Articles de revues sur le sujet « Tin-oxygen »
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Okamoto, H. « O-Sn (Oxygen-Tin) ». Journal of Phase Equilibria & ; Diffusion 27, no 2 (1 avril 2006) : 202. http://dx.doi.org/10.1361/154770306x97740.
Texte intégralOkamoto, H. « O−Sn (Oxygen-Tin) ». Journal of Phase Equilibria and Diffusion 27, no 2 (mars 2006) : 202. http://dx.doi.org/10.1007/s11669-006-0063-6.
Texte intégralWang, Sheng, et Teruo Hori. « Oxygen evolution sensitized by tin porphyrin in microheterogeneous system and membrane systems ». Journal of Porphyrins and Phthalocyanines 07, no 01 (janvier 2003) : 37–41. http://dx.doi.org/10.1142/s1088424603000069.
Texte intégralRaghavan, V. « Fe-O-Sn (Iron-Oxygen-Tin) ». Journal of Phase Equilibria and Diffusion 31, no 4 (21 avril 2010) : 372. http://dx.doi.org/10.1007/s11669-010-9715-7.
Texte intégralIvanov A. F., Egorov F. S., Platonov N. D., Matukhin V. L. et Terukov E. I. « Influence of the oxygen during the deposition of an indium tin oxide thin film by magnetron sputtering for heterojunction solar cells ». Semiconductors 56, no 3 (2022) : 225. http://dx.doi.org/10.21883/sc.2022.03.53063.9747.
Texte intégralWu, Xiao Wen, Jian Xin Zhang, Yang Wang et Amin Huang. « Structure and Properties of Ti/TiN/Sb-SnO2 Electrodes with Plasma Sprayed TiN Interlayer ». Advanced Materials Research 602-604 (décembre 2012) : 1613–16. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.602-604.1613.
Texte intégralLaimböck, Paul. « In-Line Oxygen Sensors for the Glass Melt and the Float Bath ». Advanced Materials Research 39-40 (avril 2008) : 443–46. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.39-40.443.
Texte intégralReuter, Hans, et Hilko Wilberts. « On the structural diversity anions coordinate to the butterfly-shaped [(R2Sn)3O(OH)2]2+ cations and vice versa ». Canadian Journal of Chemistry 92, no 6 (juin 2014) : 496–507. http://dx.doi.org/10.1139/cjc-2013-0517.
Texte intégralMoatti, A., R. Bayati, S. Singamaneni et J. Narayan. « Epitaxial integration of TiO2 with Si(100) through a novel approach of oxidation of TiN/Si(100) epitaxial heterostructure ». MRS Advances 1, no 37 (2016) : 2629–34. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2016.463.
Texte intégralBeensh-Marchwicka, Grazyna, et Lubomila Krol-Stepniewska. « Reproducibility of Properties of SnOxThin Films Prepared by Reactive Sputtering ». ElectroComponent Science and Technology 11, no 4 (1985) : 271–80. http://dx.doi.org/10.1155/apec.11.271.
Texte intégralChoi, Jaewon, Wonjin Jeon, Dongjin Kang, Doowon Kang et Jungyol Jo. « Hydrogen-Assisted Sputtering Growth of TiN on Ceramic Substrates ». Coatings 9, no 4 (17 avril 2019) : 255. http://dx.doi.org/10.3390/coatings9040255.
Texte intégralLyutov, Dimitar, Plamen V. Petkov, Nasko Gorunski, Boyan Todorov et Hristo Iliev. « Investigation of selected materials stability for future application in development of small fast modular reactors (SFMR) ». MATEC Web of Conferences 387 (2023) : 05002. http://dx.doi.org/10.1051/matecconf/202338705002.
Texte intégralHuang, Amin, Jian Xin Zhang, Xiao Wen Wu et Yang Wang. « Structure and Performance of Ti/TiN/PbO2 Electrodes with Plasma-Sprayed TiN Interlayer ». Applied Mechanics and Materials 325-326 (juin 2013) : 40–42. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.325-326.40.
Texte intégralAgbede, Oluseye O., G. H. Kelsall et K. Hellgardt. « A novel molten tin reformer : Kinetics of oxygen dissolution in molten tin ». Chemical Engineering Science 231 (février 2021) : 116273. http://dx.doi.org/10.1016/j.ces.2020.116273.
