Gotowa bibliografia na temat „C40-TiSi2”
Utwórz poprawne odniesienie w stylach APA, MLA, Chicago, Harvard i wielu innych
Spis treści
Zobacz listy aktualnych artykułów, książek, rozpraw, streszczeń i innych źródeł naukowych na temat „C40-TiSi2”.
Przycisk „Dodaj do bibliografii” jest dostępny obok każdej pracy w bibliografii. Użyj go – a my automatycznie utworzymy odniesienie bibliograficzne do wybranej pracy w stylu cytowania, którego potrzebujesz: APA, MLA, Harvard, Chicago, Vancouver itp.
Możesz również pobrać pełny tekst publikacji naukowej w formacie „.pdf” i przeczytać adnotację do pracy online, jeśli odpowiednie parametry są dostępne w metadanych.
Artykuły w czasopismach na temat "C40-TiSi2"
Zhang, Z.-B., S.-L. Zhang, D.-Z. Zhu, H.-J. Xu i Y. Chen. "Different routes to the formation of C54 TiSi2 in the presence of surface and interface molybdenum: A transmission electron microscopy study". Journal of Materials Research 17, nr 4 (kwiecień 2002): 784–89. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2002.0115.
Pełny tekst źródłaChen, S. Y., Z. X. Shen, K. Li, A. K. See i L. H. Chan. "Synthesis and characterization of pure C40 TiSi2". Applied Physics Letters 77, nr 26 (25.12.2000): 4395–97. http://dx.doi.org/10.1063/1.1329864.
Pełny tekst źródłaQuintero, A., M. Libera, C. Cabral, C. Lavoie i J. M. E. Harper. "Mechanisms for enhanced C54–TiSi2 formation in Ti–Ta alloy films on single-crystal Si". Journal of Materials Research 14, nr 12 (grudzień 1999): 4690–700. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1999.0635.
Pełny tekst źródłaLi, K., S. Y. Chen i Z. X. Shen. "Identification of refractory-metal-free C40 TiSi2 for low temperature C54 TiSi2 formation". Applied Physics Letters 78, nr 25 (18.06.2001): 3989–91. http://dx.doi.org/10.1063/1.1378309.
Pełny tekst źródłaYu, T., S. C. Tan, Z. X. Shen, L. W. Chen, J. Y. Lin i A. K. See. "Structural study of refractory-metal-free C40 TiSi2 and its transformation to C54 TiSi2". Applied Physics Letters 80, nr 13 (kwiecień 2002): 2266–68. http://dx.doi.org/10.1063/1.1466521.
Pełny tekst źródłaQuintero, A., M. Libera, C. Cabral, C. Lavoie i J. M. Harper. "Templating Effects On C54-Tisi2 Formation In Ternary Reactions." Microscopy and Microanalysis 4, S2 (lipiec 1998): 666–67. http://dx.doi.org/10.1017/s143192760002345x.
Pełny tekst źródłaEsposito, L., S. Kerdilès, M. Gregoire, P. Benigni, K. Dabertrand, J. G. Mattei i D. Mangelinck. "Impact of nanosecond laser energy density on the C40-TiSi2 formation and C54-TiSi2 transformation temperature". Journal of Applied Physics 128, nr 8 (sierpień 2020): 085305. http://dx.doi.org/10.1063/5.0016091.
Pełny tekst źródłaWang, R. N., J. Y. Feng i Y. Huang. "Effects of intermediate phase C40 TiSi2 on the formation temperature of C54 TiSi2 with a Ta interlayer". Journal of Crystal Growth 253, nr 1-4 (czerwiec 2003): 280–85. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-0248(03)01012-1.
Pełny tekst źródłaKáňa, T., Mojmír Šob i V. Vitek. "Transformation Paths in Transition-Metal Disilicides". Key Engineering Materials 465 (styczeń 2011): 61–64. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.465.61.
Pełny tekst źródłaVia, F. La, F. Mammoliti i M. G. Grimaldi. "Reaction of the Si/Ta/Ti system: C40 TiSi2 phase formation andin situkinetics". Journal of Applied Physics 91, nr 2 (15.01.2002): 633–38. http://dx.doi.org/10.1063/1.1421212.
Pełny tekst źródła