Articles de revues sur le sujet « TIN EVAPORATION »
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John, K. J., B. Pradeep et E. Mathai. « Tin selenide (SnSe) thin films prepared by reactive evaporation ». Journal of Materials Science 29, no 6 (mars 1994) : 1581–83. http://dx.doi.org/10.1007/bf00368929.
Texte intégralJeong, Giuk, Yoon Hwan Jaung, Jekyung Kim, Jae Yong Song et Byungha Shin. « Sn1−xSe thin films with low thermal conductivity : role of stoichiometric deviation in thermal transport ». Journal of Materials Chemistry C 6, no 37 (2018) : 10083–87. http://dx.doi.org/10.1039/c8tc03051k.
Texte intégralJakubéczyová, Dagmar, Pavol Zubko, Mária Hagarová et Juraj Zubko. « Evaluation of Local Mechanical Properties of Thin Coatings Prepared by PVD Evaporation ». Key Engineering Materials 586 (septembre 2013) : 150–53. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.586.150.
Texte intégralHe, Xiangjun, Si-Ze Yang, Kun Tao et Yudian Fan. « Investigation of the interface reactions of Ti thin films with AlN substrate ». Journal of Materials Research 12, no 3 (mars 1997) : 846–51. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1997.0123.
Texte intégralMilinović, V., M. Milosavljević, M. Popović, M. Novaković, D. Peruško, I. Radović et N. Bibić. « Ion Beam Assisted Deposition of TiN Thin Films on Si Substrate ». Materials Science Forum 518 (juillet 2006) : 155–60. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.518.155.
Texte intégralMustapha, N., et R. P. Howson. « Optical TiN films by filtered arc evaporation ». Surface and Coatings Technology 92, no 1-2 (juin 1997) : 29–33. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00099-6.
Texte intégralYao, J. L., S. Hao et J. S. Wilkinson. « Indium tin oxide films by sequential evaporation ». Thin Solid Films 189, no 2 (août 1990) : 227–33. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(90)90451-i.
Texte intégralLaghrib, Souad, Hania Amardjia-Adnani, Djamila Abdi et Jean Marc Pelletier. « Tin oxide thin layers obtained by vacuum evaporation of tin and annealing under oxygen flow ». Vacuum 82, no 8 (avril 2008) : 782–88. http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2007.11.010.
Texte intégralNoaman, Sura Ali, Rashid Owaid Kadhim et Saleem Azara Hussain. « Structural and optical properties of Tin Oxide and Indium doped SnO2 thin films deposited by thermal evaporation technique ». JOURNAL OF ADVANCES IN PHYSICS 12, no 3 (30 octobre 2016) : 4394–99. http://dx.doi.org/10.24297/jap.v12i3.45.
Texte intégralKameneva, Anna, Vadim Karmanov, Sergey Stepanov et Darya Kameneva. « Comparison of corrosion, physico-mechanical and wear properties of TiN, ZrN, TixZr1-xN and Ti1-xAlxN coatings ». MATEC Web of Conferences 329 (2020) : 02029. http://dx.doi.org/10.1051/matecconf/202032902029.
Texte intégralAnwar, P. Mohamed, S. Muruganantham, M. Ismail Fathima, A. Ayeshamariam, S. Beer Mohamed, M. Benhaliliba et K. Kaviyarasu. « Photoelectrochemical Efficiency Applications of Antimony-doped Tin Oxide Thin Film by Thermal Evaporation Technique ». Asian Journal of Chemistry 34, no 6 (2022) : 1537–42. http://dx.doi.org/10.14233/ajchem.2022.23713.
Texte intégralG. Kunjomana, A., Bibin John et Karthikeyan R. « Processing and Characterization of Tin Chalcogenide Thin Films by Thermal Evaporation ». International Journal of Current Research and Review 10, no 21 (2018) : 46–48. http://dx.doi.org/10.31782/ijcrr.2018.4648.
Texte intégralVong, V. « Antimony-doped tin oxide thin films (SnOx) made by evaporation method ». Acta Crystallographica Section A Foundations of Crystallography 52, a1 (8 août 1996) : C392. http://dx.doi.org/10.1107/s0108767396083845.
