Littérature scientifique sur le sujet « Silica films »
Créez une référence correcte selon les styles APA, MLA, Chicago, Harvard et plusieurs autres
Sommaire
Consultez les listes thématiques d’articles de revues, de livres, de thèses, de rapports de conférences et d’autres sources académiques sur le sujet « Silica films ».
À côté de chaque source dans la liste de références il y a un bouton « Ajouter à la bibliographie ». Cliquez sur ce bouton, et nous générerons automatiquement la référence bibliographique pour la source choisie selon votre style de citation préféré : APA, MLA, Harvard, Vancouver, Chicago, etc.
Vous pouvez aussi télécharger le texte intégral de la publication scolaire au format pdf et consulter son résumé en ligne lorsque ces informations sont inclues dans les métadonnées.
Articles de revues sur le sujet "Silica films"
Maier, Wilhelm F., Michael Wiedorn et Herbert O. Schramm. « Microporous Silica Films ». Angewandte Chemie International Edition in English 30, no 11 (novembre 1991) : 1509–10. http://dx.doi.org/10.1002/anie.199115091.
Texte intégralChien, Wen Chen, Yang Yen Yu et Shih Yu Chen. « Synthesis and Characterization of Photopolymerized Poly(acrylic)/Monodispersed Colloidal Silica Hybrid Thin Films ». Advanced Materials Research 47-50 (juin 2008) : 662–65. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.47-50.662.
Texte intégralDeschanels, X., S. Dourdain, C. Rey, G. Toquer, A. Grandjean, S. Pellet-Rostaing, O. Dugne, C. Grygiel, F. Duval et Y. Serruys. « Radiation damages on mesoporous silica thin films and bulk materials ». MRS Proceedings 1514 (2013) : 69–74. http://dx.doi.org/10.1557/opl.2013.386.
Texte intégralLi, Yu, Yi He Zhang, Bo Shen et Feng Zhu Lv. « Preparation and Dielectric Properties of Polyimide Nanocomposite Films Based on Hollow Silica ». Advanced Materials Research 217-218 (mars 2011) : 647–51. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.217-218.647.
Texte intégralYu, Yang Yen, Wen Chen Chien et Tsung Wei Tsai. « Microstructure and Properties of Polyimide /Monodispersed Colloidal Silica Hybrid Films Prepared by Sol–Gel Process ». Advanced Materials Research 47-50 (juin 2008) : 650–53. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.47-50.650.
Texte intégralBreval, E., M. L. Mulvihill, J. P. Dougherty et R. E. Newnham. « Polyimide-silica microcomposite films ». Journal of Materials Science 27, no 12 (1992) : 3297–300. http://dx.doi.org/10.1007/bf01116027.
Texte intégralLoughlani, Rayane-Ichrak, Alonso Gamero-Quijano et Francisco Montilla. « Electroassisted Incorporation of Ferrocene within Sol–Gel Silica Films to Enhance Electron Transfer ». Molecules 28, no 19 (28 septembre 2023) : 6845. http://dx.doi.org/10.3390/molecules28196845.
Texte intégralHorikawa, Hajime, Takashi Ogihara, Akio Shimomura et Junko Shimomura. « Preparation and Characterization of Silica Film on PBT Substrate by Sol-Gel Method Using Perhydropolysilazane ». Key Engineering Materials 421-422 (décembre 2009) : 161–64. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.421-422.161.
Texte intégralZhang, Yi He, Qing Song Su, Li Yu, Hong Zheng, Hai Tao Huang, Guo Ge Zhang, Ying Bang Yao et Helen Lai Wah Chan. « Study on the Dielectric Properties of Hybrid and Porous Polyimide-Silica Films ». Advanced Materials Research 47-50 (juin 2008) : 973–76. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.47-50.973.
Texte intégralKubo, Tomoko, Eisuke Tadaoka et Hiromitsu Kozuka. « Formation of silica coating films from spin-on polysilazane at room temperature and their stability in hot water ». Journal of Materials Research 19, no 2 (février 2004) : 635–42. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2004.19.2.635.
Texte intégralThèses sur le sujet "Silica films"
Campbell-Rance, Debbie. « Electrodeposited Silica Thin Films ». VCU Scholars Compass, 2010. http://scholarscompass.vcu.edu/etd/2123.
Texte intégralSpaargaren, Susan Marianne Rosemary. « Radiation effects on silica based waveguides ». Thesis, Imperial College London, 1997. http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.267942.
Texte intégralKlichko, Yaroslav Vladimirovich. « Functional mesoporous silica films for nanosystems applications ». Diss., Restricted to subscribing institutions, 2009. http://proquest.umi.com/pqdweb?did=1998520791&sid=1&Fmt=2&clientId=1564&RQT=309&VName=PQD.
