Artykuły w czasopismach na temat „Lithography”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Sprawdź 50 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „Lithography”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.
Vandаlovskyi, V. "Artistic and technical features of the lithographic manner mixed technique". Research and methodological works of the National Academy of Visual Arts and Architecture, nr 27 (27.02.2019): 92–98. http://dx.doi.org/10.33838/naoma.27.2018.92-98.
Pełny tekst źródłaKwon, B., i Jong H. Kim. "Importance of Molds for Nanoimprint Lithography: Hard, Soft, and Hybrid Molds". Journal of Nanoscience 2016 (22.06.2016): 1–12. http://dx.doi.org/10.1155/2016/6571297.
Pełny tekst źródłaWen, Zaoxia, Xingyu Liu, Wenxiu Chen, Ruolin Zhou, Hao Wu, Yongmei Xia i Lianbin Wu. "Progress in Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane (POSS) Photoresists: A Comprehensive Review across Lithographic Systems". Polymers 16, nr 6 (19.03.2024): 846. http://dx.doi.org/10.3390/polym16060846.
Pełny tekst źródłaLund, Sarah E. "Fossils: Lithography’s Porous Time and Eugène Delacroix’s Faust Marginalia". Nineteenth Century Studies 35 (listopad 2023): 1–32. http://dx.doi.org/10.5325/ninecentstud.35.0001.
Pełny tekst źródłaPrakoso, Emmanuel Putro, Inovensius Hugo Bima Wicaksana, Nick Soedarso i Rina Carina. "TEKNIK CETAK DATAR KITCHEN LITHOGRAPY SEBAGAI MEDIA EKSPRESI DESAIN PADA METODE REPRODUKSI GRAFIKA". Jurnal Dimensi DKV Seni Rupa dan Desain 4, nr 2 (1.10.2019): 155. http://dx.doi.org/10.25105/jdd.v4i2.5888.
Pełny tekst źródłaWu, Yu, i Zihao Xiao. "The Recent Progress of Lithography Machine and the State-of-art Facilities". Highlights in Science, Engineering and Technology 5 (7.07.2022): 155–65. http://dx.doi.org/10.54097/hset.v5i.737.
Pełny tekst źródłaVoznyuk G. V., Grigorenko I. N., Mitrofanov M. I., Nikolaev V. V. i Evtikhiev V. P. "Subwave textured surfaces for the radiation coupling from the waveguide". Technical Physics Letters 48, nr 3 (2022): 76. http://dx.doi.org/10.21883/tpl.2022.03.52896.19103.
Pełny tekst źródłaSharma, Ekta, Reena Rathi, Jaya Misharwal, Bhavya Sinhmar, Suman Kumari, Jasvir Dalal i Anand Kumar. "Evolution in Lithography Techniques: Microlithography to Nanolithography". Nanomaterials 12, nr 16 (11.08.2022): 2754. http://dx.doi.org/10.3390/nano12162754.
Pełny tekst źródłaZhang, Zhen. "Optimization of Triple Periodic Bilayer Stacks and Aerial Image Performance Analysis". International Journal of Electronics and Electrical Engineering 8, nr 3 (wrzesień 2020): 53–57. http://dx.doi.org/10.18178/ijeee.8.3.53-57.
Pełny tekst źródłaSeo, Manseung, Haeryung Kim i Masahiko Onosato. "Lithography Using a Microelectronic Mask". Journal of Robotics and Mechatronics 18, nr 6 (20.12.2006): 816–23. http://dx.doi.org/10.20965/jrm.2006.p0816.
Pełny tekst źródłaPanzarasa, Guido, i Guido Soliveri. "Photocatalytic Lithography". Applied Sciences 9, nr 7 (27.03.2019): 1266. http://dx.doi.org/10.3390/app9071266.
Pełny tekst źródłaChoi, Young Joo, Ran Namgung, Jun Soo Kim, Dae Seok Song, Hyeon Park, Shin-hyo Bae, Min-Ki Chon i in. "Stochastic defect removal coating for high-performance extreme ultraviolet lithography". Journal of Vacuum Science & Technology B 40, nr 4 (lipiec 2022): 042602. http://dx.doi.org/10.1116/6.0001723.
