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Zeman, Miroslav. « Thin-Film Silicon PV Technology ». Journal of Electrical Engineering 61, no 5 (1 septembre 2010) : 271–76. http://dx.doi.org/10.2478/v10187-010-0039-y.
Texte intégralJohnson, R. W., T. L. Phillips, R. C. Jaeger, S. F. Hahn et D. C. Burdeaux. « Multichip thin-film technology on silicon ». IEEE Transactions on Components, Hybrids, and Manufacturing Technology 12, no 2 (juin 1989) : 185–94. http://dx.doi.org/10.1109/33.31423.
Texte intégralShah, A. V., H. Schade, M. Vanecek, J. Meier, E. Vallat-Sauvain, N. Wyrsch, U. Kroll, C. Droz et J. Bailat. « Thin-film silicon solar cell technology ». Progress in Photovoltaics : Research and Applications 12, no 23 (mars 2004) : 113–42. http://dx.doi.org/10.1002/pip.533.
Texte intégralBeaucarne, Guy. « Silicon Thin-Film Solar Cells ». Advances in OptoElectronics 2007 (17 décembre 2007) : 1–12. http://dx.doi.org/10.1155/2007/36970.
Texte intégralCheng, Yu, Huayi Hu, Zhihong Gao, Ke Zhou, Xiaona Wang, Shihong Xiang et Xiaohui Chen. « Thin film silicon solar module encapsulation technology research ». MRS Proceedings 1771 (2015) : 87–95. http://dx.doi.org/10.1557/opl.2015.489.
Texte intégralSchropp, Ruud E. I., Reinhard Carius et Guy Beaucarne. « Amorphous Silicon, Microcrystalline Silicon, and Thin-Film Polycrystalline Silicon Solar Cells ». MRS Bulletin 32, no 3 (mars 2007) : 219–24. http://dx.doi.org/10.1557/mrs2007.25.
Texte intégralLang, W., P. Steiner, U. Schaber et A. Richter. « A thin film bolometer using porous silicon technology ». Sensors and Actuators A : Physical 43, no 1-3 (mai 1994) : 185–87. http://dx.doi.org/10.1016/0924-4247(93)00691-v.
Texte intégralSchröder, Bernd. « Thin film technology based on hydrogenated amorphous silicon ». Materials Science and Engineering : A 139 (juillet 1991) : 319–33. http://dx.doi.org/10.1016/0921-5093(91)90636-2.
Texte intégralSassaki, C. A., A. T. Arasaki, M. P. Carreño, A. Komazawa et I. Pereyra. « Integral thin film technology amorphous silicon image sensor ». Journal of Non-Crystalline Solids 115, no 1-3 (décembre 1989) : 90–92. http://dx.doi.org/10.1016/0022-3093(89)90370-0.
Texte intégralGuo, Hang, Jun Ying Jiang, Jia Xing Liu, Zhi Hua Nie, Fang Ye et Chong Fang Ma. « Fabrication and Calibration of Cu-Ni Thin Film Thermocouples ». Advanced Materials Research 512-515 (mai 2012) : 2068–71. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.512-515.2068.
Texte intégralGalashev, Alexander, et Ksenia Abramova. « Molecular Dynamics Simulation of Thin Silicon Carbide Films Formation by the Electrolytic Method ». Materials 16, no 8 (15 avril 2023) : 3115. http://dx.doi.org/10.3390/ma16083115.
Texte intégralKim, Sungjoon, Vikas Berry, Jessica Metcalfe et Anirudha V. Sumant. « Thin film charged particle detectors ». Journal of Instrumentation 18, no 07 (1 juillet 2023) : P07047. http://dx.doi.org/10.1088/1748-0221/18/07/p07047.
Texte intégralWang, Sheng Zhao, Ying Peng Yin, Chun Juan Nan et Ming Ji Shi. « Influence of Substrate on μc-Si : H Thin Films ». Key Engineering Materials 538 (janvier 2013) : 169–72. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.538.169.
