Articles de revues sur le sujet « Silicon Nano-structured Thin Films »
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Fu, Xiao-An, Sangsoo Noh, Li Chen et Mehran Mehregany. « Very Thin Poly-SiC Films for Micro/Nano Devices ». Journal of Nanoscience and Nanotechnology 8, no 6 (1 juin 2008) : 3063–67. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2008.18321.
Texte intégralAlet, Pierre-Jean, Serge Palacin et Pere Roca i. Cabarrocas. « Low-temperature growth of nano-structured silicon thin films on ITO initiated by metal catalysts ». Thin Solid Films 517, no 23 (octobre 2009) : 6405–8. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2009.02.106.
Texte intégralDas, Debajyoti. « Quantum confinement effects in nano-silicon thin films ». Solid State Communications 108, no 12 (novembre 1998) : 983–87. http://dx.doi.org/10.1016/s0038-1098(98)00478-5.
Texte intégralYu, Gui Wen, Jing Dong, Ye Tian, Wen Xin Li et Xue Gong. « Prepared and Surface Analyzed of Nano-Silicon Nitride Thin Films ». Advanced Materials Research 233-235 (mai 2011) : 2015–18. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.233-235.2015.
Texte intégralMehmet zkan, Mehmet zkan, et Sercen Sadik Erdem Sercen Sadik Erdem. « Silver Doped Zinc Oxide Thin Film Production by Thermionic Vacuum Arc (TVA) Technique ». Journal of the chemical society of pakistan 43, no 3 (2021) : 253. http://dx.doi.org/10.52568/000581/jcsp/43.03.2021.
Texte intégralMehmet zkan, Mehmet zkan, et Sercen Sadik Erdem Sercen Sadik Erdem. « Silver Doped Zinc Oxide Thin Film Production by Thermionic Vacuum Arc (TVA) Technique ». Journal of the chemical society of pakistan 43, no 3 (2021) : 253. http://dx.doi.org/10.52568/000581.
Texte intégralSuresh, S., T. G. Nieh et B. W. Choi. « Nano-indentation of copper thin films on silicon substrates ». Scripta Materialia 41, no 9 (octobre 1999) : 951–57. http://dx.doi.org/10.1016/s1359-6462(99)00245-6.
Texte intégralAcosta, E., N. M. Wight, V. Smirnov, J. Buckman et N. S. Bennett. « Hydrogenated Nano-/Micro-Crystalline Silicon Thin-Films for Thermoelectrics ». Journal of Electronic Materials 47, no 6 (30 novembre 2017) : 3077–84. http://dx.doi.org/10.1007/s11664-017-5977-8.
Texte intégralGracin, D., A. Gajović, K. Juraić, M. Čeh, Z. Remeš, A. Poruba et M. Vaněček. « Spectral response of amorphous–nano-crystalline silicon thin films ». Journal of Non-Crystalline Solids 354, no 19-25 (mai 2008) : 2286–90. http://dx.doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2007.10.076.
Texte intégralZhao, Xiao Feng, Dian Zhong Wen, Yang Li, Yuan Xin Hou, Chun Peng Ai, Zhi Qiang Wang et De Jun Xiu. « Structure Design, Fabrication and Characteristics of Polysilicon Nano-Thin Films Resistances Pressure Sensor Based on MEMS Technology ». Key Engineering Materials 483 (juin 2011) : 200–205. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.483.200.
Texte intégralHANABUSA, TAKAO, KAZUYA KUSAKA, SHOSO SHINGUBARA et OSAMI SAKATA. « THERMAL STRESS BEHAVIOR IN NANO-SIZE THIN ALUMINUM FILMS ». International Journal of Modern Physics B 20, no 25n27 (30 octobre 2006) : 4691–96. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979206041902.
Texte intégralShi, Chang Zhi, Xiao Wei Liu, Xuan Wu et Hai Tao Zheng. « Piezoresistive Sensitivity and Al Ohmic Contact of Highly Doped Polycrystalline Silicon Nano Thin Films ». Key Engineering Materials 483 (juin 2011) : 789–93. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.483.789.
Texte intégralLAMBA, V. K., O. P. GARG et D. ENGLES. « SCATTERING IN NANO-FILMS ». Journal of Multiscale Modelling 04, no 02 (juin 2012) : 1250007. http://dx.doi.org/10.1142/s1756973712500072.
