Artykuły w czasopismach na temat „C54-TiSi2”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Sprawdź 50 najlepszych artykułów w czasopismach naukowych na temat „C54-TiSi2”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Przeglądaj artykuły w czasopismach z różnych dziedzin i twórz odpowiednie bibliografie.
Cabral, C., L. A. Clevenger, J. M. E. Harper, F. M. d'Heurle, R. A. Roy, K. L. Saenger, G. L. Miles i R. W. Mann. "Lowering the formation temperature of the C54-TiSi2 phase using a metallic interfacial layer". Journal of Materials Research 12, nr 2 (luty 1997): 304–7. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1997.0040.
Pełny tekst źródłaCheng, S. L., J. J. Jou, L. J. Chen i B. Y. Tsui. "Formation of C54–TiSi2 in titanium on nitrogen-ion-implanted (001)Si with a thin interposing Mo layer". Journal of Materials Research 14, nr 5 (maj 1999): 2061–69. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1999.0278.
Pełny tekst źródłaQuintero, A., M. Libera, C. Cabral, C. Lavoie i J. M. Harper. "Templating Effects On C54-Tisi2 Formation In Ternary Reactions." Microscopy and Microanalysis 4, S2 (lipiec 1998): 666–67. http://dx.doi.org/10.1017/s143192760002345x.
Pełny tekst źródłaZhang, Z.-B., S.-L. Zhang, D.-Z. Zhu, H.-J. Xu i Y. Chen. "Different routes to the formation of C54 TiSi2 in the presence of surface and interface molybdenum: A transmission electron microscopy study". Journal of Materials Research 17, nr 4 (kwiecień 2002): 784–89. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2002.0115.
Pełny tekst źródłaQuintero, A., M. Libera, C. Cabral, C. Lavoie i J. M. E. Harper. "Mechanisms for enhanced C54–TiSi2 formation in Ti–Ta alloy films on single-crystal Si". Journal of Materials Research 14, nr 12 (grudzień 1999): 4690–700. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1999.0635.
Pełny tekst źródłaWang, Ming-Jun, Wen-Tai Lin i F. M. Pan. "Effects of an interposed Cu layer on the enhanced thermal stability of C49 TiSi2". Journal of Materials Research 17, nr 2 (luty 2002): 343–47. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2002.0048.
Pełny tekst źródłaClevenger, L. A., R. A. Roy, C. Cabral, K. L. Saenger, S. Brauer, G. Morales, K. F. Ludwig i in. "A comparison of C54-TiSi2 formation in blanket and submicron gate structures using in situ x-ray diffraction during rapid thermal annealing". Journal of Materials Research 10, nr 9 (wrzesień 1995): 2355–59. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1995.2355.
Pełny tekst źródłaRajan, Krishna. "Twin boundaries in C54-TiSi2". Metallurgical Transactions A 21, nr 9 (wrzesień 1990): 2317–22. http://dx.doi.org/10.1007/bf02646978.
Pełny tekst źródłaPico, C. A., i M. G. Lagally. "Angular correlation between grains of metastable TiSi2". Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 46 (1988): 888–89. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100106508.
Pełny tekst źródłaNemanich, R. J., Hyeongtag Jeon, J. W. Honeycutt, C. A. Sukow i G. A. Rozgonyi. "Interface structure of epitaxial TiSi2 on Si(lll)". Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 50, nr 2 (sierpień 1992): 1354–55. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100131401.
Pełny tekst źródłaOttaviani, G., R. Tonini, D. Giubertoni, A. Sabbadini, T. Marangon, G. Queirolo i F. La Via. "Investigation of C49–C54 TiSi2 transformation kinetics". Microelectronic Engineering 50, nr 1-4 (styczeń 2000): 153–58. http://dx.doi.org/10.1016/s0167-9317(99)00276-2.
Pełny tekst źródłaChen, Chih-Yen, Yu-Kai Lin, Chia-Wei Hsu, Chiu-Yen Wang, Yu-Lun Chueh, Lih-Juann Chen, Shen-Chuan Lo i Li-Jen Chou. "Coaxial Metal-Silicide Ni2Si/C54-TiSi2 Nanowires". Nano Letters 12, nr 5 (9.04.2012): 2254–59. http://dx.doi.org/10.1021/nl204459z.