Texte intégralBentzon, M. D., et F. Kragh. « Surface coatings of TiN produced by gas evaporation ». Micron and Microscopica Acta 21, no 3 (1990) : 182. http://dx.doi.org/10.1016/0739-6260(90)90090-3.
Texte intégralYu, Yue, Dewei Zhao, Corey R. Grice, Weiwei Meng, Changlei Wang, Weiqiang Liao, Alexander J. Cimaroli, Hongmei Zhang, Kai Zhu et Yanfa Yan. « Thermally evaporated methylammonium tin triiodide thin films for lead-free perovskite solar cell fabrication ». RSC Advances 6, no 93 (2016) : 90248–54. http://dx.doi.org/10.1039/c6ra19476a.
Texte intégralRafaja, David, Anna Poklad, Gerhard Schreiber, Volker Klemm, Dietrich Heger et Michal Šíma. « On the preferred orientation in Ti1–x Al x N and Ti1–x–y Al x Si y N thin films ». International Journal of Materials Research 96, no 7 (1 juillet 2005) : 738–42. http://dx.doi.org/10.1515/ijmr-2005-0129.
Texte intégralThi Tuyet Trinh, Mai, Hung Le Xuan, Hiep Le Thi Thanh et Loan Le Thi Ngoc. « Synthesis and characterizations of titanium nitride nanofibers prepared using nitridation method ». Vietnam Journal of Catalysis and Adsorption 9, no 2 (31 juillet 2020) : 17–22. http://dx.doi.org/10.51316/jca.2020.023.
Texte intégralMahdi, O. S., et Nadheer Jassim Mohammed. « Wetting Property of Tin Nanoparticles Thin Films ». Al-Mustansiriyah Journal of Science 32, no 4 (20 novembre 2021) : 57–59. http://dx.doi.org/10.23851/mjs.v32i4.972.
Texte intégralDillich, S. A., R. A. Kant, B. D. Sartwell, J. A. Sprague et F. A. Smidt. « The Tribological Behavior of TiN Coatings Prepared by IBAD ». Journal of Tribology 113, no 1 (1 janvier 1991) : 214–19. http://dx.doi.org/10.1115/1.2920592.
Texte intégralGaur, Shailendra Kumar, et R. S. Mishra. « Thermal Evaporation- Modeling and Microstructure Studies of Indium and Tin Deposition ». International Journal of Advance Research and Innovation 3, no 1 (2015) : 301–11. http://dx.doi.org/10.51976/ijari.311548.
Texte intégralJain, Parveen, Sukhvir Singh et Sandeep Kumar Pundir. « Synthesis of Highly Transparent Indium Tin Oxide Thin Films Using Vacuum Evaporation Technique ». Journal of Nanoscience and Nanotechnology 20, no 6 (1 juin 2020) : 3845–53. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2020.17505.
Texte intégralRondón Almeyda, Carlos Eduardo, Monica Andrea Botero Londoño et Rogelio Ospina Ospina. « Finite Element Analysis of An Evaporation System to Synthesize Kesterite thin Films ». Revista Ingenierías Universidad de Medellín 20, no 38 (15 mars 2021) : 51–66. http://dx.doi.org/10.22395/rium.v20n38a3.
Texte intégralDai, C. M., C. S. Su et D. S. Chuu. « Growth of highly oriented tin oxide thin films by laser evaporation deposition ». Applied Physics Letters 57, no 18 (29 octobre 1990) : 1879–81. http://dx.doi.org/10.1063/1.103998.
Texte intégralYamaguchi, Mika, Ari Ide-Ektessabi, Hiroshi Nomura et Nobuto Yasui. « Characteristics of indium tin oxide thin films prepared using electron beam evaporation ». Thin Solid Films 447-448 (janvier 2004) : 115–18. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2003.09.033.
Texte intégralLee, Ho-Nyeon, Hyung-Jung Kim et Chang-Kyo Kim. « p-Channel Tin Monoxide Thin Film Transistor Fabricated by Vacuum Thermal Evaporation ». Japanese Journal of Applied Physics 49, no 2 (5 février 2010) : 020202. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.49.020202.