Texte intégralNajafov, BA, FP Abasov et RS Ibragimov. « Obtaining Thin Films of Silicon-Carbon Method of Reactive Magnetron Sputtering are used as Solar Cells ». Journal of Nanosciences Research & ; Reports 3, no 2 (30 juin 2021) : 1–7. http://dx.doi.org/10.47363/jnsrr/2021(3)121.
Texte intégralCao, Chuanbao, Jiyu Fu et Hesun Zhu. « CARBON NITRIDE THIN FILMS DEPOSITED BY CATHODIC ELECTRODEPOSITION ». International Journal of Modern Physics B 16, no 06n07 (20 mars 2002) : 1138–42. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979202011007.
Texte intégralZamil Abdulzahra, Narjis. « EXTRAORDINARY MAGNETORESISTANCE OF LASERANNEALED NANO BORON DEPOSITEDON OXIDIZED POROUS SILICON ». Eurasian Physical Technical Journal 20, no 2 (44) (21 juin 2023) : 20–31. http://dx.doi.org/10.31489/2023no2/20-31.
Texte intégralToliopoulos, Dimosthenis, Alexey Fedorov, Sergio Bietti, Monica Bollani, Emiliano Bonera, Andrea Ballabio, Giovanni Isella et al. « Solid-State Dewetting Dynamics of Amorphous Ge Thin Films on Silicon Dioxide Substrates ». Nanomaterials 10, no 12 (17 décembre 2020) : 2542. http://dx.doi.org/10.3390/nano10122542.
Texte intégralRojwal, Vineet, Monoj Kumar Singha, T. K. Mondal et Debojyoti Mondal. « Formation of micro structured doped and undoped hydrogenated silicon thin films ». Superlattices and Microstructures 124 (décembre 2018) : 201–17. http://dx.doi.org/10.1016/j.spmi.2018.09.022.
Texte intégralKhaleeq-ur-Rahman, M., K. A. Bhatti, M. S. Rafique, S. Anjum, A. Latif, M. Anjum, A. Ahsan et H. Ozair. « Morphological and structural analysis of nano-structured gold thin film on silicon by pulsed laser deposition technique ». Vacuum 85, no 3 (septembre 2010) : 353–57. http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2010.05.002.
Texte intégralKulkarni, Anand, Durdu Guney et Ankit Vora. « Optical Absorption in Nano-Structures : Classical and Quantum Models ». ISRN Nanomaterials 2013 (29 décembre 2013) : 1–7. http://dx.doi.org/10.1155/2013/504341.
Texte intégralYan, Zhao, Yu Han et Kei May Lau. « InAs nano-ridges and thin films grown on (001) silicon substrates ». Journal of Applied Physics 128, no 3 (21 juillet 2020) : 035302. http://dx.doi.org/10.1063/5.0011808.
Texte intégralMarins, E., V. Guduru, M. Ribeiro, F. Cerqueira, A. Bouattour et P. Alpuim. « High-rate deposition of nano-crystalline silicon thin films on plastics ». physica status solidi (c) 8, no 3 (13 janvier 2011) : 846–49. http://dx.doi.org/10.1002/pssc.201000288.
Texte intégralBhaskar, Umesh, Vikram Passi, Azeem Zulfiqar, Ulf Södervall, Bengt Nilsson, Goran Petersson, Mats Hagberg, Thomas Pardoen et Jean Pierre Raskin. « On-Chip Tensile Testing of the Mechanical and Electro-Mechanical Properties of Nano-Scale Silicon Free-Standing Beams ». Advanced Materials Research 276 (juillet 2011) : 117–26. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.276.117.
Texte intégralRamana, K. Venkata, M. Chandra Shekar et V. Madhusudhana Reddy. « Characterization of Blended Polymer Electrolyte Thin Films Based on PVDF + PEG Doped with Nano SiO2 ». Oriental Journal Of Chemistry 38, no 4 (31 août 2022) : 924–28. http://dx.doi.org/10.13005/ojc/380412.
Texte intégralFU, GUANG-SHENG, YAN-BIN YANG, WEI YU, WAN-BING LU, WEN-GE DING et LI HAN. « AMORPHOUS SILICON NANO-PARTICLES IN A-SiNx:H PREPARED BY HELICON WAVE PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION ». International Journal of Modern Physics B 19, no 15n17 (10 juillet 2005) : 2704–9. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979205031560.
