Zaloguj się

Gotowe bibliografie tematyczne / Novolak / Artykuły w czasopismach

Kliknij ten link, aby zobaczyć inne rodzaje publikacji na ten temat: Novolak.

Artykuły w czasopismach na temat „Novolak”

Autor: Grafiati

Data publikacji: 4 czerwca 2021

Data aktualizacji: 7 lutego 2022

Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych

Wybierz rodzaj źródła:

Sprawdź 50 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „Novolak”.

Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.

Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.

Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.

1

Rokhati, Nur, i Aji Prasetyaningrum. "PEMBUATAN RESIN PHENOL FORMALDEHID TERHADAP APLIKASINYA SEBAGAI VERNIS". Reaktor 12, nr 1 (8.04.2008): 42. http://dx.doi.org/10.14710/reaktor.12.1.42-47.

Pełny tekst źródła

Streszczenie:

Phenol formaldehid termasuk kelompok resin sintetis yang dihasilkan dari reaksi polimerisasi antara phenol dengan formaldehid. Ada dua jenis resin phenol formaldehid yaitu : novolak yang bersifat termoplast dan resol yang bersifat termoset. Phenol formaldehid dapat diaplikasikan sebagai vernis karena dapat membentuk lapisan film yang kering.Penelitian dilakukan dengan mereaksikan phenol dan formaldehid dengan pH dan perbandingan mol bervariasi. Jenis novolak dibuat pada suasana asam dengan penambahan HCl, suhu 900C, dan waktu reaksi 5 jam, sedangkan jenis resol dibuat pada suasana basa dengan penambahan NaOH, suhu 800C dan waktu reaksi 3 jam. Hasil resin phenol formaldehid diaplikasikan sebagai vernis pada kayu jati. Hasil penelitian menunjukkan bahwa dengan bertambahnya pH dan perbandingan reaktan, waktu kering semakin lama. Kondisi optimum jenis novolak diperoleh pada pH 2,5 dan perbandingan reaktan 1 : 0,8, sedangkan untuk jenis resol dicapai pada pH 10 dan perbandingan mol reaktan 1 : 2. Aplikasi jenis novolak sebagai vernis kayu menghasilkan warna yang lebih cerah (tingkat gloss tinggi) dibanding dengan jenis resol

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

2

Hawkins, E. G. E. "Degradation of novolak resins". Journal of Applied Chemistry 6, nr 4 (4.05.2007): 131–39. http://dx.doi.org/10.1002/jctb.5010060402.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

3

Li, Gai Yun, i Te Fu Qin. "Novolak Type Phenol Formaldehyde Resin from Waste Brown-Rotted Wood". Advanced Materials Research 217-218 (marzec 2011): 490–94. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.217-218.490.

Pełny tekst źródła

Streszczenie:

The waste brown-rotted wood was liquefied in phenol with phosphoric acid as a catalyst and the resulting liquefied products were condensed with formaldehyde to yield novolak liquefied wood-based phenol formaldehyde resin (LWF). The results showed that brown-rotted wood could be almost completely liquefied within 0.5 h at phenol to wood (P/W) ratio 2. An increase in P/W ratio from 2 to 3 slightly improved the flow property of LWF, but accompanied by decreasing the product yield from approximately 140 to 120 %. The increase of liquefaction time from 30 min to 60 min did not have a significant influence on the resulting LWF. The thermofluidity of LWF were compared to that of the commercial novolak PF resin, and could be used to make moldings with similar thermal property and mechanical properties to those obtained from the conventional novolak PF resin.