Pełny tekst źródłaMakogon, Yu N., O. P. Pavlova, Sergey I. Sidorenko, G. Beddies i A. V. Mogilatenko. "Influence of Annealing Environment and Film Thickness on the Phase Formation in the Ti/Si(100) and (Ti +Si)/Si(100) Thin Film Systems". Defect and Diffusion Forum 264 (kwiecień 2007): 159–62. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ddf.264.159.
Pełny tekst źródłaMouroux, Aliette, i Shi-Li Zhang. "Alternative pathway for the formation of C54 TiSi2". Journal of Applied Physics 86, nr 1 (lipiec 1999): 704–6. http://dx.doi.org/10.1063/1.370789.
Pełny tekst źródłaLi, K., S. Y. Chen i Z. X. Shen. "Identification of refractory-metal-free C40 TiSi2 for low temperature C54 TiSi2 formation". Applied Physics Letters 78, nr 25 (18.06.2001): 3989–91. http://dx.doi.org/10.1063/1.1378309.
Pełny tekst źródłaThomas, O., F. M. d'Heurle i S. Delage. "Some titanium germanium and silicon compounds: Reaction and properties". Journal of Materials Research 5, nr 7 (lipiec 1990): 1453–62. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1990.1453.
Pełny tekst źródłaQuintero, A., M. Libera, C. Cabrai, C. Lavoie i J. M. E. Harper. "Silicide Identification in Rta-Processed Ti Salicide by Analytical Electron Microscopy". Microscopy and Microanalysis 3, S2 (sierpień 1997): 453–54. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927600009156.
Pełny tekst źródłaYu, T., S. C. Tan, Z. X. Shen, L. W. Chen, J. Y. Lin i A. K. See. "Structural study of refractory-metal-free C40 TiSi2 and its transformation to C54 TiSi2". Applied Physics Letters 80, nr 13 (kwiecień 2002): 2266–68. http://dx.doi.org/10.1063/1.1466521.
Pełny tekst źródłaCabral, C., L. A. Clevenger, J. M. E. Harper, F. M. d’Heurle, R. A. Roy, C. Lavoie, K. L. Saenger, G. L. Miles, R. W. Mann i J. S. Nakos. "Low temperature formation of C54–TiSi2 using titanium alloys". Applied Physics Letters 71, nr 24 (15.12.1997): 3531–33. http://dx.doi.org/10.1063/1.120401.
Pełny tekst źródłaAmorsolo, A. V., P. D. Funkenbusch i A. M. Kadin. "A parametric study of titanium silicide formation by rapid thermal processing". Journal of Materials Research 11, nr 2 (luty 1996): 412–21. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1996.0050.
Pełny tekst źródłaBarmak, K., L. E. Levine, D. A. Smith i Y. Komemt. "In situ tEM observation of C49 to C54 TiSi2 transformation". Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 50, nr 2 (sierpień 1992): 1356–57. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100131413.
Pełny tekst źródłaZHANG, LIN, YONG KEUN LEE i HUN SUB PARK. "FORMATION ENHANCEMENT OF THE C54-TiSi2 BY A MULTI-CYCLE PRE-COOLING TREATMENT". International Journal of Modern Physics B 16, nr 01n02 (20.01.2002): 213–18. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979202009664.
Pełny tekst źródłaXu, Jianguang, Menglan Jin, Xinlu Shi, Qiuyu Li, Chengqiang Gan i Wei Yao. "Preparation of TiSi2 Powders with Enhanced Lithium-Ion Storage via Chemical Oven Self-Propagating High-Temperature Synthesis". Nanomaterials 11, nr 9 (2.09.2021): 2279. http://dx.doi.org/10.3390/nano11092279.
Pełny tekst źródłaZHANG, ZHIBIN, SHILI ZHANG, DEZHANG ZHU, HONGJIE XU i YI CHEN. "FORMATION OF C54 TiSi2 ON Si(100) USING Ti/Mo AND Mo/Ti BILAYERS". International Journal of Modern Physics B 16, nr 01n02 (20.01.2002): 205–12. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979202009652.