Texte intégralKarami, Hassan, et Somayyeh Babaei. « Application of Tin Sulfide-Tin Dioxide Nanocomposite as Oxygen Gas-Sensing Agent ». International Journal of Electrochemical Science 8, no 11 (novembre 2013) : 12078–87. http://dx.doi.org/10.1016/s1452-3981(23)13245-7.
Texte intégralWen, Shijie, G. Campet et J. Portier. « Influence of Thermal Treatment Under Various Oxygen Pressures on The Electronic Properties of Ceramics and Single Crystals of Pure and Tin-Doped Indium Oxide ». Active and Passive Electronic Components 14, no 4 (1992) : 191–98. http://dx.doi.org/10.1155/1992/56168.
Texte intégralZhu, Dongsheng, Wanli Kang, Dewen Dong, Qun Liu et Lin Xu. « A Novel Macrocyclic Dimeric Dicarboxylato Distannoxane Assembled from a Flexible Dicarboxylic Acid ». Journal of Chemical Research 2007, no 10 (octobre 2007) : 577–79. http://dx.doi.org/10.3184/030823407x255524.
Texte intégralItoh, Satoshi, Hiroki Osamura et Kimihiko Komada. « Thermodynamics of Indium-Tin-Oxygen Ternary System ». MATERIALS TRANSACTIONS 52, no 6 (2011) : 1192–99. http://dx.doi.org/10.2320/matertrans.m-m2011806.
Texte intégralKhirunenko, Lyudmila I., Yu V. Pomozov et Mikhail G. Sosnin. « Oxygen Precipitation in Silicon Doped with Tin ». Solid State Phenomena 82-84 (novembre 2001) : 111–14. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.82-84.111.
Texte intégralKamp, B., R. Merkle et J. Maier. « Chemical diffusion of oxygen in tin dioxide ». Sensors and Actuators B : Chemical 77, no 1-2 (juin 2001) : 534–42. http://dx.doi.org/10.1016/s0925-4005(01)00694-3.
Texte intégralHARRISON, P. G. « ChemInform Abstract : Transformations Involving Tin-Oxygen Bonds ». ChemInform 23, no 42 (21 août 2010) : no. http://dx.doi.org/10.1002/chin.199242256.
Texte intégralUngureanu, Ana-Maria, Ovidiu Oprea, Bogdan Vasile, Corina Andronescu, Georgeta Voicu et Ioana Jitaru. « Temperature effect over structure and photochemical properties of nanostructured SnO2 powders ». Open Chemistry 12, no 9 (1 septembre 2014) : 909–17. http://dx.doi.org/10.2478/s11532-013-0400-7.
Texte intégralHan, Dongsuk, Jaehyung Park, Minsoo Kang, Hyeongtag Jeon et Jongwan Park. « Improvement in the Positive Bias Temperature Stability of SnOx-Based Thin Film Transistors by Hf and Zn Doping ». Journal of Nanoscience and Nanotechnology 15, no 10 (1 octobre 2015) : 7606–10. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2015.11155.
Texte intégralAbdul Basyir, Abdul Basyir, Robby Kurnia Robby Kurnia, Cherly Firdharini Cherly Firdharini, Didik Aryanto Didik Aryanto, Wahyu Bambang Widayatno Wahyu Bambang Widayatno et Agus Sukarto Wismogroho Agus Sukarto Wismogroho. « Investigation of Effect of Various Hot Gas Atomisation and Melting Pot Temperatures on Tin Alloy Powder Product ». Sains Malaysiana 51, no 9 (30 septembre 2022) : 3027–41. http://dx.doi.org/10.17576/jsm-2022-5109-23.
Texte intégralЧувенкова, Ольга Александровна, Николай Игоревич Бойков, Станислав Викторович Рябцев, Елена Владимировна Паринова, Ратибор Григорьевич Чумаков, Алексей Михайлович Лебедев, Дмитрий Смирнов et al. « Electronic structure and composition of tin oxide thin epitaxial and magnetron layers according to synchrotron XANES studies ». Конденсированные среды и межфазные границы 26, no 1 (28 février 2024) : 153–60. http://dx.doi.org/10.17308/kcmf.2024.26/11897.
Texte intégralGeoffroy, C., G. Campet, F. Menil, J. Portier, J. Salardenne et G. Couturier. « Optical and Electrical Properties of SnO2:F Thin Films Obtained by R.F. Sputtering With Various Targets ». Active and Passive Electronic Components 14, no 3 (1991) : 111–18. http://dx.doi.org/10.1155/1991/85965.