Pełny tekst źródłaMeijer, Rob, Peter Thomson i Lysbeth Croiset van Uchelen-Brouwer. "The History of the Lithographie Royale, 1818-25". Quaerendo 31, nr 4 (2001): 281–306. http://dx.doi.org/10.1163/157006901x00173.
Pełny tekst źródłaPugachev, Mikhail V., Aliaksandr I. Duleba, Arslan A. Galiullin i Aleksandr Y. Kuntsevich. "Micromask Lithography for Cheap and Fast 2D Materials Microstructures Fabrication". Micromachines 12, nr 8 (21.07.2021): 850. http://dx.doi.org/10.3390/mi12080850.
Pełny tekst źródłaTsarik, K. A. "Focused Ion Beam Exposure of Ultrathin Electron-Beam Resist for Nanoscale Field-Effect Transistor Contacts Formation". Proceedings of Universities. Electronics 26, nr 5 (2021): 353–62. http://dx.doi.org/10.24151/1561-5405-2021-26-5-353-362.
Pełny tekst źródłaYonghui Zhang, Yonghui Zhang, Zihui Zhang Zihui Zhang, Chong Geng Chong Geng, Shu Xu Shu Xu, Tongbo Wei Tongbo Wei i and Wen'gang Bi and Wen'gang Bi. "Versatile nanosphere lithography technique combining multiple-exposure nanosphere lens lithography and nanosphere template lithography". Chinese Optics Letters 15, nr 6 (2017): 062201–62205. http://dx.doi.org/10.3788/col201715.062201.
Pełny tekst źródłaLi, Mu Jun, Hui Chun Ye i Lian Guan Shen. "A Fast Method for Analyzing the Effect of Mask Error on Photolithography Pattern Quality". Advanced Materials Research 291-294 (lipiec 2011): 3097–102. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.291-294.3097.
Pełny tekst źródłaDiaconu-Catan, Oxana. "The value of lithography in artistic creation". Studiul artelor şi culturologie: istorie, teorie, practică, nr 1(44) (luty 2024): 66–73. http://dx.doi.org/10.55383/amtap.2023.1.12.
Pełny tekst źródłaMullen, Eleanor, i Michael A. Morris. "Green Nanofabrication Opportunities in the Semiconductor Industry: A Life Cycle Perspective". Nanomaterials 11, nr 5 (22.04.2021): 1085. http://dx.doi.org/10.3390/nano11051085.
Pełny tekst źródłaPark, Sang Wook, Hyun Jin Yoon, Hee Young Oh, Yong Il Kim, Gi Jin Kwun i Hai Won Lee. "Synthesis of Resists Containing a Photoacid Generator Group for Atomic Force Microscope Lithography". Solid State Phenomena 121-123 (marzec 2007): 697–700. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.121-123.697.
Pełny tekst źródłaLiu, Fan, Guo Dong Gu, Chun Hong Zeng, Hai Jun Li, Wei Wang, Bao Shun Zhang i Jin She Yuan. "Fabrication of 50nm T-Gate on GaN Substrate". Advanced Materials Research 482-484 (luty 2012): 2341–44. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.482-484.2341.
Pełny tekst źródłaFallica, Roberto. "Beyond grayscale lithography: inherently three-dimensional patterning by Talbot effect". Advanced Optical Technologies 8, nr 3-4 (26.06.2019): 233–40. http://dx.doi.org/10.1515/aot-2019-0005.
Pełny tekst źródłaAtthi, Nithi, Areerat Sriklad, Wutthinan Jeamsaksiri, Charndet Hruanun, Amporn Poyai i Rardchawadee Silapunt. "Trimming Lithography: An Alternative Technology for Sub-Resolution and Sub-Wavelength Patterning". ECTI Transactions on Electrical Engineering, Electronics, and Communications 10, nr 2 (10.04.2012): 198–207. http://dx.doi.org/10.37936/ecti-eec.2012102.170419.
Pełny tekst źródłaStewart, Michael D., i C. Grant Willson. "Imprint Materials for Nanoscale Devices". MRS Bulletin 30, nr 12 (grudzień 2005): 947–51. http://dx.doi.org/10.1557/mrs2005.248.
Pełny tekst źródłaSHEN, T. C. "ROLE OF SCANNING PROBES IN NANOELECTRONICS: A CRITICAL REVIEW". Surface Review and Letters 07, nr 05n06 (październik 2000): 683–88. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x00000695.