Texte intégralYan, Jiwang, Kenta Watanabe et Yutaro Nakagawa. « Fabrication of Thin-Film Fresnel Optics by Combining Diamond Turning and Photolithographic Processes ». International Journal of Automation Technology 7, no 4 (5 juillet 2013) : 385–90. http://dx.doi.org/10.20965/ijat.2013.p0385.
Texte intégralHaug, F. J., et C. Ballif. « Light management in thin film silicon solar cells ». Energy & ; Environmental Science 8, no 3 (2015) : 824–37. http://dx.doi.org/10.1039/c4ee03346a.
Texte intégralBawedin, M., C. Renaux et D. Flandre. « LDMOS in SOI technology with very-thin silicon film ». Solid-State Electronics 48, no 12 (décembre 2004) : 2263–70. http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2004.06.007.
Texte intégralFortunato, G. « Polycrystalline silicon thin-film transistors : A continuous evolving technology ». Thin Solid Films 296, no 1-2 (mars 1997) : 82–90. http://dx.doi.org/10.1016/s0040-6090(96)09378-9.
Texte intégralLechner, P., et H. Schade. « Photovoltaic thin-film technology based on hydrogenated amorphous silicon ». Progress in Photovoltaics : Research and Applications 10, no 2 (2002) : 85–97. http://dx.doi.org/10.1002/pip.412.
Texte intégralNiu, X., C. Yu, M. Wang, G. Li, X. Zhu, B. Cheng, Z. Chen et al. « Progress in Research and Mass Production of Large-Scale Tandem Thin Film Si Solar Modules at Chint Solar ». MRS Proceedings 1426 (2012) : 15–26. http://dx.doi.org/10.1557/opl.2012.1259.
Texte intégralChen, Lan Li, Sheng Zhao Wang, Ying Peng Yin et Ming Ji Shi. « Influence of Deposition Temperature on Microcrystalline Silicon Thin Film Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ». Solid State Phenomena 181-182 (novembre 2011) : 401–4. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.181-182.401.
Texte intégralWang, Sheng Zhao, Dan Zhang, Ying Peng Yin, Ming Ji Shi, Da Yong Huang et Jia Hui Yu. « Influence of Radio Frequency Power on Microstructure of Microcrystalline Silicon Films ». Solid State Phenomena 181-182 (novembre 2011) : 426–29. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.181-182.426.
Texte intégralVelut, Paul, Robert Tween, Rémy Teuscher, Yves Leterrier, Jan-Anders E. Månson, Federico Galliano et Diego Fischer. « Conformal thin film silicon photovoltaic modules ». International Journal of Sustainable Energy 33, no 4 (28 février 2013) : 783–96. http://dx.doi.org/10.1080/14786451.2013.766611.
Texte intégralXue, Chun Rong, et Xia Yun Sun. « High Efficiency Thin Film Silicon Solar Cells ». Advanced Materials Research 750-752 (août 2013) : 970–73. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.750-752.970.
Texte intégralNichinte, Akshay, Vishwesh Vyawahare et Dhiraj Magare. « Seasonal performance estimation of thin film photovoltaic technology ». ITM Web of Conferences 32 (2020) : 03055. http://dx.doi.org/10.1051/itmconf/20203203055.
Texte intégralShang, Yingqi, Hongquan Zhang, Weiwei Liu, Dongsa Chen, Shuangyu Wu et Zuofei Wu. « Research on AlN thin film microstructure processing technology based on ultra-thin cantilever beam structure ». AIP Advances 13, no 3 (1 mars 2023) : 035130. http://dx.doi.org/10.1063/5.0132910.
Texte intégralMoschou, Despina, Dimitrios Kouvatsos, Giannis Kontogiannopoulos, Filippos Farmakis et Apostolos Voutsas. « Technology, performance and degradation characteristics of SLS ELA thin film transistors ». Facta universitatis - series : Electronics and Energetics 26, no 3 (2013) : 247–80. http://dx.doi.org/10.2298/fuee1303247m.
Texte intégralSzindler, M., L. A. Dobrzański, M. M. Szindler, M. Pawlyta et T. Jung. « Comparison of surface morphology and structure of Al2O3 thin films deposited by sol-gel and ALD methods ». Journal of Achievements in Materials and Manufacturing Engineering 2, no 82 (1 juin 2017) : 49–57. http://dx.doi.org/10.5604/01.3001.0010.2354.
