters 15, nr 04 (sierpień 2008): 345–54. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x08011470.
Pełny tekst źródłaLieberman, M. A. "Model of plasma immersion ion implantation". Journal of Applied Physics 66, nr 7 (październik 1989): 2926–29. http://dx.doi.org/10.1063/1.344172.
Pełny tekst źródłaKondyurin, A., V. Karmanov i R. Guenzel. "Plasma immersion ion implantation of polyethylene". Vacuum 64, nr 2 (listopad 2001): 105–11. http://dx.doi.org/10.1016/s0042-207x(01)00381-5.
Pełny tekst źródłaLópez-Callejas, R., R. Valencia-Alvarado, A. E. Muñoz-Castro, O. G. Godoy-Cabrera i J. L. Tapia-Fabela. "Instrumentation for plasma immersion ion implantation". Review of Scientific Instruments 73, nr 12 (grudzień 2002): 4277–82. http://dx.doi.org/10.1063/1.1517144.
Pełny tekst źródłaCollins, G. A., R. Hutchings i J. Tendys. "Plasma immersion ion implantation of steels". Materials Science and Engineering: A 139 (lipiec 1991): 171–78. http://dx.doi.org/10.1016/0921-5093(91)90613-r.
Pełny tekst źródłaMändl, S., J. Brutscher, R. Günzel i W. Möller. "Ion energy distribution in plasma immersion ion implantation". Surface and Coatings Technology 93, nr 2-3 (wrzesień 1997): 234–37. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00051-0.
Pełny tekst źródłaKenny, M. J., L. S. Wielunski, J. Tendys i G. A. Collins. "A comparison of plasma immersion ion implantation with conventional ion implantation". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 80-81 (czerwiec 1993): 262–66. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(93)96120-2.
Pełny tekst źródłaYankov, Rossen A., i Stephan Mändl. "Plasma immersion ion implantation for silicon processing". Annalen der Physik 513, nr 4 (26.02.2001): 279–98. http://dx.doi.org/10.1002/andp.20015130401.
Pełny tekst źródłaLinder, B. P., i N. W. Cheung. "Plasma immersion ion implantation with dielectric substrates". IEEE Transactions on Plasma Science 24, nr 6 (1996): 1383–88. http://dx.doi.org/10.1109/27.553205.
Pełny tekst źródłaBrutscher, Jörg, Reinhard Günzel i Wolfhard Möller. "Sheath dynamics in plasma immersion ion implantation". Plasma Sources Science and Technology 5, nr 1 (1.02.1996): 54–60. http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/5/1/007.
Pełny tekst źródłaChen, S. M., R. M. Gwilliam i B. J. Sealy. "Computer simulation of Plasma Immersion Ion Implantation". Radiation Effects and Defects in Solids 141, nr 1-4 (czerwiec 1997): 149–59. http://dx.doi.org/10.1080/10420159708211566.
Pełny tekst źródłaZeng, Xuchu, Ricky K. Y. Fu, Dixon T. K. Kwok i Paul K. Chu. "Quasi-direct current plasma immersion ion implantation". Applied Physics Letters 79, nr 19 (5.11.2001): 3044–46. http://dx.doi.org/10.1063/1.1415404.
Pełny tekst źródłaOliveira, R. M., M. Ueda, J. O. Rossi, B. Diaz i K. Baba. "Plasma Immersion Ion Implantation With Lithium Atoms". IEEE Transactions on Plasma Science 36, nr 5 (październik 2008): 2572–76. http://dx.doi.org/10.1109/tps.2008.2004229.
Pełny tekst źródłaHuber, P., G. Keller, J. W. Gerlach, S. Mändl, W. Assmann i B. Rauschenbach. "Trench homogeneity in plasma immersion ion implantation". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 161-163 (marzec 2000): 1085–89. http://dx.doi.org/10.1016/s0168-583x(99)00825-3.
Pełny tekst źródłaSchiller, T. L., D. Sheeja, D. R. McKenzie, D. G. McCulloch, D. S. P. Lau, S. Burn i B. K. Tay. "Plasma immersion ion implantation of poly(tetrafluoroethylene)". Surface and Coatings Technology 177-178 (styczeń 2004): 483–88. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(03)00916-2.
Pełny tekst źródłaBlawert, C., i B. L. Mordike. "Industrial applications of plasma immersion ion implantation". Surface and Coatings Technology 93, nr 2-3 (wrzesień 1997): 274–79. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00060-1.
