Littérature scientifique sur le sujet « TaAlN coating »
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Articles de revues sur le sujet "TaAlN coating"
Koller, C. M., R. Hollerweger, C. Sabitzer, R. Rachbauer, S. Kolozsvári, J. Paulitsch et P. H. Mayrhofer. « Thermal stability and oxidation resistance of arc evaporated TiAlN, TaAlN, TiAlTaN, and TiAlN/TaAlN coatings ». Surface and Coatings Technology 259 (novembre 2014) : 599–607. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2014.10.024.
Texte intégralKumar, D. Dinesh, Revati Rani, Niranjan Kumar, Kalpataru Panda, A. M. Kamalan Kirubaharan, P. Kuppusami et R. Baskaran. « Tribochemistry of TaN, TiAlN and TaAlN coatings under ambient atmosphere and high-vacuum sliding conditions ». Applied Surface Science 499 (janvier 2020) : 143989. http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.143989.
Texte intégralOKANO, Yukiko, Shuichi TAJIRI, Takashi AOZONO, Akio OKAMOTO, Soichi OGAWA et Hiroshi MIMA. « Fabrication of High TCR TaAl-N Thin Film by Reactive Sputtering Method ». Shinku 50, no 3 (2007) : 173–74. http://dx.doi.org/10.3131/jvsj.50.173.
Texte intégralSchalk, Nina, Christian Saringer, Alexander Fian, Velislava L. Terziyska, Jaakko Julin et Michael Tkadletz. « Evolution of the microstructure of sputter deposited TaAlON thin films with increasing oxygen partial pressure ». Surface and Coatings Technology 418 (juillet 2021) : 127237. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2021.127237.
Texte intégralCoss, Brian, Hyun-Chul Kim, Francisco S. Aguirre-Tostado, Robert M. Wallace et Jiyoung Kim. « Role of lanthanum in the gate stack : Co-sputtered TaLaN metal gates on Hf-based dielectrics ». Microelectronic Engineering 86, no 3 (mars 2009) : 235–39. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2008.05.027.
Texte intégralOKANO, Yukiko, Shuichi TAJIRI, Takashi AOZONO, Akio OKAMOTO, Soichi OGAWA et Hiroshi MIMA. « Deposition of TaAl-N Thin Film on the Polyimide Film-Discussion for the New Vacuum Sensor in a Wide Range- ». Shinku 49, no 3 (2006) : 162–64. http://dx.doi.org/10.3131/jvsj.49.162.
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