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

4

Shih, Hsiao-Yi, i Arnost Reiser. "Percolation View of Novolak Dissolution. 6. The Acceleration of Novolak Dissolution by Phenolic Additives". Macromolecules 30, nr 13 (czerwiec 1997): 3855–59. http://dx.doi.org/10.1021/ma9700800.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

5

WANG, Xiuxun, Hiromu SAITO i Takashi INOUE. "Miscibility of Polyoxymethylene with Novolak Resin." KOBUNSHI RONBUNSHU 48, nr 7 (1991): 443–47. http://dx.doi.org/10.1295/koron.48.443.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

6

Wanat, Stanley F. "Novolak resins and the microelectronic revolution". Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 7, nr 3 (1.07.2008): 033008. http://dx.doi.org/10.1117/1.2968268.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

7

Yamagishi, Tada-Aki, Masahiro Nomoto, Shouhei Yamashita, Toshio Yamazaki, Yoshiaki Nakamoto i Shin-ichiro Ishida. "Characterization of high molecular weight novolak". Macromolecular Chemistry and Physics 199, nr 3 (1.03.1998): 423–28. http://dx.doi.org/10.1002/(sici)1521-3935(19980301)199:3<423::aid-macp423>3.0.co;2-n.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

8

Bajdur, Wioletta M., i Wies?aw W. Su?kowski. "Polyelectrolytes from NS-novolak production waste". Journal of Applied Polymer Science 89, nr 11 (27.06.2003): 3000–3005. http://dx.doi.org/10.1002/app.12425.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

9

Paniez, P., A. Schiltz, M. J. Bouzid i E. Dechenaux. "Thermal flow properties of novolak polymers". Microelectronic Engineering 9, nr 1-4 (maj 1989): 585–89. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(89)90125-1.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

10

Horibe, Hideo. "Novolak Resist Removal Using Laser (266/532nm)". Journal of Photopolymer Science and Technology 18, nr 6 (2005): 665–71. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.18.665.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

11

ZHENG, Hongfei, Zhihong LI i Yumei ZHU. "Bismaleimide Modified by Allyl Novolak for Superabrasives". Chinese Journal of Chemical Engineering 15, nr 2 (marzec 2007): 302–4. http://dx.doi.org/10.1016/s1004-9541(07)60075-5.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

12

Reiser, A., J. P. Huang, X. He, T. F. Yeh, S. Jha, H. Y. Shih, M. S. Kim, Y. K. Han i K. Yan. "The molecular mechanism of novolak–diazonaphthoquinone resists". European Polymer Journal 38, nr 4 (kwiecień 2002): 619–29. http://dx.doi.org/10.1016/s0014-3057(01)00230-0.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

13

Huang, Jian Ping, T. K. Kwei i Arnost Reiser. "The dissolution of novolak in aqueous alkali". Macromolecules 22, nr 10 (październik 1989): 4106–12. http://dx.doi.org/10.1021/ma00200a051.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

14

Paniez, P., i G. Amblard. "Commercial dyes for novolak based multilayer systems". Microelectronic Engineering 5, nr 1-4 (grudzień 1986): 321–27. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(86)90060-2.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

15

Dante, Roberto, Roberto Dante, Andrea Sliepcevich, Marco Andreoni, Mario Cotilli i Mario Cotilli. "Interference between Tin Sulfides, Graphite and Novolak Oxidation". SAE International Journal of Materials and Manufacturing 11, nr 1 (7.03.2017): 89–93. http://dx.doi.org/10.4271/05-11-01-0009.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

16

Kojima, Yoshikatsu, Yukinori Ochiai i Shinji Matsui. "Focused Ion Beam Lithography Using Novolak-Based Resist". Japanese Journal of Applied Physics 27, Part 2, No. 9 (20.09.1988): L1780—L1782. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.27.l1780.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

17

Yeh, Tung Feng, Hsiao Yi Shih i Arnost Reiser. "Percolation view of novolak dissolution and dissolution inhibition". Macromolecules 25, nr 20 (wrzesień 1992): 5345–52. http://dx.doi.org/10.1021/ma00046a037.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

