Articles de revues sur le sujet « Ultrathin oxides »
Créez une référence correcte selon les styles APA, MLA, Chicago, Harvard et plusieurs autres
Consultez les 50 meilleurs articles de revues pour votre recherche sur le sujet « Ultrathin oxides ».
À côté de chaque source dans la liste de références il y a un bouton « Ajouter à la bibliographie ». Cliquez sur ce bouton, et nous générerons automatiquement la référence bibliographique pour la source choisie selon votre style de citation préféré : APA, MLA, Harvard, Vancouver, Chicago, etc.
Vous pouvez aussi télécharger le texte intégral de la publication scolaire au format pdf et consulter son résumé en ligne lorsque ces informations sont inclues dans les métadonnées.
Parcourez les articles de revues sur diverses disciplines et organisez correctement votre bibliographie.
Bec, Romulad B., Andrzej Jakubowsk, Lidia Łukasiak et Michał Korwin-Pawłowski. « Challenges in ultrathin oxide layers formation ». Journal of Telecommunications and Information Technology, no 1 (30 mars 2001) : 27–34. http://dx.doi.org/10.26636/jtit.2001.1.46.
Texte intégralTaylor, Seth T., John Mardinly et Michael A. O'Keefe. « HRTEM Image Simulations for the Study of Ultrathin Gate Oxides ». Microscopy and Microanalysis 8, no 5 (octobre 2002) : 412–21. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927602020123.
Texte intégralMorgen, P., A. Bahari, U. Robenhagen, J. F. Andersen, J. K. Hansen, K. Pedersen, M. G. Rao et Z. S. Li. « Roads to ultrathin silicon oxides ». Journal of Vacuum Science & ; Technology A : Vacuum, Surfaces, and Films 23, no 1 (janvier 2005) : 201–7. http://dx.doi.org/10.1116/1.1842113.
Texte intégralHuang, Feng, W. J. Liu, J. F. Sullivan, J. A. Barnard et M. L. Weaver. « Room-temperature oxidation of ultrathin TiB2 films ». Journal of Materials Research 17, no 4 (avril 2002) : 805–13. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2002.0118.
Texte intégralZhu, Jianhui, Jian Jiang, Wei Ai, Zhanxi Fan, Xintang Huang, Hua Zhang et Ting Yu. « Encapsulation of nanoscale metal oxides into an ultra-thin Ni matrix for superior Li-ion batteries : a versatile strategy ». Nanoscale 6, no 21 (2014) : 12990–3000. http://dx.doi.org/10.1039/c4nr03661a.
Texte intégralWang, Kai, Bolong Huang, Weiyu Zhang, Fan Lv, Yi Xing, Wenshu Zhang, Jinhui Zhou et al. « Ultrathin RuRh@(RuRh)O2 core@shell nanosheets as stable oxygen evolution electrocatalysts ». Journal of Materials Chemistry A 8, no 31 (2020) : 15746–51. http://dx.doi.org/10.1039/d0ta03213a.
Texte intégralTing, D. Z. Y. « Tunneling characteristics of nonuniform ultrathin oxides ». Applied Physics Letters 73, no 19 (9 novembre 1998) : 2769–71. http://dx.doi.org/10.1063/1.122585.
Texte intégralLobinsky, A. A., et V. I. Popkov. « Ultrathin 2D nanosheets of transition metal (hydro)oxides as prospective materials for energy storage devices : A short review ». Electrochemical Materials and Technologies 1, no 1 (2022) : 20221008. http://dx.doi.org/10.15826/elmattech.2022.1.008.
Texte intégralRotondaro, A. L. Pacheco, R. T. Laaksonen et S. P. Singh. « Impact of the Nitrogen Concentration of Sub-1.3 nm Gate Oxides on 65 nm Technology Transistor Parameters ». Journal of Integrated Circuits and Systems 2, no 2 (17 novembre 2007) : 63–66. http://dx.doi.org/10.29292/jics.v2i2.265.
Texte intégralChari, K. S., et S. Kar. « Interface Characteristics of Metal‐Oxide‐Semiconductor Capacitors with Ultrathin Oxides ». Journal of The Electrochemical Society 138, no 7 (1 juillet 1991) : 2046–49. http://dx.doi.org/10.1149/1.2085921.