Texte intégralJohnson, R. A., P. R. de la Houssaye, C. E. Chang, Pin-Fan Chen, M. E. Wood, G. A. Garcia, I. Lagnado et P. M. Asbeck. « Advanced thin-film silicon-on-sapphire technology : microwave circuit applications ». IEEE Transactions on Electron Devices 45, no 5 (mai 1998) : 1047–54. http://dx.doi.org/10.1109/16.669525.
Texte intégralMariucci, L., G. Fortunato, A. Pecora, A. Bearzotti, P. Carelli et R. Leoni. « Hydrogenated amorphous silicon technology for chemically sensitive thin-film transistors ». Sensors and Actuators B : Chemical 6, no 1-3 (janvier 1992) : 29–33. http://dx.doi.org/10.1016/0925-4005(92)80026-t.
Texte intégralDominguez, Miguel A., Pedro Rosales, Alfonso Torres et Mario Moreno. « Development of Low-Temperature Ambipolar a-SiGe:H Thin-Film Transistors Technology ». MRS Proceedings 1426 (2012) : 169–73. http://dx.doi.org/10.1557/opl.2012.869.
Texte intégralAdamo, Cristina B., Alexander Flacker, Wilson Freitas, Ricardo C. Teixeira, Michele O. Da Silva et Antonio L. Rotondaro. « Multi-Chip Module (MCM-D) Using Thin Film Technology ». Journal of Integrated Circuits and Systems 10, no 1 (28 décembre 2015) : 21–29. http://dx.doi.org/10.29292/jics.v10i1.401.
Texte intégralChen, Kai-Huang, Chien-Min Cheng, Na-Fu Wang, Jia-Cheng Zhou et Mei-Li Chen. « Bipolar Switching Properties of GdOx:SiO2 Thin Film Resistive Random Access Memory Using Co-Sputtering Technology ». Crystals 13, no 2 (17 janvier 2023) : 156. http://dx.doi.org/10.3390/cryst13020156.
Texte intégralFu, Jun Wei, Wei Li, Mao Yang Wu, Min He et Ya Dong Jiang. « Design and Simulation of Infrared Absorption Based on Hydrogenated Amorphous Silicon Thin Film ». Advanced Materials Research 383-390 (novembre 2011) : 4702–7. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.383-390.4702.
Texte intégralAUBERTON-HERVÉ, A. J., et MICHEL BRUEL. « WHY CAN SMART CUT® CHANGE THE FUTURE OF MICROELECTRONICS ? » International Journal of High Speed Electronics and Systems 10, no 01 (mars 2000) : 131–46. http://dx.doi.org/10.1142/s0129156400000179.
Texte intégralFredric, C., D. Tarrant, C. Jensen, J. Hummel et J. Ermer. « CuInSe2 Thin Film Modules for Utility Applications ». Journal of Solar Energy Engineering 116, no 1 (1 février 1994) : 25–27. http://dx.doi.org/10.1115/1.2930060.
Texte intégralWang, Xiao Yan, Qiong Wu, Hai Yan Li, Hai Dong Ju, Hai Yang, Jin Long Luo, Li Ying Pu, Shan Du et Hai Wang. « Thin Film Solar Cells and their Development Prospects in Yunnan ». Advanced Materials Research 651 (janvier 2013) : 29–32. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.651.29.
Texte intégralZhao, Xiao Feng, Dian Zhong Wen, Cui Cui Zhuang, Bing Han, Yue Li, Jing Ya Cao et Lei Li. « Fabrication and Characteristics of the Nano-Polysilicon Thin Film Transistors ». Key Engineering Materials 562-565 (juillet 2013) : 13–17. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.562-565.13.
Texte intégralChen, Lan Li, Jia Hui Yu, Sheng Zhao Wang et Ming Ji Shi. « Influence of Hydrogen Dilution on Microstructure of μc-Si : H Films ». Key Engineering Materials 538 (janvier 2013) : 138–41. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.538.138.