Texte intégralBecker, Martin, Angelika Polity, Davar Feili et Bruno K. Meyer. « Deposition of tin oxides by Ion-Beam-Sputtering ». MRS Proceedings 1494 (2012) : 153–58. http://dx.doi.org/10.1557/opl.2012.1650.
Texte intégralWang, Qi, Zhi Jian Peng, Yang Wang et Xiu Li Fu. « Deposition and Electrical Resistivity of Oxygen-Deficient Tin Oxide Films Prepared by RF Magnetron Sputtering at Different Powers ». Solid State Phenomena 281 (août 2018) : 504–9. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.281.504.
Texte intégralLin, Yichao, Minghui Guo, Jin Liu, Laijin Tian et Xicheng Liu. « Synthesis and structural characterization of the complexes of 2-(menthoxycarbonyl)ethyltin chloride ». Main Group Metal Chemistry 42, no 1 (25 mai 2019) : 37–45. http://dx.doi.org/10.1515/mgmc-2019-0003.
Texte intégralMukhamedshina, D. M., A. I. Fedosimova, E. A. Dmitriyeva, I. A. Lebedev, E. A. Grushevskaya, S. A. Ibraimova, K. A. Mit’ et A. S. Serikkanov. « Influence of Plasma Treatment on Physical Properties of Thin SnO2 Films Obtained from SnCl4 Solutions with Additions of NH4F and NH4OH ». Eurasian Chemico-Technological Journal, no 1 (20 février 2019) : 57. http://dx.doi.org/10.18321/ectj791.
Texte intégralIngold, K. U., et Gino A. DiLabio. « Is the oxygen “side-on”, or “end-on” and fluctional, in peroxyl radicals with magnetically equivalent oxygen atoms ? » Canadian Journal of Chemistry 88, no 11 (novembre 2010) : 1053–56. http://dx.doi.org/10.1139/v10-071.
Texte intégralWan, C. F., R. D. McGrath, W. F. Keenan et S. N. Frank. « LPCVD of Tin Oxide from Tetramethyltin and Oxygen ». Journal of The Electrochemical Society 136, no 5 (1 mai 1989) : 1459–63. http://dx.doi.org/10.1149/1.2096941.
Texte intégralTompkins, Harland G., et James A. Sellers. « Oxidation of TiN in an oxygen plasma asher ». Journal of Vacuum Science & ; Technology A : Vacuum, Surfaces, and Films 12, no 4 (juillet 1994) : 2446–50. http://dx.doi.org/10.1116/1.579191.
Texte intégralSeidel, F., H. R. Stock et P. Mayr. « Carbon, nitrogen and oxygen implantation into TiN coatings ». Surface and Coatings Technology 108-109 (octobre 1998) : 271–75. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(98)00562-3.
Texte intégralRaghavan, V. « Fe-O-Sn-Zn (Iron-Oxygen-Tin-Zinc) ». Journal of Phase Equilibria and Diffusion 31, no 4 (21 avril 2010) : 387–88. http://dx.doi.org/10.1007/s11669-010-9722-8.
Texte intégralRaghavan, V. « ChemInform Abstract : Fe-O-Sn (Iron-Oxygen-Tin) ». ChemInform 42, no 6 (13 janvier 2011) : no. http://dx.doi.org/10.1002/chin.201106217.
Texte intégralAmato-Wierda, Carmela, et Derk A. Wierda. « Chemical vapor deposition of titanium nitride thin films from tetrakis(dimethylamido)titanium and hydrazine as a coreactant ». Journal of Materials Research 15, no 11 (novembre 2000) : 2414–24. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0347.
Texte intégralMortazavi, S. Mohammad Reza, Fereshteh Rashchi et Rasoul Khayyam Nekouei. « Characterization of Nano-Structured Tin Oxide Film Prepared by Anodic Oxidation Process ». Advanced Materials Research 829 (novembre 2013) : 366–70. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.829.366.
Texte intégralPaskaleva, Albena, Boris Hudec, Peter Jancovic, Karol Fröhlich et Dencho Spassov. « The influence of technology and switching parameters on resistive switching behavior of Pt/HfO2/TiN MIM structures ». Facta universitatis - series : Electronics and Energetics 27, no 4 (2014) : 621–30. http://dx.doi.org/10.2298/fuee1404621p.
Texte intégralCzerwiński, Andrzej, Agata Skwarek, Mariusz Płuska, Jacek Ratajczak et Krzysztof Witek. « Tin Pest and Tin Oxidation on Tin-Rich Lead-Free Alloys Investigated by Electron Microscopy Methods ». Solid State Phenomena 186 (mars 2012) : 275–78. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.186.275.