Texte intégralTing, D. Z. Y., Erik S. Daniel et T. C. Mcgill. « Interface Roughness Effects in Ultra-Thin Tunneling Oxides ». VLSI Design 8, no 1-4 (1 janvier 1998) : 47–51. http://dx.doi.org/10.1155/1998/23567.
Texte intégralChoi, B. D., et D. K. Schroder. « Degradation of ultrathin oxides by iron contamination ». Applied Physics Letters 79, no 16 (15 octobre 2001) : 2645–47. http://dx.doi.org/10.1063/1.1410363.
Texte intégralDonggun Park et Chenming Hu. « Plasma charging damage on ultrathin gate oxides ». IEEE Electron Device Letters 19, no 1 (janvier 1998) : 1–3. http://dx.doi.org/10.1109/55.650333.
Texte intégralWen, H. J., et R. Ludeke. « Localized degradation studies of ultrathin gate oxides ». Journal of Vacuum Science & ; Technology A : Vacuum, Surfaces, and Films 16, no 3 (mai 1998) : 1735–40. http://dx.doi.org/10.1116/1.581293.
Texte intégralEng, J., R. L. Opila, J. M. Rosamilia, B. J. Sapjeta, Y. J. Chabal, T. Boone, R. Masaitis, Thomas Sorsch et Martin L. Green. « The Evolution of Chemical Oxides Into Ultrathin Oxides : A Spectroscopic Characterization ». Solid State Phenomena 76-77 (janvier 2001) : 145–48. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.76-77.145.
Texte intégralTakeda, Mikako, Takeshi Ohwaki, Hideo Fujii, Eisuke Kusumoto, Yoshiyuki Kaihara, Yoshizo Takai et Ryuichi Shimizu. « Influence of Native Oxides on the Reliability of Ultrathin Gate Oxide ». Japanese Journal of Applied Physics 37, Part 1, No. 2 (15 février 1998) : 397–401. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.37.397.
Texte intégralHamed, Mai Hussein, David N. Mueller et Martina Müller. « Thermal phase design of ultrathin magnetic iron oxide films : from Fe3O4 to γ-Fe2O3 and FeO ». Journal of Materials Chemistry C 8, no 4 (2020) : 1335–43. http://dx.doi.org/10.1039/c9tc05921k.
Texte intégralHardy, An, Sven Van Elshocht, Jan D’Haen, Olivier Douhéret, Stefan De Gendt, Christoph Adelmann, Matty Caymax et al. « Aqueous chemical solution deposition of ultrathin lanthanide oxide dielectric films ». Journal of Materials Research 22, no 12 (décembre 2007) : 3484–93. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2007.0433.
Texte intégralLiao, Zhaoliang, et Jiandi Zhang. « Metal-to-Insulator Transition in Ultrathin Manganite Heterostructures ». Applied Sciences 9, no 1 (3 janvier 2019) : 144. http://dx.doi.org/10.3390/app9010144.
Texte intégralChen, Zongkun, Minghua Huang et Helmut Cölfen. « Synthesis of ultrathin metal oxide and hydroxide nanosheets using formamide in water at room temperature ». CrystEngComm 23, no 21 (2021) : 3794–801. http://dx.doi.org/10.1039/d1ce00277e.
Texte intégralFukuda, Masatoshi, Wataru Mizubayashi, Atsushi Kohno, Seiichi Miyazaki et Masataka Hirose. « Analysis of Tunnel Current through Ultrathin Gate Oxides ». Japanese Journal of Applied Physics 37, Part 2, No. 12B (15 décembre 1998) : L1534—L1536. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.37.l1534.
Texte intégralChen, C. C., C. Y. Chang, C. H. Chien, T. Y. Huang, H. C. Lin et M. S. Liang. « Temperature-accelerated dielectric breakdown in ultrathin gate oxides ». Applied Physics Letters 74, no 24 (14 juin 1999) : 3708–10. http://dx.doi.org/10.1063/1.123228.
Texte intégralHori, Takashi, Hiroshi Iwasaki, Takuichi Ohmura, Atsuko Samizo, Minoru Sato et Yoshiaki Yoshioka. « Compositional study of ultrathin rapidly reoxidized nitrided oxides ». Journal of Applied Physics 65, no 2 (15 janvier 1989) : 629–35. http://dx.doi.org/10.1063/1.343095.