Pełny tekst źródłaVoznesenskiy, Sergey, i Aleksandr Nepomnyaschiy. "Dose Characteristics of Multilayer Chitosan-Metal-Dielectric Nanostructures for Electronic Nanolithography". Solid State Phenomena 245 (październik 2015): 195–99. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.245.195.
Pełny tekst źródłaSievers, Gianni. "Learning How to Print in Colonial North India: The Nizami Press in Budaun and the First Urdu Manual on the Art of Lithography". Philological Encounters 8, nr 1 (16.03.2023): 73–109. http://dx.doi.org/10.1163/24519197-bja10038.
Pełny tekst źródłaBorodin, B. R., F. A. Benimetskiy i P. A. Alekseev. "Mechanical frictional scanning probe lithography of TMDCs". Journal of Physics: Conference Series 2103, nr 1 (1.11.2021): 012090. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/2103/1/012090.
Pełny tekst źródłaDING, Yucheng. "Next generation lithography——imprint lithography". Chinese Journal of Mechanical Engineering 43, nr 03 (2007): 1. http://dx.doi.org/10.3901/jme.2007.03.001.
Pełny tekst źródłaNalivaiko, V. I., i M. A. Ponomareva. "Promising developments of chalcogenide nanoresists for optical, x-ray and electron beam lithography". Interexpo GEO-Siberia 8, nr 1 (18.05.2022): 33–36. http://dx.doi.org/10.33764/2618-981x-2022-8-1-33-36.
Pełny tekst źródłaZhang, Yuhang, Guanghui He, Feng Zhang, Yongfu Li i Guoxing Wang. "The study of lithographic variation in resistive random access memory". Journal of Semiconductors 45, nr 5 (1.05.2024): 052303. http://dx.doi.org/10.1088/1674-4926/45/5/052303.
Pełny tekst źródłaWATT, F., A. A. BETTIOL, J. A. VAN KAN, E. J. TEO i M. B. H. BREESE. "ION BEAM LITHOGRAPHY AND NANOFABRICATION: A REVIEW". International Journal of Nanoscience 04, nr 03 (czerwiec 2005): 269–86. http://dx.doi.org/10.1142/s0219581x05003139.
Pełny tekst źródłade Kerkhof, Mark van, Edgar Osorio, Vladimir Krivtsun, Maxim Spiridonov, Dmitry Astakhov i Viacheslav Medvedev. "Miniature plasma source for in situ extreme ultraviolet lithographic scanner cleaning". Journal of Vacuum Science & Technology B 40, nr 2 (marzec 2022): 022601. http://dx.doi.org/10.1116/6.0001636.
Pełny tekst źródłaKim, Kibeom, Sangkwon Han, Jinsik Yoon, Sunghoon Kwon, Hun-Kuk Park i Wook Park. "Lithographic resolution enhancement of a maskless lithography system based on a wobulation technique for flow lithography". Applied Physics Letters 109, nr 23 (5.12.2016): 234101. http://dx.doi.org/10.1063/1.4967373.
Pełny tekst źródłaHeilandová, Lucie. "The First Lithographic Workshops in Brno and Early Lithography in Moravia". Acta Musei Nationalis Pragae – Historia litterarum 63, nr 3-4 (2019): 57–65. http://dx.doi.org/10.2478/amnpsc-2018-0008.
Pełny tekst źródłaBerggren, Karl K. "Lithography". Nanoscale 3, nr 7 (2011): 2662. http://dx.doi.org/10.1039/c1nr90018h.
Pełny tekst źródłaTejeda, R. O., E. G. Lovell i R. L. Engelstad. "In-Plane Gravity Loading of a Circular Membrane". Journal of Applied Mechanics 67, nr 4 (5.05.2000): 837–39. http://dx.doi.org/10.1115/1.1308581.
Pełny tekst źródłaFang, Bin, Jiafeng Feng, Hongxiang Wei, Xiufeng Han, Baoshun Zhang i Zhongming Zeng. "Fabrication of Spin-Transfer Nano-Oscillator by Colloidal Lithography". Journal of Nanomaterials 2015 (2015): 1–6. http://dx.doi.org/10.1155/2015/973957.