Texte intégralKokan, Julie Runyan. « Processing of low permittivity silica thin films ». Thesis, Georgia Institute of Technology, 1994. http://hdl.handle.net/1853/20032.
Texte intégralGeite, Patrik. « Medical Implant Applications of Mesoporous Silica Films ». Thesis, Linköpings universitet, Nanostrukturerade material, 2019. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-154463.
Texte intégralWooten, Mary K. « NANOFILTRATION MEMBRANES FROM ORIENTED MESOPOROUS SILICA THIN FILMS ». UKnowledge, 2014. http://uknowledge.uky.edu/cme_etds/28.
Texte intégralBragg, Donald. « Photocatalytic Oxidation of Carbon Monoxide Using Sputter Deposited Molybdenum Oxide Thin Films on a Silicon Dioxide Substrate ». Fogler Library, University of Maine, 2007. http://www.library.umaine.edu/theses/pdf/BraggD2007.pdf.
Texte intégralBasnig, Deomila. « Élaboration de films minces de silice pour des applications en chimie analytique ». Electronic Thesis or Diss., Université de Lorraine, 2021. http://www.theses.fr/2021LORR0102.
Texte intégralOriented mesoporous silica-based film on FTO electrode was prepared via electrochemically-assisted self-assembly approach (EASA). A potential of -1.5V was applied to the FTO electrode containing a prehydrolyzed silica precursor, (e.g. tetraethyl orthosilicate), in the presence of a template (e.g. cetrimonium bromide) and electrolyte. This approach could generate vertically-aligned silica nanochannels with pore sizes adjustable between 2 and 3 nm, depending on the template. This work showed the voltammetric behavior and the selectivity of the mesoporous silica film towards various positively-charged cations of different nature, size, and charge. Results showed an accumulation and selectivity favoring the least positive charged ion: MB⁺ > PQ²⁺ > DQ²⁺ > Ru(bpy)₃²⁺ > Ru(NH₃)₆³⁺. The enhancement of the voltammetric signals relative to the bare FTO electrode was strongly dependent on the probe type. The accumulation of the different redox probe is attributed to the due to the vertical orientation of the nanochannel favoring fast transport and diffusion unto the electrode surface. Further electrochemical characterization showed an interplay of the suface-controlled and diffusion-controlled process, wherein adsorbed species is more prominent in diluted media. Results showed that changing the debye length and electrokinetic radius of the silica nanochannel due to the ionic strength or nanochannel diameter also affects the transport and electrochemical detection of the paraquat analyte. Mesoporous silica films having different pore size, prepared using different alkyl ammonium bromide as template, yield different sensitivities, which could be due to the difference in electrochemical charge of the silica surface, as well as the distribution of ions in the nanochannel. Finally, an attempt to modify the surface of silica wall using zirconia was also made to study the transport of cations, which could pave a way for an improved stability of the mesoporous film
CHAKRAVARTY, SRINIVAS L. N. « DEVELOPMENT OF SCRATCH RESISTANT PECVD SILICA-LIKE FILMS ». University of Cincinnati / OhioLINK, 2000. http://rave.ohiolink.edu/etdc/view?acc_num=ucin973542599.
Texte intégralMoskowitz, Steven. « Atomic force miscroscopy [sic] study of SiO₂/Si(111)--(7x7) grown via atomic oxygen plasma / ». Thesis, Connect to this title online ; UW restricted, 2005. http://hdl.handle.net/1773/11556.
Texte intégralLivres sur le sujet "Silica films"
Innocenzi, Plinio. Mesoporous Ordered Silica Films. Cham : Springer International Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-030-89536-5.
Texte intégralCenter, Lewis Research, dir. Mechanical protection of DLC films on fused silica slides. Cleveland, Ohio : Lewis Research Center, 1985.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (8th 2005 Québec, Québec). Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging diele[c]trics VIII : Proceedings of the international symposium. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division et Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J : Electrochemical Society, 2005.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (8th 2005 Québec, Québec). Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging diele[c]trics VIII : Proceedings of the international symposium. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division et Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J : Electrochemical Society, 2005.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Emerging Dielectrics (9th 2007 Chicago, Ill.). Silicon nitride, silicon dioxide, and emerging dielectrics 9. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division. et Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J : Electrochemical Society, 2007.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Emerging Dielectrics (9th 2007 Chicago, Ill.). Silicon nitride, silicon dioxide, and emerging dielectrics 9. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division. et Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J : Electrochemical Society, 2007.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (5th 1999 Seattle, Wash.). Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films : Proceedings of the fifth international symposium. Pennington, NJ (10 S. Main St., Pennington 08534-2696 : Electrochemical Society), 1999.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (7th 2003 Paris, France). Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films VII : Proceedings of the international symposium. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division et Electrochemical Society Meeting. Pennington, NJ : Electrochemical Society, 2003.