18

Cirino, Giuseppe Antonio, Ana Paula Mousinho, Ronaldo Domingues Mansano, Patrick Verdonck, Luiz Goncalves Neto i Antonio Carlos Seabra. "Fabrication of Microlenses With a Novolak-type Polymer". Molecular Crystals and Liquid Crystals 374 (2002): 153–58. http://dx.doi.org/10.1080/713738256.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

19

Yoshimura, Toshiyuki, Naoko Asai, Hiroshi Shiraishi, Minoru Toriumi i Shinji Okazaki. "Formation of Fractionated Novolak Resin Langmuir-Blodgett Films". Japanese Journal of Applied Physics 32, Part 2, No. 4B (15.04.1993): L631—L632. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.32.l631.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

20

Reiser, Arnost, Hsiao-Yi Shih, Tung-Feng Yeh i Jian-Ping Huang. "Novolak-Diazochinon-Photoresiste: abbildende Systeme für den Computerchip". Angewandte Chemie 108, nr 21 (6.11.1996): 2610–22. http://dx.doi.org/10.1002/ange.19961082105.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

21

Simitzis, Johannis. "Composites von novolak-lignit zur herstellung von aktivkohle". Angewandte Makromolekulare Chemie 148, nr 1 (luty 1987): 41–52. http://dx.doi.org/10.1002/apmc.1987.051480104.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

22

Lüders, Günter, Harald Goering, Martina Pohl i Heinz Raubach. "Struktur und eigenschaften von simultanvernetzten bismaleimidmodifizierten novolak-epoxidharzen". Angewandte Makromolekulare Chemie 194, nr 1 (styczeń 1992): 119–31. http://dx.doi.org/10.1002/apmc.1992.051940110.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

23

Lingnau, J., R. Dammel i J. Theis. "Highly sensitive novolak-based X-ray positive resist". Polymer Engineering and Science 29, nr 13 (lipiec 1989): 874–77. http://dx.doi.org/10.1002/pen.760291309.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

24

Hanabata, Makoto, Fumio Oi i Akihiro Furuta. "Novolak design concept for high performance positive photoresists". Polymer Engineering and Science 32, nr 20 (październik 1992): 1494–99. http://dx.doi.org/10.1002/pen.760322009.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

25

CIRINO, GIUSEPPE ANTONIO, ANA PAULA MOUSINHO, RONALDO DOMINGUES MANSANO, PATRICK VERDONCK, LUIZ GONçALVES NETO i ANTONIO CARLOS SEABRA. "Fabrication of Microlenses With a Novolak-type Polymer". Molecular Crystals and Liquid Crystals 374, nr 1 (1.01.2002): 153–58. http://dx.doi.org/10.1080/10587250210432.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

26

Weill, A., E. Dechenaux i P. Paniez. "Differential scanning calorimetry analysis of novolak-based photoresists". Microelectronic Engineering 4, nr 4 (styczeń 1986): 285–96. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(86)90019-5.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

27

Dössel, K. F., H. L. Huber i H. Oertel. "Highly-sensitive novolak-based positive X-ray resist". Microelectronic Engineering 5, nr 1-4 (grudzień 1986): 97–104. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(86)90035-3.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

28

Chaker, M., S. Boily, H. Lafontaine, P. P. Mercier, J. F. Currie, J. C. Kieffer i H. Pepin. "Laser plasma x-ray lithography using novolak resists". Microelectronic Engineering 11, nr 1-4 (kwiecień 1990): 313–16. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(90)90121-9.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

29

Mathurosemontri, Suchalinee, Kentaro Okuno, Yoichiro Ogura, Supaphorn Thumsorn i Hiroyuki Hamada. "Investigation on Fracture Behavior of Glass Fiber Reinforced Thermoplstic and Thermosetting Composites". Key Engineering Materials 728 (styczeń 2017): 235–39. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.728.235.