Texte intégralKong, Xianqi, et T. Bruce Grindley. « Control of regioselectivity in reactions of dialkylstannylene acetals. Part I. A dramatic reversal of regioselectivity in mono-p-toluenesulfonation reactions ». Canadian Journal of Chemistry 72, no 12 (1 décembre 1994) : 2396–404. http://dx.doi.org/10.1139/v94-306.
Texte intégralPanjan, Peter, Aljaž Drnovšek, Pal Terek, Aleksandar Miletić, Miha Čekada et Matjaž Panjan. « Comparative Study of Tribological Behavior of TiN Hard Coatings Deposited by Various PVD Deposition Techniques ». Coatings 12, no 3 (22 février 2022) : 294. http://dx.doi.org/10.3390/coatings12030294.
Texte intégralMoskalewicz, Tomasz, Maciej Warcaba, Sławomir Zimowski et Alicja Łukaszczyk. « Improvement of the Ti-6Al-4V Alloy’s Tribological Properties and Electrochemical Corrosion Resistance by Nanocomposite TiN/PEEK708 Coatings ». Metallurgical and Materials Transactions A 50, no 12 (10 octobre 2019) : 5914–24. http://dx.doi.org/10.1007/s11661-019-05484-7.
Texte intégralZeinati, Aseel, Durga Misra, Dina H. Triyoso, Sophia Rogalskyj, K. Imakita, Kandabara Tapily, Steven Consiglio, Cory S. Wajda et Gert J. Leusink. « Impact of Bottom Electrode in HfO2-Based Rram Devices on Switching Characteristics ». ECS Meeting Abstracts MA2023-01, no 29 (28 août 2023) : 1783. http://dx.doi.org/10.1149/ma2023-01291783mtgabs.
Texte intégralHerzog, Thomas, Naomi Weitzel et Sebastian Polarz. « Oxygen vacancy injection-induced resistive switching in combined mobile and static gradient doped tin oxide nanorods ». Nanoscale 12, no 35 (2020) : 18322–32. http://dx.doi.org/10.1039/d0nr03734f.
Texte intégralHoleček, Jaroslav, Karel Handlíř, Antonín Lyčka, T. K. Chattopadhyay, B. Majee et A. K. Kumar. « Preparation and infrared and 13C, 17O, and 119Sn NMR spectra of some substituted di- and tri(1-butyl)tin phenoxyacetates and phenylthioacetates ». Collection of Czechoslovak Chemical Communications 51, no 5 (1986) : 1100–1111. http://dx.doi.org/10.1135/cccc19861100.
Texte intégralZhang, Chun Min, Xiao Yong Liu, Lin Qing Zhang, Hong Liang Lu, Peng Fei Wang et David Wei Zhang. « Ru Thin Film Formation Using Oxygen Plasma Enhanced ALD and Rapid Thermal Processing ». Materials Science Forum 815 (mars 2015) : 8–13. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.815.8.
Texte intégralABDULSATTAR, MUDAR AHMED, ADEEBH L. RESNE, SHROK ABDULLAH, RIYADH J. MOHAMMED, NOON KADHUM ALARED et ELHAM HANIE NASER. « CHLORINE GAS SENSING OF SnO2 NANOCLUSTERS AS A FUNCTION OF TEMPERATURE : A DFT STUDY ». Surface Review and Letters 26, no 04 (mai 2019) : 1850172. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x1850172x.
Texte intégralDmitriyeva, E. A., I. A. Lebedev, E. A. Grushevskaya, D. O. Murzalinov, A. S. Serikkanov, N. M. Tompakova, A. I. Fedosimova et A. T. Temiraliev. « The effect of three-minute exposure of oxygen plasma on the properties of tin oxide films ». Bulletin of the Karaganda University. "Physics" Series 99, no 3 (30 septembre 2020) : 38–45. http://dx.doi.org/10.31489/2020ph3/38-45.
Texte intégralSong, Seok-Kyun, Daeil Kim, Steven Kim, Seok-Keun Koh, Hyung-Jin Jung, Jeong-Young Lee et Hong-Koo Baik. « Structure and chemical characteristics of tin oxide films prepared by reactive-ion-assisted deposition as a function of oxygen ion beam energy ». Journal of Materials Research 15, no 9 (septembre 2000) : 1911–21. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0277.
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