Pełny tekst źródłaMöller, Wolfhard, Stefano Parascandola, Olaf Kruse, Reinhard Günzel i Edgar Richter. "Plasma-immersion ion implantation for diffusive treatment". Surface and Coatings Technology 116-119 (wrzesień 1999): 1–10. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(99)00144-9.
Pełny tekst źródłaCheung, Nathan W. "Processing considerations with plasma immersion ion implantation". Surface and Coatings Technology 156, nr 1-3 (lipiec 2002): 24–30. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(02)00068-3.
Pełny tekst źródłaKondyurin, A., P. Volodin i J. Weber. "Plasma immersion ion implantation of Pebax polymer". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 251, nr 2 (październik 2006): 407–12. http://dx.doi.org/10.1016/j.nimb.2006.06.026.
Pełny tekst źródłaZeng, Zhaoming, Ricky K. Y. Fu, Xiubo Tian i Paul K. Chu. "Plasma immersion ion implantation of industrial gears". Surface and Coatings Technology 186, nr 1-2 (sierpień 2004): 260–64. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.02.048.
Pełny tekst źródłaTian, X. B., K. Y. Fu, P. K. Chu i S. Q. Yang. "Plasma immersion ion implantation of insulating materials". Surface and Coatings Technology 196, nr 1-3 (czerwiec 2005): 162–66. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.08.166.
Pełny tekst źródłaUeda, M., I. H. Tan, R. S. Dallaqua, J. O. Rossi, J. J. Barroso i M. H. Tabacniks. "Aluminum plasma immersion ion implantation in polymers". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 206 (maj 2003): 760–66. http://dx.doi.org/10.1016/s0168-583x(03)00844-9.
Pełny tekst źródłaGünzel, R., i J. Brutscher. "Sheath dynamics in plasma immersion ion implantation". Surface and Coatings Technology 85, nr 1-2 (listopad 1996): 98–104. http://dx.doi.org/10.1016/0257-8972(96)02883-6.
Pełny tekst źródłaChu, Paul K. "Semiconductor applications of plasma immersion ion implantation". Plasma Physics and Controlled Fusion 45, nr 5 (26.03.2003): 555–70. http://dx.doi.org/10.1088/0741-3335/45/5/304.
Pełny tekst źródłaCheung, N. W. "Plasma immersion ion implantation for semiconductor processing". Materials Chemistry and Physics 46, nr 2-3 (listopad 1996): 132–39. http://dx.doi.org/10.1016/s0254-0584(97)80006-5.
Pełny tekst źródłaChu, Paul K., i Nathan W. Cheung. "Microcavity engineering by plasma immersion ion implantation". Materials Chemistry and Physics 57, nr 1 (listopad 1998): 1–16. http://dx.doi.org/10.1016/s0254-0584(98)00211-9.
Pełny tekst źródłaEnsinger, W. "Semiconductor processing by plasma immersion ion implantation". Materials Science and Engineering: A 253, nr 1-2 (wrzesień 1998): 258–68. http://dx.doi.org/10.1016/s0921-5093(98)00734-5.
Pełny tekst źródłaJones, Erin C., Barry P. Linder i Nathan W. Cheung. "Plasma Immersion Ion Implantation for Electronic Materials". Japanese Journal of Applied Physics 35, Part 1, No. 2B (28.02.1996): 1027–36. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.35.1027.
Pełny tekst źródłaCheung, Nathan W. "Plasma immersion ion implantation for ULSI processing". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 55, nr 1-4 (kwiecień 1991): 811–20. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(91)96285-s.
Pełny tekst źródłaYankov, Rossen A., i Stephan Mändl. "Plasma immersion ion implantation for silicon processing". Annalen der Physik 10, nr 4 (kwiecień 2001): 279–98. http://dx.doi.org/10.1002/1521-3889(200104)10:4<279::aid-andp279>3.0.co;2-r.
Pełny tekst źródłaChu, Paul K. "Progress in direct-current plasma immersion ion implantation and recent applications of plasma immersion ion implantation and deposition". Surface and Coatings Technology 229 (sierpień 2013): 2–11. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.03.073.
Pełny tekst źródłaCollins, G. A., R. Hutchings, K. T. Short i J. Tendys. "Ion-assisted surface modification by plasma immersion ion implantation". Surface and Coatings Technology 103-104 (maj 1998): 212–17. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(98)00395-8.
Pełny tekst źródłaTian, X. B., i Paul K. Chu. "Multiple ion-focusing effects in plasma immersion ion implantation". Applied Physics Letters 81, nr 20 (11.11.2002): 3744–46. http://dx.doi.org/10.1063/1.1520716.