Pełny tekst źródła

Streszczenie:

Glass fiber reinforced thermoplastics and thermosetting composites were prepared in this study. Commercial grades of 20% glass fiber filled polypropylene, polyoxymethylene, polyamide 6 and polycarbonate were injection molded to dumbbell specimens. The specimens are referred as GF/PP, GF/POM, GF/PA and GF/PC, respectively. 55% GF reinforced novolak composites were fabricated by hand lay-up, which different curing times of 20 s, 35 s and 50 s. Mechanical properties, fracture behavior and morpgology of GF composites with and without notched were investigated. GF/PA showed the highest properties of tensile properties, notched strength and fracture toughness as compared to all of GF reinforced thermoplastics in this research. On the other hand, tensile properties and fracture toughness of GF reinforced novolak increased with increasing curing times. SEM photographs indicated ductile fractured surface near the crack edge while their brittle appeared at far of the crack in GF reinforced thermoplastics. It can be noted that notched sensitivity of GF reinforced thermoplastics was lower than GF reinforced thermosetting composites.

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

30

Yeh, Tung-Feng, Jian Ping Huang, Arnost Reiser, Kenji Honda, Bernard T. Beauchemin, Jr. i Rodney J. Hurditch. "The interaction of novolak oligomers with hydrogen bond acceptors." Journal of Photopolymer Science and Technology 7, nr 1 (1994): 229–40. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.7.229.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

31

Kozawa, Takahiro, Mitsuru Uesaka, Takeo Watanabe, Yoshio Yamashita, Yoichi Yoshida i Seiichi Tagawa. "Radiation-induced reactions in novolak-based chemically amplified resists." Journal of Photopolymer Science and Technology 8, nr 1 (1995): 37–42. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.8.37.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

32

Samatadze, A. I., I. V. Parakhin i A. S. Tumanov. "SOLID RESOL-NOVOLAK RESINS AND COMPOSITION ON THEIR BASED". Proceedings of VIAM, nr 9 (wrzesień 2014): 10. http://dx.doi.org/10.18577/2307-6046-2014-0-9-10-10.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

33

HANABATA, Makoto, i Akihiro FURUTA. "Applications of high-ortho novolak resins to photoresist materials." KOBUNSHI RONBUNSHU 45, nr 10 (1988): 803–8. http://dx.doi.org/10.1295/koron.45.803.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

34

Bogan, Leonard E. "The novolak synthesis reaction: a description based on reactivities". Macromolecules 25, nr 7 (marzec 1992): 1966–69. http://dx.doi.org/10.1021/ma00033a021.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

35

Reiser, Arnost, Zhenglin Yan, Yu-Kai Han i Myoung Soo Kim. "Novolak–diazonaphthoquinone resists: The central role of phenolic strings". Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 18, nr 3 (2000): 1288. http://dx.doi.org/10.1116/1.591376.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

36

Jones, T. T. "The melt-viscosity of some phenol-formaldehyde novolak resins". Journal of Applied Chemistry 2, nr 3 (4.05.2007): 134–49. http://dx.doi.org/10.1002/jctb.5010020306.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

37

Böschel, Dorit, i Manfred Fedtke. "Zum reaktionsverhalten von resol- und novolak-modellen mit säureanhydriden". Angewandte Makromolekulare Chemie 220, nr 1 (marzec 1994): 163–76. http://dx.doi.org/10.1002/apmc.1994.052200114.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

38

Nakano, Ritsuko, Minoru Hirose, Nobuaki Santoh, Kenji Nakagawa i Kazumasa Shigematsu. "Effect of Low-Molecular-Weight Novolak Resin on Microgrooves". Japanese Journal of Applied Physics 30, Part 1, No. 11B (30.11.1991): 3121–24. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.30.3121.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

39

Shih, Hsiao-Yi, Tung-Feng Yeh, Arnost Reiser, Ralph R. Dammel, Hans J. Merrem i Gerhard Pawlowski. "A Percolation View of Novolak Dissolution. 3. Dissolution Inhibition". Macromolecules 27, nr 12 (czerwiec 1994): 3330–36. http://dx.doi.org/10.1021/ma00090a029.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

