Artykuły w czasopismach na temat „High-Density thin films”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Sprawdź 50 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „High-Density thin films”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.
Xiaoting Fang, Xiaoting Fang, Shengfu Yuan Shengfu Yuan, Wenguang Liu Wenguang Liu, Baozhu Yan Baozhu Yan i Bing Huang Bing Huang. "Absorption measurement of optical thin films under high power density with a Closed Cavity". Chinese Optics Letters 13, nr 3 (2015): 033101–33104. http://dx.doi.org/10.3788/col201513.033101.
Pełny tekst źródłaFiorenza, Patrick, Raffaella Lo Nigro, Vito Raineri, Graziella Malandrino, Roberta G. Toro i Maria R. Catalano. "High capacitance density by CaCu3Ti4O12 thin films". Journal of Applied Physics 108, nr 7 (październik 2010): 074103. http://dx.doi.org/10.1063/1.3488893.
Pełny tekst źródłaBanu, Nasrin, Surendra Singh, Saibal Basu, Anupam Roy, Hema C. P. Movva, V. Lauter, B. Satpati i B. N. Dev. "High density nonmagnetic cobalt in thin films". Nanotechnology 29, nr 19 (15.03.2018): 195703. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/aab0e9.
Pełny tekst źródłaLodder, J. C. "Magnetic thin films for high-density recording". Thin Solid Films 281-282 (sierpień 1996): 474–83. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(96)08679-8.
Pełny tekst źródłaWang, Yong, Xin Zhou, Minren Lin i Q. M. Zhang. "High-energy density in aromatic polyurea thin films". Applied Physics Letters 94, nr 20 (18.05.2009): 202905. http://dx.doi.org/10.1063/1.3142388.
Pełny tekst źródłaByeon, S. C., Y. Ding i C. Alexander. "High moment FeTiN thin films for high density recording heads". IEEE Transactions on Magnetics 36, nr 5 (2000): 2502–5. http://dx.doi.org/10.1109/20.908487.
Pełny tekst źródłaYu, Shihui, Chunmei Zhang, Muying Wu, Helei Dong i Lingxia Li. "Ultra-high energy density thin-film capacitors with high power density using BaSn0.15Ti0.85O3/Ba0.6Sr0.4TiO3 heterostructure thin films". Journal of Power Sources 412 (luty 2019): 648–54. http://dx.doi.org/10.1016/j.jpowsour.2018.12.012.
Pełny tekst źródłaYan, S. L., Y. Y. Xie, J. Z. Wu, T. Aytug, A. A. Gapud, B. W. Kang, L. Fang i in. "High critical current density in epitaxial HgBa2CaCu2OX thin films". Applied Physics Letters 73, nr 20 (16.11.1998): 2989–91. http://dx.doi.org/10.1063/1.122653.
Pełny tekst źródłaYe, M., M. Mehbod i R. Deltour. "High critical current density in epitaxial YBa2Cu3O7 thin films". Physica B: Condensed Matter 204, nr 1-4 (styczeń 1995): 200–205. http://dx.doi.org/10.1016/0921-4526(94)00264-v.
Pełny tekst źródłaWen, Fei, Zhuo Xu, Weimin Xia, Hongjun Ye, Xiaoyong Wei i Zhicheng Zhang. "High-Energy-Density Poly(styrene-co-acrylonitrile) Thin Films". Journal of Electronic Materials 42, nr 12 (8.10.2013): 3489–93. http://dx.doi.org/10.1007/s11664-013-2764-z.
Pełny tekst źródłaLi, Zongxin, Hanxing Liu, Zhonghua Yao, Juan Xie, Xixi Li, Chunli Diao, Amjad Ullah, Hua Hao i Minghe Cao. "Novel BiAlO3 dielectric thin films with high energy density". Ceramics International 45, nr 17 (grudzień 2019): 22523–27. http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2019.07.278.
Pełny tekst źródłaLODDER, J. C. "ChemInform Abstract: Magnetic Thin Films for High-Density Recording". ChemInform 28, nr 6 (4.08.2010): no. http://dx.doi.org/10.1002/chin.199706325.
Pełny tekst źródłaSong, Baijie, Kun Zhu, Hao Yan, Liuxue Xu, Bo Shen i Jiwei Zhai. "High energy storage density with high power density in Bi0.2Sr0.7TiO3/BiFeO3 multilayer thin films". Journal of Materials Chemistry C 9, nr 13 (2021): 4652–60. http://dx.doi.org/10.1039/d0tc05646d.
