Livres sur le sujet « Thin film depositions »
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A, Hopwood Jeffrey, dir. Ionized physical vapor deposition. San Diego : Academic Press, 2000.
Trouver le texte intégralJaworek, Anatol. Electrospray technology for thin-film devices deposition. Hauppauge, N.Y : Nova Science, 2010.
Trouver le texte intégralKonuma, Mitsuharu. Film Deposition by Plasma Techniques. Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg, 1992.
Trouver le texte intégralIonized-cluster beam deposition and epitaxy. Park Ridge, N.J., U.S.A : Noyes Publications, 1988.
Trouver le texte intégralKonuma, Mitsuharu. Plasma techniques for film deposition. Harrow, U.K : Alpha Science International, 2005.
Trouver le texte intégral1950-, Konuma Mitsuharu, dir. Film deposition by plasma techniques. Berlin : Springer-Verlag, 1992.
Trouver le texte intégralPhotochemical vapor deposition. New York : Wiley, 1992.
Trouver le texte intégralMoroșanu, C. E. Thin films by chemical vapour deposition. Amsterdam : Elsevier, 1990.
Trouver le texte intégralThin-film deposition : Principles and practice. New York : McGraw-Hill, 1995.
Trouver le texte intégralKrishna, Seshan, dir. Handbook of thin-film deposition processes and techniques : Principles, methods, equipment, and applications. Park Ridge, N.J : Noyes Publications, 2000.
Trouver le texte intégralPhysical vapor deposition of thin films. New York : John Wiley & Sons, 2000.
Trouver le texte intégralPrinciples of physical vapor deposition of thin films. Amsterdam : Elsevier, 2006.
Trouver le texte intégralSimon, Tsuo Y., dir. Hydrogenated amorphous silicon alloy deposition processes. New York : M. Dekker, 1993.
Trouver le texte intégralB, Chrisey Douglas, et Hubler G. K, dir. Pulsed laser deposition of thin films. New York : J. Wiley, 1994.
Trouver le texte intégralMoran, Robert. Thin layer deposition : Highlighting PVD. Norwalk, CT : Business Communications Co., 2000.
Trouver le texte intégralJ, Mazumder, North Atlantic Treaty Organization. Scientific Affairs Division. et NATO Advanced Study Institute on "Laser Processing : Surface Treatment and Film Deposition" (1994 : Sezimbra, Portugal), dir. Laser processing : Surface treatment and film deposition. Dordrecht : Kluwer Academic Publishers, 1996.
Trouver le texte intégralEason, Robert, dir. Pulsed Laser Deposition of Thin Films. Hoboken, NJ, USA : John Wiley & Sons, Inc., 2006. http://dx.doi.org/10.1002/0470052120.
Texte intégralHawkeye, Matthew M., Michael T. Taschuk et Michael J. Brett. Glancing Angle Deposition of Thin Films. Chichester, UK : John Wiley & Sons, Ltd, 2014. http://dx.doi.org/10.1002/9781118847510.
Texte intégralEason, Robert. Pulsed Laser Deposition of Thin Films. New York : John Wiley & Sons, Ltd., 2006.
Trouver le texte intégral1943-, Lu T. M., dir. Evolution of thin film morphology : Modeling and simulations. New York : Springer, 2008.
Trouver le texte intégralL, Smith Donald. Thin-film deposition and applications : Principles and practice. Maidenhead : McGraw-Hill, 1994.
Trouver le texte intégralW, Rubloff G., et American Institute of Physics, dir. Deposition and growth : Limits for microelectronics, Anaheim, CA, 1987. New York : American Institute of Physics, 1988.
Trouver le texte intégralAmorphous silicon carbide thin films : Deposition, characterization, etching, and piezoresistive sensors applications. Hauppauge, N.Y : Nova Science Publishers, 2011.
Trouver le texte intégralKromann, Rasmus. Deposition, characterization, and electronic applications of YBa2Cu3O7 thin films. Roskilde : Risø National Laboratory, 1992.