Texte intégralHattori, Takeo, Hiroshi Nohira et Kensuke Takahashi. « The initial growth steps of ultrathin gate oxides ». Microelectronic Engineering 48, no 1-4 (septembre 1999) : 17–24. http://dx.doi.org/10.1016/s0167-9317(99)00329-9.
Texte intégralContaret, T., G. Ghibaudo, A. Ferron et F. Bœuf. « Excess drain noise simulation in ultrathin oxides MOSFETs ». Journal of Computational Electronics 5, no 2-3 (juillet 2006) : 187–92. http://dx.doi.org/10.1007/s10825-006-8842-1.
Texte intégralZander, D., F. Saigne, C. Petit et A. Meinertzhagen. « Electrical stress effects on ultrathin (2.3 nm) oxides ». Journal of Non-Crystalline Solids 280, no 1-3 (février 2001) : 86–91. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-3093(00)00393-8.
Texte intégralChang, Chun-Yen, Chi-Chun Chen, Horng-Chih Lin, Mong-Song Liang, Chao-Hsin Chien et Tiao-Yuan Huang. « Reliability of ultrathin gate oxides for ULSI devices ». Microelectronics Reliability 39, no 5 (mai 1999) : 553–66. http://dx.doi.org/10.1016/s0026-2714(99)00037-2.
Texte intégralGiustino, Feliciano, et Alfredo Pasquarello. « Infrared properties of ultrathin oxides on Si(100) ». Microelectronic Engineering 80 (juin 2005) : 420–23. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2005.04.025.
Texte intégralZhang, Xinyu, Yongwei Wang, Fenghua Cheng, Zhiping Zheng et Yaping Du. « Ultrathin lanthanide oxides nanomaterials : synthesis, properties and applications ». Science Bulletin 61, no 18 (septembre 2016) : 1422–34. http://dx.doi.org/10.1007/s11434-016-1155-2.
Texte intégralVereecke, G., E. Röhr, R. J. Carter, T. Conard, H. De Witte et M. M. Heyns. « Investigation of fluorine in dry ultrathin silicon oxides ». Journal of Vacuum Science & ; Technology B : Microelectronics and Nanometer Structures 19, no 6 (2001) : 2108. http://dx.doi.org/10.1116/1.1414050.
Texte intégralCellere, G., L. Larcher, M. G. Valentini et A. Paccagnella. « Micro breakdown in small-area ultrathin gate oxides ». IEEE Transactions on Electron Devices 49, no 8 (août 2002) : 1367–74. http://dx.doi.org/10.1109/ted.2002.801443.
Texte intégralLundgren, P., M. O. Andersson, K. R. Farmer et O. Engström. « Electrical instability of ultrathin thermal oxides on silicon ». Microelectronic Engineering 28, no 1-4 (juin 1995) : 67–70. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(95)00017-3.
Texte intégralWu, E. Y., D. L. Harmon et Liang-Kai Han. « Interrelationship of voltage and temperature dependence of oxide breakdown for ultrathin oxides ». IEEE Electron Device Letters 21, no 7 (juillet 2000) : 362–64. http://dx.doi.org/10.1109/55.847381.
Texte intégralChen, Ming-Jer, Ting-Kuo Kang, Chuan-Hsi Liu, Yih J. Chang et Kuan-Yu Fu. « Oxide thinning percolation statistical model for soft breakdown in ultrathin gate oxides ». Applied Physics Letters 77, no 4 (24 juillet 2000) : 555–57. http://dx.doi.org/10.1063/1.127042.
Texte intégralBruyère, S., F. Guyader, W. De Coster, E. Vincent, M. Saadeddine, N. Revil et G. Ghibaudo. « Wet or dry ultrathin oxides : impact on gate oxide and device reliability ». Microelectronics Reliability 40, no 4-5 (avril 2000) : 691–95. http://dx.doi.org/10.1016/s0026-2714(99)00273-5.
Texte intégralLin, M.-T., R. J. Jaccodine et T. J. Delph. « Planar oxidation of strained silicon substrates ». Journal of Materials Research 16, no 3 (mars 2001) : 728–33. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2001.0112.
Texte intégralvon Bardeleben, Hans Jürgen, J. L. Cantin, I. Vickridge, Yong Wei Song, S. Dhar, Leonard C. Feldman, John R. Williams et al. « Modification of the Oxide/Semiconductor Interface by High Temperature NO Treatments : A Combined EPR, NRA and XPS Study on Oxidized Porous and Bulk n-Type 4H-SiC ». Materials Science Forum 483-485 (mai 2005) : 277–80. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.483-485.277.