Texte intégralFernández, Susana, Ignacio Torres et José Javier Gandía. « Sputtered Ultrathin TiO2 as Electron Transport Layer in Silicon Heterojunction Solar Cell Technology ». Nanomaterials 12, no 14 (16 juillet 2022) : 2441. http://dx.doi.org/10.3390/nano12142441.
Texte intégralVladoiu, Rodica, Aurelia Mandes, Mirela Contulov, Virginia Dinca et Corneliu Porosnicu. « Investigation of Composition-Properties’ Relations on Silicon and Carbon Based Nanomaterials ». Advanced Materials Research 816-817 (septembre 2013) : 232–36. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.816-817.232.
Texte intégralHe, Ziyan, Xu Zhang, Xiaoqin Wei, Dongxiang Luo, Honglong Ning, Qiannan Ye, Renxu Wu, Yao Guo, Rihui Yao et Junbiao Peng. « Solution-Processed Silicon Doped Tin Oxide Thin Films and Thin-Film Transistors Based on Tetraethyl Orthosilicate ». Membranes 12, no 6 (1 juin 2022) : 590. http://dx.doi.org/10.3390/membranes12060590.
Texte intégralNIJS, J. F., J. SZLUFCIK, J. POORTMANS et R. P. MERTENS. « CRYSTALLINE SILICON BASED PHOTOVOLTAICS : TECHNOLOGY AND MARKET TRENDS ». Modern Physics Letters B 15, no 17n19 (20 août 2001) : 571–78. http://dx.doi.org/10.1142/s021798490100204x.
Texte intégralCarlson, D. E., K. Rajan, R. R. Arya, F. Willing et L. Yang. « Advances in amorphous silicon photovoltaic technology ». Journal of Materials Research 13, no 10 (octobre 1998) : 2754–62. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1998.0377.
Texte intégralHossain, Mohammad Kamal. « Thin Film Solar Cell : Characteristics and Characterizations ». Advanced Materials Research 1116 (juillet 2015) : 51–58. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.1116.51.
Texte intégralRen, Zhihao, Jikai Xu, Xianhao Le et Chengkuo Lee. « Heterogeneous Wafer Bonding Technology and Thin-Film Transfer Technology-Enabling Platform for the Next Generation Applications beyond 5G ». Micromachines 12, no 8 (11 août 2021) : 946. http://dx.doi.org/10.3390/mi12080946.
Texte intégralBirke, P. « Materials for lithium thin-film batteries for application in silicon technology ». Solid State Ionics 93, no 1-2 (décembre 1996) : 1–15. http://dx.doi.org/10.1016/s0167-2738(96)00489-4.
Texte intégralMeillaud, F., M. Boccard, G. Bugnon, M. Despeisse, S. Hänni, F. J. Haug, J. Persoz, J. W. Schüttauf, M. Stuckelberger et C. Ballif. « Recent advances and remaining challenges in thin-film silicon photovoltaic technology ». Materials Today 18, no 7 (septembre 2015) : 378–84. http://dx.doi.org/10.1016/j.mattod.2015.03.002.
Texte intégralYan, Baojie, Jeffrey Yang et Subhendu Guha. « Amorphous and nanocrystalline silicon thin film photovoltaic technology on flexible substrates ». Journal of Vacuum Science & ; Technology A : Vacuum, Surfaces, and Films 30, no 4 (juillet 2012) : 04D108. http://dx.doi.org/10.1116/1.4707154.
Texte intégralGleskova, H., S. Wagner, V. Gašparı́k et P. Kováč. « 150°C Amorphous Silicon Thin-Film Transistor Technology for Polyimide Substrates ». Journal of The Electrochemical Society 148, no 7 (2001) : G370. http://dx.doi.org/10.1149/1.1373661.
Texte intégralChang, R. P. H., et J. M. Poate. « Workshop Identifies Scientific, Commercial Opportunities for Future Thin Film Research and Technology ». MRS Bulletin 16, no 11 (novembre 1991) : 63–68. http://dx.doi.org/10.1557/s0883769400055548.
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