Pełny tekst źródłaSchwan, J., S. Ulrich, T. Theel, H. Roth, H. Ehrhardt, P. Becker i S. R. P. Silva. "Stress-induced formation of high-density amorphous carbon thin films". Journal of Applied Physics 82, nr 12 (15.12.1997): 6024–30. http://dx.doi.org/10.1063/1.366469.
Pełny tekst źródłaChristodoulides, J. A., Y. Huang, Y. Zhang, G. C. Hadjipanayis, I. Panagiotopoulos i D. Niarchos. "CoPt and FePt thin films for high density recording media". Journal of Applied Physics 87, nr 9 (maj 2000): 6938–40. http://dx.doi.org/10.1063/1.372892.
Pełny tekst źródłaRamzi, A., A. Taoufik, S. Senoussi, A. Tirbiyine i A. Abaragh. "The critical current density in high quality YBaCuO thin films". Physica A: Statistical Mechanics and its Applications 358, nr 1 (grudzień 2005): 119–22. http://dx.doi.org/10.1016/j.physa.2005.06.012.
Pełny tekst źródłaXu, Xiao-Hong, Hai-Shun Wu, Xiao-Li Li i Fang Wang. "FePt/C granular thin films for high-density magnetic recording". Materials Chemistry and Physics 90, nr 1 (marzec 2005): 95–98. http://dx.doi.org/10.1016/j.matchemphys.2004.10.014.
Pełny tekst źródłaKaranasos, V., I. Panagiotopoulos, D. Niarchos, H. Okumura i G. C. Hadjipanayis. "CoPt:B granular thin films for high density magnetic recording media". Journal of Magnetism and Magnetic Materials 236, nr 1-2 (październik 2001): 234–41. http://dx.doi.org/10.1016/s0304-8853(01)00045-2.
Pełny tekst źródłaCord, B., W. Maass, J. Schroeder, K. H. Schuller i U. Patz. "Application of magnetic thin films for high-density data storage". Thin Solid Films 175 (sierpień 1989): 287–93. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(89)90841-9.
Pełny tekst źródłaMellbring, O., S. Kihlman Øiseth, A. Krozer, J. Lausmaa i T. Hjertberg. "Spin Coating and Characterization of Thin High-Density Polyethylene Films". Macromolecules 34, nr 21 (październik 2001): 7496–503. http://dx.doi.org/10.1021/ma000094x.
Pełny tekst źródłaLi, J., S. S. Rosenblum, W. Nojima, H. Hayashi i R. Sinclair. "High density recording characteristics of sputtered barium ferrite thin films". IEEE Transactions on Magnetics 31, nr 6 (1995): 2749–51. http://dx.doi.org/10.1109/20.490139.
Pełny tekst źródłaLiu, Xiaoxi, Jianmin Bai, Fulin Wei, Zheng Yang, Akimitsu Morisako i Mitsunori Matsumoto. "Partially crystallized BaM thin films for high density magnetic recording". Materials Science and Engineering: B 65, nr 2 (listopad 1999): 90–93. http://dx.doi.org/10.1016/s0921-5107(99)00185-3.
Pełny tekst źródłaCole, Amanda, Gregory B. Thompson, J. W. Harrell, J. Weston i Ronald Ott. "High-density plasma-arc heating studies of FePt thin films". JOM 58, nr 6 (czerwiec 2006): 39–42. http://dx.doi.org/10.1007/s11837-006-0179-5.
Pełny tekst źródłaChen, L. J., S. L. Cheng, C. H. Yu, P. Y. Su, H. H. Lin i K. S. Chi. "Structural Evolution in Amorphous Silicon and Germanium Thin Films". Microscopy and Microanalysis 8, nr 4 (sierpień 2002): 268–73. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927602020202.
Pełny tekst źródłaAbdel-Hamid, H. M., S. M. El-Sayed i R. M. Radwan. "High-field conduction in high-density polyethylene thin films irradiated with electron beams". Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms 215, nr 3-4 (luty 2004): 479–85. http://dx.doi.org/10.1016/j.nimb.2003.10.001.