Texte intégralSUÑE, JORDI, DAVID JIMENEZ et ENRIQUE MIRANDA. « BREAKDOWN MODES AND BREAKDOWN STATISTICS OF ULTRATHIN SiO2 GATE OXIDES ». International Journal of High Speed Electronics and Systems 11, no 03 (septembre 2001) : 789–848. http://dx.doi.org/10.1142/s0129156401001003.
Texte intégralGao, Xinlong, Wenhui Shi, Pengchao Ruan, Jinxiu Feng, Dong Zheng, Linhai Yu, Min Xue et al. « Ultrathin carbon boosted sodium storage performance in aqueous electrolyte ». Functional Materials Letters 13, no 05 (juillet 2020) : 2030002. http://dx.doi.org/10.1142/s1793604720300029.
Texte intégralIstomin, A. V., et S. G. Kolyshev. « ELECTROSTATIC METHOD OF FORMING ULTRATHIN FIBERS OF REFRACTORY OXIDES ». «Aviation Materials and Technologies», no 2 (2019) : 40–46. http://dx.doi.org/10.18577/2071-9140-2019-0-2-40-46.
Texte intégralVereecke, Guy, Erika Röhr, R. J. Carter, Thierry Conard, H. De Witte et Marc M. Heyns. « The Origins of Fluorine in Dry Ultrathin Silicon Oxides ». Solid State Phenomena 76-77 (janvier 2001) : 153–56. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.76-77.153.
Texte intégralArienzo, Maurizio, Leonello Dori et Thomas N. Szabo. « Effect of post‐oxidation anneal on ultrathin SiO2gate oxides ». Applied Physics Letters 49, no 16 (20 octobre 1986) : 1040–42. http://dx.doi.org/10.1063/1.97465.
Texte intégralOellig, Eva M., E. G. Michel, M. C. Asensio et R. Miranda. « Ultrathin gate oxides formed by catalytic oxidation of silicon ». Applied Physics Letters 50, no 23 (8 juin 1987) : 1660–62. http://dx.doi.org/10.1063/1.97760.
Texte intégralLiao, Wei-Jian, Yi-Lin Yang, Shun-Cheng Chuang et Jenn-Gwo Hwu. « Growth-Then-Anodization Technique for Reliable Ultrathin Gate Oxides ». Journal of The Electrochemical Society 151, no 9 (2004) : G549. http://dx.doi.org/10.1149/1.1783907.
Texte intégralFair, Richard B. « Physical Models of Boron Diffusion in Ultrathin Gate Oxides ». Journal of The Electrochemical Society 144, no 2 (1 février 1997) : 708–17. http://dx.doi.org/10.1149/1.1837473.
Texte intégralThompson, W. Howard, Zain Yamani, Laila AbuHassan, Osman Gurdal et Munir Nayfeh. « The effect of ultrathin oxides on luminescent silicon nanocrystallites ». Applied Physics Letters 73, no 6 (10 août 1998) : 841–43. http://dx.doi.org/10.1063/1.122019.
Texte intégralMadsen, Jon M., Zhenjiang Cui et Christos G. Takoudis. « Low temperature oxidation of SiGe in ozone : Ultrathin oxides ». Journal of Applied Physics 87, no 4 (15 février 2000) : 2046–51. http://dx.doi.org/10.1063/1.372134.
Texte intégralMukhopadhyay, M., S. K. Ray, D. K. Nayak et C. K. Maiti. « Ultrathin oxides using N2O on strained Si1−xGex layers ». Applied Physics Letters 68, no 9 (26 février 1996) : 1262–64. http://dx.doi.org/10.1063/1.115946.
Texte intégralPennetta, C., L. Reggiani et Gy Trefán. « A percolative model of soft breakdown in ultrathin oxides ». Physica B : Condensed Matter 314, no 1-4 (mars 2002) : 400–403. http://dx.doi.org/10.1016/s0921-4526(01)01408-9.
Texte intégralBeck, Romuald B. « Formation of ultrathin silicon oxides—modeling and technological constraints ». Materials Science in Semiconductor Processing 6, no 1-3 (février 2003) : 49–57. http://dx.doi.org/10.1016/s1369-8001(03)00071-4.
Texte intégral