Texte intégralTrebukhov, S. A., V. N. Volodin, O. V. Ulanova, A. V. Nitsenko et N. M. Burabaeva. « Thermodynamics of formation and evaporation of lead-tin alloys ». Kompleksnoe ispolʹzovanie mineralʹnogo syrʹâ/Complex Use of Mineral Resources/Mineraldik shikisattardy Keshendi Paidalanu 316, no 1 (15 mars 2021) : 82–90. http://dx.doi.org/10.31643/2021/6445.10.
Texte intégralVispute, R. D., V. P. Godbole, S. M. Chaudhari, S. M. Kanetkar et S. B. Ogale. « Deposition of tin oxide films by pulsed laser evaporation ». Journal of Materials Research 3, no 6 (décembre 1988) : 1180–86. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1988.1180.
Texte intégralPayne, R. S., A. Swann et P. J. Mills. « Thermal evaporation of tin on to softened polystyrene substrates ». Journal of Materials Science 25, no 7 (juillet 1990) : 3133–38. http://dx.doi.org/10.1007/bf00587662.
Texte intégralChen, Zhi, Kaiyu Yang et Jianqqu Wang. « Preparation of indium tin oxide films by vacuum evaporation ». Thin Solid Films 162 (août 1988) : 305–13. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(88)90219-2.
Texte intégralG.S. Chuah, Donald, et H. K. Fun. « A study of tin oxide film by vacuum evaporation ». Materials Letters 4, no 5-7 (juillet 1986) : 274–78. http://dx.doi.org/10.1016/0167-577x(86)90023-6.
Texte intégralSalehi, M., B. Janfeshan et S. K. Sadrnezhaad. « Growth of tin oxide nanotubes by aerial carbothermal evaporation ». Applied Physics A 97, no 2 (9 mai 2009) : 361–64. http://dx.doi.org/10.1007/s00339-009-5216-0.
Texte intégralPruna, Raquel, Manel López et Francesc Teixidor. « Tuning the deposition parameters for optimizing the faradaic and non-faradaic electrochemical performance of nanowire array-shaped ITO electrodes prepared by electron beam evaporation ». Nanoscale 11, no 1 (2019) : 276–84. http://dx.doi.org/10.1039/c8nr07908k.
Texte intégralSHAHZAD, N., N. ALI, I. HAQ, S. W. SHAH, S. ALI, Q. S. AHMAD, F. AZLULLAH, A. KALAM et A. G. AL-SEHEMI. « ANNEALED TIN SELENIDE (SnSe) THIN FILM MATERIAL FOR SOLAR CELL APPLICATION ». Chalcogenide Letters 17, no 7 (juillet 2020) : 347–51. http://dx.doi.org/10.15251/cl.2020.177.347.
Texte intégralReddy, N. Koteeswara, M. Devika, K. R. Gunasekhar et E. S. R. Gopal. « Fabrication of Photovoltaic Devices Using ZnO Nanostructures and SnS Thin Films ». Nano 11, no 07 (juillet 2016) : 1650077. http://dx.doi.org/10.1142/s1793292016500776.
Texte intégralMetel, Alexander, Sergey Grigoriev, Yury Melnik, Marina Volosova et Enver Mustafaev. « Surface Hardening of Machine Parts Using Nitriding and TiN Coating Deposition in Glow Discharge ». Machines 8, no 3 (24 juillet 2020) : 42. http://dx.doi.org/10.3390/machines8030042.
Texte intégralReddy, Tippasani Srinivasa, et M. C. Santhosh Kumar. « Influence of Substrate Temperature on Structural and Optical Properties of Co-Evaporated Cu<sub>2</sub>SnS<sub>3</sub>/ITO Thin Films ». Materials Science Forum 1048 (4 janvier 2022) : 189–97. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.1048.189.
Texte intégralKumar, Rajesh, et Swati Chawla. « Optical, Structural and Gas Sensing Studies on Tin Oxide Thin Films ». Asian Journal of Chemistry 31, no 8 (28 juin 2019) : 1805–8. http://dx.doi.org/10.14233/ajchem.2019.22054.
Texte intégralCasey, V., et M. I. Stephenson. « The Preparation and Properties of Tin Oxide Thin Films Deposited by Reactive Evaporation ». Key Engineering Materials 72-74 (janvier 1992) : 417–24. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.72-74.417.