Pełny tekst źródłaWANG, TAO, JI-AN CHEN, XING LING, YONG-BING DAI i QING-YUAN DAI. "PSEUDOPOTENTIAL INVESTIGATION OF ELECTRONIC PROPERTIES OF C54- AND C49-TiSi2". Modern Physics Letters B 20, nr 07 (20.03.2006): 343–51. http://dx.doi.org/10.1142/s0217984906010639.
Pełny tekst źródłaEngqvist, Jan, Ulf Jansson, Jun Lu i Jan‐Otto Carlsson. "C49/C54 phase transformation during chemical vapor deposition of TiSi2". Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 12, nr 1 (styczeń 1994): 161–68. http://dx.doi.org/10.1116/1.578914.
Pełny tekst źródłaWang, T., Y. B. Dai, S. K. Ouyang, H. S. Shen, Q. K. Wang i J. S. Wu. "Investigation of vacancy in C54 TiSi2 using ab initio method". Materials Letters 59, nr 8-9 (kwiecień 2005): 885–88. http://dx.doi.org/10.1016/j.matlet.2004.11.038.
Pełny tekst źródłaMann, R. W., i L. A. Clevenger. "The C49 to C54 Phase Transformation in TiSi2 Thin Films". Journal of The Electrochemical Society 141, nr 5 (1.05.1994): 1347–50. http://dx.doi.org/10.1149/1.2054921.
Pełny tekst źródłaMohadjeri, B., K. Maex, R. A. Donaton i H. Bender. "Ion‐Induced Amorphization and Regrowth of C49 and C54 TiSi2". Journal of The Electrochemical Society 146, nr 3 (1.03.1999): 1122–29. http://dx.doi.org/10.1149/1.1391732.
Pełny tekst źródłaWang, Tao, Soon-Young Oh, Won-Jae Lee, Yong-Jin Kim i Hi-Deok Lee. "Ab initio comparative study of C54 and C49 TiSi2 surfaces". Applied Surface Science 252, nr 14 (maj 2006): 4943–50. http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2005.07.029.
Pełny tekst źródłaMa, Z., L. H. Allen i D. D. J. Allman. "Effect of dimension scaling on the nucleation of C54 TiSi2". Thin Solid Films 253, nr 1-2 (grudzień 1994): 451–55. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(94)90365-4.
Pełny tekst źródłaJin, S., M. Aindow, Z. Zhang i L. J. Chen. "Formation and microstructural development of TiSi2 in (111)Si by Ti ion implantation and annealing at 950 °C". Journal of Materials Research 10, nr 4 (kwiecień 1995): 891–99. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1995.0891.
Pełny tekst źródłaEsposito, L., S. Kerdilès, M. Gregoire, P. Benigni, K. Dabertrand, J. G. Mattei i D. Mangelinck. "Impact of nanosecond laser energy density on the C40-TiSi2 formation and C54-TiSi2 transformation temperature". Journal of Applied Physics 128, nr 8 (sierpień 2020): 085305. http://dx.doi.org/10.1063/5.0016091.
Pełny tekst źródłaKáňa, T., Mojmír Šob i V. Vitek. "Transformation Paths in Transition-Metal Disilicides". Key Engineering Materials 465 (styczeń 2011): 61–64. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.465.61.
Pełny tekst źródłaDavid Theodore, N., Andre Vantomme i Peter Crazier. "TEM study of Cosi2 formation via annealing of Co-Ti bilayers on Si". Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 53 (13.08.1995): 464–65. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100138695.
Pełny tekst źródłaSuh, You-Seok, Dae-Gyu Park, Se-Aug Jang, Sang-Hyeob Lee, Tae-Kyun Kim, In-Seok Yeo, Sam-Dong Kim i Chung-Tae Kim. "Retarded C54 transformation and suppressed agglomeration by precipitates in TiSi2 films". Journal of Applied Physics 87, nr 6 (15.03.2000): 2760–64. http://dx.doi.org/10.1063/1.372252.
Pełny tekst źródłaInui, H., M. Moriwaki, N. Okamoto i M. Yamaguchi. "Plastic deformation of single crystals of TiSi2 with the C54 structure". Acta Materialia 51, nr 5 (marzec 2003): 1409–20. http://dx.doi.org/10.1016/s1359-6454(02)00533-5.