40

Yamagishi, Tada-Aki, Masahiro Nomoto, Shingo Ito, Shin-ichiro Ishida i Yoshiaki Nakamoto. "Preparation and characterization of high molecular weight novolak resins". Polymer Bulletin 32, nr 5-6 (maj 1994): 501–7. http://dx.doi.org/10.1007/bf00973894.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

41

Jagdhold, U., i J. Pelka. "Passivation effects in novolak based resists during O2-RIE". Microelectronic Engineering 17, nr 1-4 (marzec 1992): 331–35. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(92)90068-3.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

42

Furuta, A., i M. Hanabata. "Novolak structures suitable for high resolution positive photoresists and application." Journal of Photopolymer Science and Technology 2, nr 3 (1989): 383–90. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.2.383.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

43

Sheats, J. R. "Reciprocity failure in novolak/diazoquinone photoresist with 364-nm exposure". IEEE Transactions on Electron Devices 35, nr 1 (styczeń 1988): 129–31. http://dx.doi.org/10.1109/16.2428.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

44

Lee, Haiwon, Seok-Kyu Lee i Byung-Sun Park. "Novolak Based Resists for X-ray and Electron Beam Lithography." Journal of Photopolymer Science and Technology 5, nr 1 (1992): 197–205. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.5.197.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

45

WANG, Xiuxun, Hiromu SAITO i Takashi INOUE. "Crystallization Kinetics of Binary Mixtures of Polyoxymethylene and Novolak Resin." KOBUNSHI RONBUNSHU 48, nr 12 (1991): 771–74. http://dx.doi.org/10.1295/koron.48.771.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

46

WANG, Xiuxun, Hiromu SAITO i Takashi INOUE. "Crystal Morphology of Binary Mixtures of Polyoxymethylene and Novolak Resin." KOBUNSHI RONBUNSHU 49, nr 3 (1992): 175–79. http://dx.doi.org/10.1295/koron.49.175.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

47

McKean, Dennis R., Scott A. MacDonald, Robert D. Johnson, Nicholas J. Clecak i C. Grant Willson. "Characterization of a Novolak-based three-component deep-UV resist". Chemistry of Materials 2, nr 5 (wrzesień 1990): 619–24. http://dx.doi.org/10.1021/cm00011a027.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

48

Han, Yu-Kai, Zhenglin Yan i Arnost Reiser. "Mechanism of the Trefonas Effect (Polyphotolysis) in Novolak−Diazonaphthoquinone Resists". Macromolecules 32, nr 25 (grudzień 1999): 8421–26. http://dx.doi.org/10.1021/ma990686j.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

49

Nicolau, Dan V., Takahisa Taguchi, Hiroshi Taniguchi i Susumu Yoshikawa. "Micron-Sized Protein Patterning on Diazonaphthoquinone/Novolak Thin Polymeric Films". Langmuir 14, nr 7 (marzec 1998): 1927–36. http://dx.doi.org/10.1021/la970802g.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

50

Horibe, Hideo, Tomosumi Kamimura, Takashi Hata, Masashi Yamamoto, Ichiro Yamato, Osamu Nigo, Masayuki Fujita, Akira Yoshikado i Kunio Yoshida. "Removal of Diazonaphthoquinone/Novolak Resist Using UV Laser (266 nm)". Polymer Journal 37, nr 11 (listopad 2005): 813–17. http://dx.doi.org/10.1295/polymj.37.813.

Pełny tekst źródła

Style APA, Harvard, Vancouver, ISO itp.

Oferujemy zniżki na wszystkie plany premium dla autorów, których prace zostały uwzględnione w tematycznych zestawieniach literatury. Skontaktuj się z nami, aby uzyskać unikalny kod promocyjny!