Texte intégralKuo, Chia-Tung, Yu-Ying Chu, Han-Yi Chen et Tri-Rung Yew. « Tin-manganese-nickel oxide thin films prepared by thermal evaporation for photosensor applications ». Materials Science and Engineering : B 268 (juin 2021) : 115126. http://dx.doi.org/10.1016/j.mseb.2021.115126.
Texte intégralJain, Parveen, Sukhvir Singh, Azher Majid Siddqui et Avanish Kumar Srivastava. « Tin Oxide Thin Films Prepared by Thermal Evaporation Technique Under Different Vacuum Conditions ». Advanced Science, Engineering and Medicine 4, no 3 (1 juin 2012) : 230–36. http://dx.doi.org/10.1166/asem.2012.1177.
Texte intégralIndirajith, R., T. P. Srinivasan, K. Ramamurthi et R. Gopalakrishnan. « Synthesis, deposition and characterization of tin selenide thin films by thermal evaporation technique ». Current Applied Physics 10, no 6 (novembre 2010) : 1402–6. http://dx.doi.org/10.1016/j.cap.2010.05.002.
Texte intégralWan Mustapha, Wan Normiza, S. A. Rezan Sheikh Abdul Hamid, Sabar Derita Hutagalung, Nguyen Van Hieu, Khairudin Mohamed et Chan Kok You. « Synthesis and Gas Sensing Properties of SnO2 Nanostructures by Thermal Evaporation ». Advanced Materials Research 620 (décembre 2012) : 350–55. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.620.350.
Texte intégralTian, Jun, et Zi Qiong Shi. « PVD Preparation Process of (TiN + CrN) / CrAlN Superhard Nanocomposite Multilayer Coatings ». Advanced Materials Research 568 (septembre 2012) : 368–71. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.568.368.
Texte intégralHasan, Bushra A. « Electrical and morphological study of thermally evaporated (Sb2S3)1-xSnx thin films ». Iraqi Journal of Physics (IJP) 13, no 26 (10 février 2019) : 42–50. http://dx.doi.org/10.30723/ijp.v13i26.282.
Texte intégralRakesh Kumar, R., K. Narasimha Rao, K. Rajanna et A. R. Phani. « Growth Of Tin Catalyzed Silicon Nanowires By Electron Beam Evaporation ». Advanced Materials Letters 4, no 11 (1 novembre 2013) : 836–40. http://dx.doi.org/10.5185/amlett.2013.3449.
Texte intégralShukla, S., V. Venkatachalapathy et S. Seal. « Thermal Evaporation Processing of Nano and Submicron Tin Oxide Rods ». Journal of Physical Chemistry B 110, no 23 (juin 2006) : 11210–16. http://dx.doi.org/10.1021/jp061009b.
Texte intégralBendavid, A., P. J. Martin, R. P. Netterfield et T. J. Kinder. « The properties of TiN films deposited by filtered arc evaporation ». Surface and Coatings Technology 70, no 1 (novembre 1994) : 97–106. http://dx.doi.org/10.1016/0257-8972(94)90080-9.
Texte intégralSteinmann, Vera, R. Jaramillo, Katy Hartman, Rupak Chakraborty, Riley E. Brandt, Jeremy R. Poindexter, Yun Seog Lee et al. « 3.88% Efficient Tin Sulfide Solar Cells using Congruent Thermal Evaporation ». Advanced Materials 26, no 44 (20 août 2014) : 7488–92. http://dx.doi.org/10.1002/adma.201402219.
Texte intégralFu, L., et X. Pan. « Transmission Electron Microscopy Studies of Tin Oxide Thin Films Grown on the Sapphire Substrate ». Microscopy and Microanalysis 4, S2 (juillet 1998) : 622–23. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927600023230.
Texte intégralMUBARAK, ALI, ESAH BINTI HAMZAH, MOHD RADZI HJ MOHD TOFF et ABDUL HAKIM BIN HASHIM. « THE EFFECT OF NITROGEN GAS FLOW RATE ON THE PROPERTIES OF TiN-COATED HIGH-SPEED STEEL (HSS) USING CATHODIC ARC EVAPORATION PHYSICAL VAPOR DEPOSITION (PVD) TECHNIQUE ». Surface Review and Letters 12, no 04 (août 2005) : 631–43. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x05007542.
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