Littérature scientifique sur le sujet « VIA PECVD TECHNIQUE »
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Articles de revues sur le sujet "VIA PECVD TECHNIQUE"
Das, Ujjwal K., Scott Morrison et Arun Madan. « Deposition of microcrystalline silicon solar cells via the pulsed PECVD technique ». Journal of Non-Crystalline Solids 299-302 (avril 2002) : 79–82. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-3093(01)00945-0.
Texte intégralAhmed, Sk F., D. Banerjee, M. K. Mitra et K. K. Chattopadhyay. « Visible photoluminescence from silicon-incorporated diamond like carbon films synthesized via direct current PECVD technique ». Journal of Luminescence 131, no 11 (novembre 2011) : 2352–58. http://dx.doi.org/10.1016/j.jlumin.2011.05.015.
Texte intégralAmeen, Sadia, Minwu Song, Don-Gyu Kim, Yu-Bin Im, Hyung-Kee Seo, Young Soon Kim et Hyung-Shik Shin. « Iodine doped polyaniline thin film for heterostructure devices via PECVD technique : Morphological, structural, and electrical properties ». Macromolecular Research 20, no 1 (16 novembre 2011) : 30–36. http://dx.doi.org/10.1007/s13233-012-0009-2.
Texte intégralHahn, Giso, Martin Käs et Bernhard Herzog. « Hydrogenation in Crystalline Silicon Materials for Photovoltaic Application ». Solid State Phenomena 156-158 (octobre 2009) : 343–49. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.156-158.343.
Texte intégralZhang, Manchen, Ruzhi Wang, Zhen Shen et Yuhang Ji. « Extended Gate Field Effect Transistor Using GaN/Si Hybrids Nanostructures for pH Sensor ». Nano 12, no 09 (septembre 2017) : 1750114. http://dx.doi.org/10.1142/s1793292017501144.
Texte intégralAnutgan, Tamila, Mustafa Anutgan et İsmail Atilgan. « Transmission electron microscope imaging of plasma grown electroformed silicon nitride-based light emitting diode for direct examination of nanocrystallization ». European Physical Journal Applied Physics 88, no 3 (décembre 2019) : 30102. http://dx.doi.org/10.1051/epjap/2020190298.
Texte intégralXia, Xinyi, Chao-Ching Chiang, Sarathy K. Gopalakrishnan, Aniruddha V. Kulkarni, Fan Ren, Kirk J. Ziegler et Josephine F. Esquivel-Upshaw. « Properties of SiCN Films Relevant to Dental Implant Applications ». Materials 16, no 15 (28 juillet 2023) : 5318. http://dx.doi.org/10.3390/ma16155318.
Texte intégralSaid, Noresah, Ying Siew Khoo, Woei Jye Lau, Mehmet Gürsoy, Mustafa Karaman, Teo Ming Ting, Ebrahim Abouzari-Lotf et Ahmad Fauzi Ismail. « Rapid Surface Modification of Ultrafiltration Membranes for Enhanced Antifouling Properties ». Membranes 10, no 12 (7 décembre 2020) : 401. http://dx.doi.org/10.3390/membranes10120401.
Texte intégralVitiello, J., F. Piallat et L. Bonnet. « Alternative deposition solution for cost reduction of TSV integration ». International Symposium on Microelectronics 2017, no 1 (1 octobre 2017) : 000135–39. http://dx.doi.org/10.4071/isom-2017-tp52_034.
Texte intégralBruno, P., G. Cicala, A. M. Losacco et P. Decuzzi. « Mechanical properties of PECVD hydrogenated amorphous carbon coatings via nanoindentation and nanoscratching techniques ». Surface and Coatings Technology 180-181 (mars 2004) : 259–64. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2003.10.035.
Texte intégralThèses sur le sujet "VIA PECVD TECHNIQUE"
AHMAD, IRFAN. « ROLE OF LIGHT AND HEAVY IONS ON GRAPHENE GROWTH VIA PECVD TECHNIQUE ». Thesis, 2017. http://dspace.dtu.ac.in:8080/jspui/handle/repository/15963.
Texte intégralActes de conférences sur le sujet "VIA PECVD TECHNIQUE"
Ren, Z. F. « Nano Materials and Physics ». Dans ASME 4th Integrated Nanosystems Conference. ASMEDC, 2005. http://dx.doi.org/10.1115/nano2005-87045.
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