Texte intégralRoumie, Mohamad, Sayed Abboudy, Maryam Al Sabbagh, Husam Abu-Safe, Maher Soueidan et Bilal Nsouli. « RBS Study of Multilayer Structure Material of Si/SiO2 Nano Films ». Advanced Materials Research 324 (août 2011) : 310–13. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.324.310.
Texte intégralDas, Debajyoti, et Debjit Kar. « Investigation of the vertical electrical transport in a-Si:H/nc-Si:H superlattice thin films ». Physical Chemistry Chemical Physics 17, no 26 (2015) : 17063–68. http://dx.doi.org/10.1039/c5cp02018b.
Texte intégralZhuang, Cui Cui, Xiao Feng Zhao, Yu Song, Dian Zhong Wen, Jian Dong Jin et Yang Yu. « Characteristics Research of Hall Magnetic Sensor Based on Nano-Polysilicon Thin Film Transistors ». Key Engineering Materials 609-610 (avril 2014) : 1082–87. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.609-610.1082.
Texte intégralJi, Jia Ming, Xiao Jing Xu, Dan Chen, Xi Ling Xin, Kun Tian et Xin Lan Sheng. « Improvement of Tribological Behaviour of Biomedical Nanocrystalline Titanium by Magnetron Sputtered CNx/SiC Double Layer Films ». Advanced Materials Research 284-286 (juillet 2011) : 825–28. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.284-286.825.
Texte intégralSHIM, J. H., K. H. HAN, M. B. PARK et N. H. CHO. « EFFECT OF REACTION GAS ON THE STRUCTURAL AND OPTICAL FEATURES OF NC-SI:H THIN FILMS PREPARED BY PECVD ». International Journal of Modern Physics B 16, no 28n29 (20 novembre 2002) : 4335–38. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979202015388.
Texte intégralPerevedentseva, E., F. K. Tung, P. H. Chung, P. W. Chou et C. L. Cheng. « Surface nano-structured silicon carbide thin film produced using hot filament decomposition of ethylene at low temperature on silicon wafer ». Thin Solid Films 515, no 13 (mai 2007) : 5259–63. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2006.12.178.
Texte intégralYin, Chen Yue, Li Na Xu et Ning Gu. « Tunable Nanostructures and Sers Activities of Sputtered Thin Silver Films ». Applied Mechanics and Materials 598 (juillet 2014) : 78–81. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.598.78.
Texte intégralHashim, Shaiful Bakhtiar, Norhidayatul Hikmee Mahzan, Sukreen Hana Herman et Mohamad Rusop Mahmood. « Room-Temperature Deposition of Silicon Thin Films by RF Magnetron Sputtering ». Advanced Materials Research 576 (octobre 2012) : 543–47. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.576.543.
Texte intégralZhuang, Aoyun, Chao Li, Jianping Yu et Yao Lu. « The Glaze Icing Performance of a Robust Superhydrophobic Film Composed of Epoxy Resin and Polydimethylsiloxane ». Coatings 13, no 7 (20 juillet 2023) : 1271. http://dx.doi.org/10.3390/coatings13071271.
Texte intégralNasir, Syafiqa, Fuei Pien Chee, Bablu Kumar Ghosh, Muhammad Izzuddin Rumaling, Rosfayanti Rasmidi, Mivolil Duinong et Floressy Juhim. « Composition Dependence Structural and Optical Properties of Silicon Germanium (SiχGe1−χ) Thin Films ». Crystals 13, no 5 (9 mai 2023) : 791. http://dx.doi.org/10.3390/cryst13050791.
Texte intégralTakao, Hanabusa, Kazuya Kusaka, Shozo Shingubara et Osamu Sakata. « In Situ Observation of Thermal Stress in Nano-Size Thin Aluminum Films ». Materials Science Forum 490-491 (juillet 2005) : 577–82. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.490-491.577.
Texte intégralKim, Jae Myung, Su Yong Lee, Hyon Chol Kang et Do Young Noh. « Direct nano-scale patterning of Ag films using hard X-ray induced oxidation ». Journal of Synchrotron Radiation 22, no 1 (1 janvier 2015) : 156–60. http://dx.doi.org/10.1107/s1600577514023534.