Pełny tekst źródłaSvilan, V., J. M. E. Harper, C. Cahral i L. A. Clevengeri. "Stress Evolution During the Formation and Transformation of Titanium Silicide". MRS Proceedings 356 (1994). http://dx.doi.org/10.1557/proc-356-167.
Pełny tekst źródłaCheng, S. L., S. M. Chang, H. Y. Huang, Y. C. Peng, L. J. Chen, B. Y. Tsui, C. J. Tsai i S. S. Guo. "The Influence Of Stress on The Growth of Titanium Silicide Thin Films on (001) Silicon Substrates". MRS Proceedings 564 (1999). http://dx.doi.org/10.1557/proc-564-9.
Pełny tekst źródłaKappius, L., i R. T. Tung. "On the Template Mechanism of Enhanced C54-TiSi2 Formation". MRS Proceedings 611 (2000). http://dx.doi.org/10.1557/proc-611-c8.2.1.
Pełny tekst źródłaMatsubara, Y., K. Noguchi i K. Okumura. "Activation Energy for the C49-TO-C54 Phase Transition of Polycrystalline TiSi2 Films with under 30nm Thickness". MRS Proceedings 311 (1993). http://dx.doi.org/10.1557/proc-311-263.
Pełny tekst źródłaGanapathiraman, Ramanath, S. Koh, Z. Ma, L. H. Allen i S. Lee. "Formation of TiSi2 During Rapid Thermal Annealing: In Situ Resistance Measurements at Heating Rates From 1°C/S to 100°C/S." MRS Proceedings 303 (1993). http://dx.doi.org/10.1557/proc-303-63.
Pełny tekst źródłaNakamura, T., K. Ikeda, H. Tomita, S. Komiya i K. Nakajima. "C49-TiSi2 Epitaxial Orientation Dependence of the C49-to-C54 Phase Transformation Rate". MRS Proceedings 514 (1998). http://dx.doi.org/10.1557/proc-514-213.
Pełny tekst źródłaFujii, K., R. T. Tung, D. J. Eaglesham, K. Kikuta i T. Kikkawa. "Phase Transformation of Titanium Disilicide Induced by High-Temperature Sputtering". MRS Proceedings 402 (1995). http://dx.doi.org/10.1557/proc-402-83.
Pełny tekst źródłaRoux, M., A. Mouroux i S. L. Zhang. "The Formation of C54 TiSi2 in The Presence of Implanted or Deposited Molybdenum". MRS Proceedings 564 (1999). http://dx.doi.org/10.1557/proc-564-53.
Pełny tekst źródłaJung, Bokhee, Young Do Kim, Woochul Yang, R. J. Nemanich i Hyeongtag Jeon. "Reduction of The Phase Transition Temperature of TiSi2 on Si(111) Using a Ta Interlayer". MRS Proceedings 564 (1999). http://dx.doi.org/10.1557/proc-564-59.
Pełny tekst źródłaMa, Z., G. Ramanath i L. H. Allen. "Kinetics and Mechanism of the C49 to C54 Titanium Disilicide Polymorphic Transformation". MRS Proceedings 320 (1993). http://dx.doi.org/10.1557/proc-320-361.
Pełny tekst źródłaLibera, M., i A. Quintero. "Effect of Boron Doping on the C49 TO C54 Phase Transformation in Ti/Si (100) Bilayers". MRS Proceedings 441 (1996). http://dx.doi.org/10.1557/proc-441-303.
Pełny tekst źródłaClevenger, L. A., C. Cabral, R. A. Roy, C. Lavoie, R. Viswanathan, K. L. Saenger, J. Jordan-Sweet, G. Morales, K. L. Ludwig i G. B. Stephenson. "In Situ Analysis of the Formation of thin TISI2, (>50 nm) Contacts in Submicron Cmos Structures during Rapid Thermal Annealing". MRS Proceedings 402 (1995). http://dx.doi.org/10.1557/proc-402-257.
Pełny tekst źródłaOhmi, S., i R. T. Tung. "Facilitated C54-TiSi2 Formation With Elevated Deposition Temperature: A Study of CO-Deposited Layers". MRS Proceedings 564 (1999). http://dx.doi.org/10.1557/proc-564-47.
Pełny tekst źródła