Pełny tekst źródłaMalhotra, S. S., Y. Liu, Z. S. Shan, S. H. Liou, D. C. Stafford i D. J. Sellmyer. "Nanocrystalline high coercivity PrCo//Cr thin films: Potential high density magnetic recording media". Journal of Magnetism and Magnetic Materials 161 (sierpień 1996): 316–22. http://dx.doi.org/10.1016/s0304-8853(96)00051-0.
Pełny tekst źródłaPan, Yaru, Xihui Liang, Zhihao Liang, Rihui Yao, Honglong Ning, Jinyao Zhong, Nanhong Chen, Tian Qiu, Xiaoqin Wei i Junbiao Peng. "Application of Solution Method to Prepare High Performance Multicomponent Oxide Thin Films". Membranes 12, nr 7 (22.06.2022): 641. http://dx.doi.org/10.3390/membranes12070641.
Pełny tekst źródłaKamaata, Hiroshi, Makoto Sakai i Kazuei Shikama. "Application of high density Ar plasma for optical thin films coating". JOURNAL OF THE ILLUMINATING ENGINEERING INSTITUTE OF JAPAN 84, Appendix (2000): 41. http://dx.doi.org/10.2150/jieij1980.84.appendix_41.
Pełny tekst źródłaDo-Kyun Kwon i Min Hyuk Lee. "Temperature-stable high-energy-density capacitors using complex perovskite thin films". IEEE Transactions on Ultrasonics, Ferroelectrics and Frequency Control 59, nr 9 (wrzesień 2012): 1894–99. http://dx.doi.org/10.1109/tuffc.2012.2403.
Pełny tekst źródłaHidaka, T., T. Maruyama, I. Sakai, M. Saitoh, L. A. Wills, R. Hiskes, S. A. Dicarolis, Jun Amano i C. M. Foster. "Characteristics of PZT thin films as ultra-high density recording media". Integrated Ferroelectrics 17, nr 1-4 (wrzesień 1997): 319–27. http://dx.doi.org/10.1080/10584589708013006.
Pełny tekst źródłaMua, N. T., C. R. Serrao, Shipra, A. Sundaresan, T. D. Hien i N. K. Man. "High critical current density in Ag-doped Bi-2212 thin films". Superconductor Science and Technology 21, nr 10 (21.07.2008): 105002. http://dx.doi.org/10.1088/0953-2048/21/10/105002.
Pełny tekst źródłaZhu, X., H. Kotadia, S. Xu, H. Lu, S. H. Mannan, C. Bailey i Y. C. Chan. "Electromigration in Sn–Ag solder thin films under high current density". Thin Solid Films 565 (sierpień 2014): 193–201. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2014.06.030.
Pełny tekst źródłaVlachopoulou, M. E., P. Dimitrakis, A. Tserepi, V. Em Vamvakas, S. Koliopoulou, P. Normand, E. Gogolides i D. Tsoukalas. "High-density plasma silicon oxide thin films grown at room-temperature". Microelectronic Engineering 85, nr 5-6 (maj 2008): 1245–47. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2008.01.010.
Pełny tekst źródłaWi, Jae-Hyung, Jong-Chang Woo, Doo-Seung Um, JunSeong Kim i Chang-Il Kim. "Surface properties of etched ITO thin films using high density plasma". Thin Solid Films 518, nr 22 (wrzesień 2010): 6228–31. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2010.03.166.
Pełny tekst źródłaKatayama, Nobuhiro, Xiaoxi Liu i Akimitsu Morisako. "Self-assembled L10 FePt thin films for high-density magnetic recording". Journal of Magnetism and Magnetic Materials 303, nr 2 (sierpień 2006): e255-e257. http://dx.doi.org/10.1016/j.jmmm.2006.01.054.
Pełny tekst źródłaHogan, Zach L., Cortney R. Kreller, Kiet A. Tran, Mark W. Hart, Gregory M. Wallraff, Sally A. Swanson, Willi Volksen i in. "Patterned nanoporous poly(methylsilsesquioxane) thin films: a potential high density substrate". Materials Science and Engineering: C 24, nr 4 (czerwiec 2004): 487–90. http://dx.doi.org/10.1016/j.msec.2003.10.002.
Pełny tekst źródłaLupton, D. F. "Optimized ITO thin films from ultra-high-density single-phase targets". Journal of the Society for Information Display 7, nr 4 (1999): 249. http://dx.doi.org/10.1889/1.1985289.