Pełny tekst źródłaTian, Weicheng. "Research progress of laser lithography". Journal of Physics: Conference Series 2608, nr 1 (1.10.2023): 012016. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/2608/1/012016.
Pełny tekst źródłaLiu, Junjun, Dong Wang, Yitan Li, Haihua Wang, Huan Chen, Qianqian Wang i Wenbing Kang. "Exceptional Lithography Sensitivity Boosted by Hexafluoroisopropanols in Photoresists". Polymers 16, nr 6 (15.03.2024): 825. http://dx.doi.org/10.3390/polym16060825.
Pełny tekst źródłaErdmann, Andreas, David Reibold, Tim Fühner i Peter Evanschitzky. "Photomasks for Semiconductor Lithography: From Simple Shadow Casters to Complex 3D Scattering Objects". Advances in Science and Technology 55 (wrzesień 2008): 173–80. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ast.55.173.
Pełny tekst źródłaAhmad Kamal, Ahmad Syazwan, Cheng-Chieh Lin, Zhiyu Wang, Di Xing, Yang-Chun Lee, Mu-Hsin Chen, Ya-Lun Ho, Chun-Wei Chen i Jean-Jacques Delaunay. "CsPbBr3 nanocrystals plasmonic distributed Bragg reflector waveguide laser". Applied Physics Letters 122, nr 7 (13.02.2023): 071104. http://dx.doi.org/10.1063/5.0128232.
Pełny tekst źródłaDomonkos, Mária, Pavel Demo i Alexander Kromka. "Nanosphere Lithography for Structuring Polycrystalline Diamond Films". Crystals 10, nr 2 (14.02.2020): 118. http://dx.doi.org/10.3390/cryst10020118.
Pełny tekst źródłaВознюк, Г. В., И. Н. Григоренко, М. И. Митрофанов, В. В. Николаев i В. П. Евтихиев. "Субволновые текстурированные поверхности для вывода излучения из волновода". Письма в журнал технической физики 48, nr 6 (2022): 51. http://dx.doi.org/10.21883/pjtf.2022.06.52214.19103.
Pełny tekst źródłaTEO, SELIN H. G., A. Q. LIU, G. L. SIA, C. LU, J. SINGH, M. B. YU i H. Q. SUN. "DEEP UV LITHOGRAPHY FOR PILLAR TYPE NANOPHOTONIC CRYSTAL". International Journal of Nanoscience 04, nr 04 (sierpień 2005): 559–66. http://dx.doi.org/10.1142/s0219581x05003577.
Pełny tekst źródłaBin Yu, Bin Yu, Wei Jia Wei Jia, Changhe Zhou Changhe Zhou, Hongchao Cao Hongchao Cao i Wenting Sun Wenting Sun. "Grating imaging scanning lithography". Chinese Optics Letters 11, nr 8 (2013): 080501–80503. http://dx.doi.org/10.3788/col201311.080501.
Pełny tekst źródłaLin, Jian-Shian, Chieh-Lung Lai, Ya-Chun Tu, Cheng-Hua Wu i Yoshimi Takeuchi. "A Uniform Pressure Apparatus for Micro/Nanoimprint Lithography Equipment". International Journal of Automation Technology 3, nr 1 (5.01.2009): 84–88. http://dx.doi.org/10.20965/ijat.2009.p0084.
Pełny tekst źródłaLee, Su Yong, Do Young Noh, Hae Cheol Lee, Chung-Jong Yu, Yeukuang Hwu i Hyon Chol Kang. "Direct-write X-ray lithography using a hard X-ray Fresnel zone plate". Journal of Synchrotron Radiation 22, nr 3 (2.04.2015): 781–85. http://dx.doi.org/10.1107/s1600577515003306.
Pełny tekst źródłaHruby, Jill. "LIGA Technologies and Applications". MRS Bulletin 26, nr 4 (kwiecień 2001): 337–40. http://dx.doi.org/10.1557/mrs2001.76.
Pełny tekst źródłaOKAZAKI, SHINJI. "CURRENT ISSUES AND FUTURE PROSPECTS OF LITHOGRAPHY". International Journal of High Speed Electronics and Systems 16, nr 01 (marzec 2006): 375–87. http://dx.doi.org/10.1142/s0129156406003709.
Pełny tekst źródła