Trouver le texte intégralSchuegraf, Klaus K. Handbook of Thin Film Deposition Processes and Techniques : Principles, Methods, Equipment and Applications. Burlington : Elsevier, 2001.
Trouver le texte intégralMoutinho, Helio R. Mechanisms of growth of nanocrystalline silicon deposited by hot-wire chemical vapor deposition. Golden, Colo : National Renewable Energy Laboratory, 2005.
Trouver le texte intégralUnited States. National Aeronautics and Space Administration., dir. Analysis of hard thin film coating : Final report for NASA-UAH contract NAS8-38609, D.O. 59 : funding level, $19,000 (total). [Washington, DC : National Aeronautics and Space Administration, 1998.
Trouver le texte intégralMaterials science of thin films : Deposition and structure. 2e éd. San Diego, CA : Academic Press, 2002.
Trouver le texte intégralThin-film organic photonics : Molecular layer deposition and applications. Boca Raton : Taylor & Francis, 2011.
Trouver le texte intégralSeshan, Krishna, et Dominic Schepis. Handbook of Thin Film Deposition. Elsevier, 2024.
Trouver le texte intégralHandbook of Thin Film Deposition. Elsevier Science & Technology Books, 2012.
Trouver le texte intégralSeshan, Krishna, et Dominic Schepis. Handbook of Thin Film Deposition. Elsevier Science & Technology Books, 2018.
Trouver le texte intégralSeshan, Krishna. Handbook of Thin Film Deposition. Elsevier Science & Technology Books, 2012.
Trouver le texte intégralSeshan, Krishna, et Dominic Schepis. Handbook of Thin Film Deposition. Elsevier Science & Technology Books, 2018.
Trouver le texte intégralPowell, Ronald, et Abraham Ulman. Ionized Physical Vapor Deposition. Elsevier Science & Technology Books, 1999.
Trouver le texte intégralJacobson, Michael Roy. Optical Thin Film Deposition. Mcgraw-Hill (Tx), 1992.
Trouver le texte intégralLin, Yuan. Advanced Nano Deposition Methods. Wiley & Sons, Incorporated, John, 2016.
Trouver le texte intégralLin, Yuan. Advanced Nano Deposition Methods. Wiley-VCH Verlag GmbH, 2016.
Trouver le texte intégralLin, Yuan. Advanced Nano Deposition Methods. Wiley & Sons, Incorporated, John, 2016.
Trouver le texte intégralLin, Yuan. Advanced Nano Deposition Methods. Wiley & Sons, Limited, John, 2016.
Trouver le texte intégralLin, Yuan. Advanced Nano Deposition Methods. Wiley & Sons, Incorporated, John, 2016.
Trouver le texte intégralMaurice H. Francombe (Series Editor) et John L. Vossen (Series Editor), dir. Plasma Sources for Thin Film Deposition and Etching (Physics of Thin Films Volume 18). Academic Press, 1994.
Trouver le texte intégralSeshan, Krishna. Handbook of Thin Film Deposition Techniques. 2e éd. Noyes Publications, 2001.
Trouver le texte intégralTakagi, Toshinori. Ionized-Cluster Beam Deposition and Epitaxy. Elsevier Science & Technology Books, 1989.
Trouver le texte intégralPlasma Techniques for Film Deposition. Alpha Science International, Ltd, 2006.
Trouver le texte intégralDepla, Diederik, et Stijn Mahieu. Reactive Sputter Deposition. Springer, 2010.
Trouver le texte intégralHandbook of Thin Film Deposition. Elsevier, 2012. http://dx.doi.org/10.1016/c2009-0-64359-2.
Texte intégralHandbook of Thin Film Deposition. Elsevier, 2018. http://dx.doi.org/10.1016/c2016-0-03243-6.
Texte intégralGould, Phillip. Deposition and Characterization of Thin Films. Springer London, Limited, 1999.
Trouver le texte intégralShah, S., D. Glocker et L. Vescan. Handbook of Thin Film Process Technology 99/1 Substrate Preparation for Thin Film Deposition. Taylor & Francis Group, 2000.
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