Pełny tekst źródłaCheng-Sen, Liu, Wang De-Zhen, Fan Yu-Jia, Zhang Nan, Guan Li i Yao Yuan. "Non-Uniformity of Ion Implantation in Direct-Current Plasma Immersion Ion Implantation". Chinese Physics Letters 27, nr 7 (lipiec 2010): 075201. http://dx.doi.org/10.1088/0256-307x/27/7/075201.
Pełny tekst źródłaQian, X. Y., N. W. Cheung, M. A. Lieberman, R. Brennan, M. I. Current i N. Jha. "Conformal implantation for trench doping with plasma immersion ion implantation". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 55, nr 1-4 (kwiecień 1991): 898–901. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(91)96303-3.
Pełny tekst źródłaZhi-Neng Fan, Qing-Chuan Chen, P. K. Chu i Chung Chan. "Low pressure plasma immersion ion implantation of silicon". IEEE Transactions on Plasma Science 26, nr 6 (1998): 1661–68. http://dx.doi.org/10.1109/27.747884.
Pełny tekst źródłaChen, S. M., R. M. Gwilliam i B. J. Sealy. "MOS device fabrication via plasma immersion ion implantation". Solid-State Electronics 41, nr 4 (kwiecień 1997): 535–37. http://dx.doi.org/10.1016/s0038-1101(96)00218-3.
Pełny tekst źródłaTan, I. H., M. Ueda, R. S. Dallaqua, J. O. Rossi, A. F. Beloto i E. Abramof. "Magnesium plasma immersion ion implantation on silicon wafers". Surface and Coatings Technology 169-170 (czerwiec 2003): 379–83. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(03)00053-7.
Pełny tekst źródłaShao, Jiqun, Erin C. Jones i Nathan W. Cheung. "Shallow junction formation by plasma immersion ion implantation". Surface and Coatings Technology 93, nr 2-3 (wrzesień 1997): 254–57. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00055-8.
Pełny tekst źródłaDavis, J., K. Short, R. Wuhrer, M. Phillips i K. Whittle. "Plasma Immersion Ion Implantation of Stainless Steel 316". Microscopy and Microanalysis 17, S2 (lipiec 2011): 1886–87. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927611010300.
Pełny tekst źródłaThorwarth, G., S. Mändl i B. Rauschenbach. "Plasma immersion ion implantation of cold-work steel". Surface and Coatings Technology 125, nr 1-3 (marzec 2000): 94–99. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(99)00605-2.
Pełny tekst źródłaMändl, S., D. Krause, G. Thorwarth, R. Sader, F. Zeilhofer, H. H. Horch i B. Rauschenbach. "Plasma immersion ion implantation treatment of medical implants". Surface and Coatings Technology 142-144 (lipiec 2001): 1046–50. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(01)01066-0.
Pełny tekst źródłaMändl, Stephan, i Darina Manova. "Modification of metals by plasma immersion ion implantation". Surface and Coatings Technology 365 (maj 2019): 83–93. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.04.039.
Pełny tekst źródłaKondyurin, A., B. K. Gan, M. M. M. Bilek, D. R. McKenzie, K. Mizuno i R. Wuhrer. "Argon plasma immersion ion implantation of polystyrene films". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 266, nr 7 (kwiecień 2008): 1074–84. http://dx.doi.org/10.1016/j.nimb.2008.02.063.
Pełny tekst źródłaUeda, M., M. M. Silva, C. M. Lepienski, P. C. Soares, J. A. N. Gonçalves i H. Reuther. "High temperature plasma immersion ion implantation of Ti6Al4V". Surface and Coatings Technology 201, nr 9-11 (luty 2007): 4953–56. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2006.07.074.
Pełny tekst źródłaYankov, R. A., N. Shevchenko, A. Rogozin, M. F. Maitz, E. Richter, W. Möller, A. Donchev i M. Schütze. "Reactive plasma immersion ion implantation for surface passivation". Surface and Coatings Technology 201, nr 15 (kwiecień 2007): 6752–58. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2006.09.010.
Pełny tekst źródłaValcheva, E., S. Dimitrov, D. Manova, S. Mändl i S. Alexandrova. "AlN nanoclusters formation by plasma ion immersion implantation". Surface and Coatings Technology 202, nr 11 (luty 2008): 2319–22. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.08.051.
Pełny tekst źródłaCollins, G. A., R. Hutchings i J. Tendys. "Plasma immersion ion implantation—the role of diffusion". Surface and Coatings Technology 59, nr 1-3 (październik 1993): 267–73. http://dx.doi.org/10.1016/0257-8972(93)90095-6.
Pełny tekst źródła