Pełny tekst źródłaDaineka, D., P. Bulkin, G. Girard, J. E. Bourée i B. Drévillon. "High density plasma enhanced chemical vapor deposition of optical thin films". European Physical Journal Applied Physics 26, nr 1 (4.03.2004): 3–9. http://dx.doi.org/10.1051/epjap:2004013.
Pełny tekst źródłaGlijer, P., J. M. Sivertsen i J. H. Judy. "Advanced multilayer thin films for ultra-high density magnetic recording media". IEEE Transactions on Magnetics 30, nr 6 (1994): 3957–59. http://dx.doi.org/10.1109/20.333956.
Pełny tekst źródłaFan, Q., B. McQuillin, A. K. Ray, M. L. Turner i A. B. Seddon. "High density, non-porous anatase titania thin films for device applications". Journal of Physics D: Applied Physics 33, nr 21 (17.10.2000): 2683–86. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/33/21/303.
Pełny tekst źródłaKondo, Keisuke, Seiya Motoki, Takafumi Hatano, Takahiro Urata, Kazumasa Iida i Hiroshi Ikuta. "NdFeAs(O,H) epitaxial thin films with high critical current density". Superconductor Science and Technology 33, nr 9 (4.08.2020): 09LT01. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6668/aba353.
Pełny tekst źródłaTakeda, J., H. Jinnouchi, S. Kurita, Y. F. Chen i T. Yao. "Dynamics of Photoexcited High Density Carriers in ZnO Epitaxial Thin Films". physica status solidi (b) 229, nr 2 (styczeń 2002): 877–80. http://dx.doi.org/10.1002/1521-3951(200201)229:2<877::aid-pssb877>3.0.co;2-k.
Pełny tekst źródłaXu, Y. F., M. L. Yan i D. J. Sellmyer. "FePt Nanocluster Films for High-Density Magnetic Recording". Journal of Nanoscience and Nanotechnology 7, nr 1 (1.01.2007): 206–24. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2007.18016.
Pełny tekst źródłaMeena, S. P., i R. Ashokkumar. "Effect of different Current density on Properties of Electrodeposited Ni-Co-Cr Thin Films". Oriental Journal of Chemistry 34, nr 4 (31.07.2018): 1884–89. http://dx.doi.org/10.13005/ojc/3404023.
Pełny tekst źródłaChen, Fei, Jun Yan Wu, Qiang Shen, Julie M. Schoenung i Lian Meng Zhang. "Preparation of ATO Thin Films from SPS-Derived Large Size ATO Ceramic Targets by PVD Methods". Materials Science Forum 783-786 (maj 2014): 1973–78. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.783-786.1973.
Pełny tekst źródłaMcIntyre, P. C., i M. J. Cima. "Microstructural inhomogeneities in chemically derived Ba2YCu3O7−x thin films: Implications for flux pinning". Journal of Materials Research 9, nr 11 (listopad 1994): 2778–88. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.2778.
Pełny tekst źródłaWada, Takahiro, Takayuki Negami i Mikihiko Nishitani. "Growth defects in CuInSe2 thin films". Journal of Materials Research 9, nr 3 (marzec 1994): 658–62. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.0658.
Pełny tekst źródłaSurdu, Andrei E., Hassan H. Hamdeh, I. A. Al-Omari, David J. Sellmyer, Alexei V. Socrovisciuc, Andrei A. Prepelita, Ezgi T. Koparan i in. "Enhancement of the critical current density in FeO-coated MgB2 thin films at high magnetic fields". Beilstein Journal of Nanotechnology 2 (14.12.2011): 809–13. http://dx.doi.org/10.3762/bjnano.2.89.
Pełny tekst źródłaBailey, A., C. Alvarez, T. Puzzer, DN Matthews, K. Sealey, CJ Russell i KNR Taylor. "Fabrication of Superconducting YBCO Thin Films on YSZ Substrates". Australian Journal of Physics 43, nr 3 (1990): 347. http://dx.doi.org/10.1071/ph900347.
Pełny tekst źródłaMichelazzi, Marco, i Davide Fabiani. "Electrical Conduction in Thin-Film Polypropylene Capacitors". Energies 16, nr 18 (15.09.2023): 6631. http://dx.doi.org/10.3390/en16186631.
Pełny tekst źródła