Texte intégralKoochekzadeh, Ali, Eskandar Keshavarz Alamdari, Abod Al Ghafar Barzegar et Ali A. Salardini. « Thermal Effects of Platinum Bottom Electrodes on PZT Sputtered Thin Films Used in MEMS Devices ». Key Engineering Materials 437 (mai 2010) : 598–602. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.437.598.
Texte intégralGracin, D., K. Juraić, J. Sancho-Parramon, P. Dubček, S. Bernstorff et M. Čeh. « Amorphous-Nano-Crystalline Silicon Thin Films in Next Generation of Solar Cells ». Physics Procedia 32 (2012) : 470–76. http://dx.doi.org/10.1016/j.phpro.2012.03.587.
Texte intégralBae, K. E., K. W. Chae, J. K. Park, W. S. Lee et Y. J. Baik. « Oxidation behavior of amorphous boron carbide–silicon carbide nano-multilayer thin films ». Surface and Coatings Technology 276 (août 2015) : 55–58. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.06.053.
Texte intégralRaypah, Muna E., et Naser M. Ahmed. « Characterization of porous silicon thin films passivated by a nano-silver layer ». Materials Science in Semiconductor Processing 31 (mars 2015) : 235–39. http://dx.doi.org/10.1016/j.mssp.2014.11.050.
Texte intégralBeake, B. D., V. M. Vishnyakov et A. J. Harris. « Nano-scratch testing of (Ti,Fe)N x thin films on silicon ». Surface and Coatings Technology 309 (janvier 2017) : 671–79. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2016.11.024.
Texte intégralGeorgiev, D. G., R. J. Baird, I. Avrutsky, G. Auner et G. Newaz. « Controllable excimer-laser fabrication of conical nano-tips on silicon thin films ». Applied Physics Letters 84, no 24 (14 juin 2004) : 4881–83. http://dx.doi.org/10.1063/1.1762978.
Texte intégralKim, Min Su, Kwang Gug Yim, Soaram Kim, Giwoong Nam et Jae-Young Leem. « White light emission from nano-fibrous ZnO thin films/porous silicon nanocomposite ». Journal of Sol-Gel Science and Technology 59, no 2 (14 juin 2011) : 364–70. http://dx.doi.org/10.1007/s10971-011-2513-9.
Texte intégralIshak, A., K. Dayana et Mohamad Rusop. « Surface Morphology and Compositional Analysis of Undoped Amorphous Carbon Thin Films via Bias Assisted Pyrolysis-CVD ». Advanced Materials Research 667 (mars 2013) : 468–76. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.667.468.
Texte intégralLuo, Jinsong, Ligong Zhang, Haigui Yang, Nan Zhang, Yongfu Zhu, Xingyuan Liu et Qing Jiang. « Oxidation kinetics of nanocrystalline Al thin films ». Anti-Corrosion Methods and Materials 66, no 5 (2 septembre 2019) : 638–43. http://dx.doi.org/10.1108/acmm-11-2018-2037.
Texte intégralHegedüs, Nikolett, Katalin Balázsi et Csaba Balázsi. « Silicon Nitride and Hydrogenated Silicon Nitride Thin Films : A Review of Fabrication Methods and Applications ». Materials 14, no 19 (28 septembre 2021) : 5658. http://dx.doi.org/10.3390/ma14195658.
Texte intégralPetrovic, Suzana, Borivoje Adnadjevic, Davor Perusko, Nada Popovic, Nenad Bundaleski, Milan Radovic, Biljana Gakovic et Zlatko Rakocevic. « Structure and morphology of nano-sized W-Ti/Si thin films ». Journal of the Serbian Chemical Society 71, no 8-9 (2006) : 969–76. http://dx.doi.org/10.2298/jsc0609969p.
Texte intégralJędrusik, Mateusz, Christian Turquat, Łukasz Cieniek, Agnieszka Kopia et Christine Leroux. « Nanostructured LaFeO3/Si thin films grown by pulsed laser deposition ». European Physical Journal Applied Physics 96, no 3 (décembre 2021) : 30301. http://dx.doi.org/10.1051/epjap/2021210195.
Texte intégralSalim, Faiza M. « Technological Characteristics of Vanadyl Sulfate – Porous Silicon Heterojunction ». NeuroQuantology 20, no 1 (4 février 2022) : 56–61. http://dx.doi.org/10.14704/nq.2022.20.1.nq22008.
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