Trouver le texte intégralAngeles, CA) International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO₂ and the Si-SiO₂ Interface (5th 2005 Los. The physics and chemistry of SiO₂ and the Si-SiO₂ interface--5. Pennington, NJ : Electrochemical Society, 2005.
Trouver le texte intégralInternational Symposium on the Physics and Chemistry of SiO₂ and the Si-SiO₂ Interface (3rd 1996 Los Angeles, Calif.). The physics and chemistry of SiO₂ and the Si-SiO₂ interface-3, 1996 : Proceedings of the Third International Symposium on the Physics and Chemistry of SiO₂ and the Si-SiO₂ Interface. Sous la direction de Massoud Hisham Z, Poindexter Edward H et Helms C. Robert. Pennington, NJ : Electrochemical Society, 1996.
Trouver le texte intégralChapitres de livres sur le sujet "Silica films"
Gonçalves, M. Clara, et George S. Attard. « Nanostructured Mesoporous Silica Films ». Dans Nanostructured Materials and Coatings for Biomedical and Sensor Applications, 159–68. Dordrecht : Springer Netherlands, 2003. http://dx.doi.org/10.1007/978-94-010-0157-1_16.
Texte intégralShaikhutdinov, Shamil. « Water Adsorption on Silica Films ». Dans Introduction to Ultrathin Silica Films Silicatene and Others, 271–91. New York : Jenny Stanford Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1201/9781003088622-8.
Texte intégralShaikhutdinov, Shamil. « Ultrathin Silica Films on Metals ». Dans Introduction to Ultrathin Silica Films Silicatene and Others, 107–65. New York : Jenny Stanford Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1201/9781003088622-4.
Texte intégralShaikhutdinov, Shamil. « Silica and Silicates ». Dans Introduction to Ultrathin Silica Films Silicatene and Others, 1–30. New York : Jenny Stanford Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1201/9781003088622-1.
Texte intégralAlexander, John Callum. « TiO2 Thin Films on Fused Silica ». Dans Springer Theses, 221–59. Cham : Springer International Publishing, 2016. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-319-34229-0_7.
Texte intégralBersuker, Gennadi, Keith McKenna et Alexander Shluger. « Silica and High-k Dielectric Thin Films in Microelectronics ». Dans Oxide Ultrathin Films, 101–18. Weinheim, Germany : Wiley-VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, 2012. http://dx.doi.org/10.1002/9783527640171.ch5.
Texte intégralHolt, S. A., K. J. Edler et C. Fernandez-Martin. « Formation of surfactant–silica mesophase films at a silica interface ». Dans Surface and Colloid Science, 169–74. Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg, 2004. http://dx.doi.org/10.1007/b97126.
Texte intégralKhabibullin, Amir, et Ilya Zharov. « Responsive Nanoporous Silica Colloidal Films and Membranes ». Dans Intelligent Stimuli-Responsive Materials, 265–91. Hoboken, NJ, USA : John Wiley & Sons, Inc., 2013. http://dx.doi.org/10.1002/9781118680469.ch8.
Texte intégralShaikhutdinov, Shamil. « Defects in Ultrathin Silica Films on Metals ». Dans Introduction to Ultrathin Silica Films Silicatene and Others, 167–90. New York : Jenny Stanford Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1201/9781003088622-5.
Texte intégralShaikhutdinov, Shamil. « Thin Silica Films on Si and SIC ». Dans Introduction to Ultrathin Silica Films Silicatene and Others, 69–106. New York : Jenny Stanford Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1201/9781003088622-3.
Texte intégralActes de conférences sur le sujet "Silica films"
Hur, Soojung C., Laurent Pilon, Adam Christensen et Samuel Graham. « Thermal Conductivity of Cubic Mesoporous Silica Thin Films ». Dans ASME 2007 International Mechanical Engineering Congress and Exposition. ASMEDC, 2007. http://dx.doi.org/10.1115/imece2007-43016.
Texte intégralCoquil, Thomas, Neal Hutchinson, Laurent Pilon, Erik Richman et Sarah Tolbert. « Thermal Conductivity of Cubic and Hexagonal Mesoporous Silica Thin Films ». Dans ASME 2009 Heat Transfer Summer Conference collocated with the InterPACK09 and 3rd Energy Sustainability Conferences. ASMEDC, 2009. http://dx.doi.org/10.1115/ht2009-88256.
Texte intégralPoulsen, Christian V., Mikael Svalgaard et Ove Poulsen. « Photosensitivity in germania-doped silica films ». Dans The European Conference on Lasers and Electro-Optics. Washington, D.C. : Optica Publishing Group, 1994. http://dx.doi.org/10.1364/cleo_europe.1994.cmm5.
Texte intégralKobavashi, Junva, Tohru Maruno, Yasuhiro Hida, Tohru Matsuura et Shigekuni Sasaki. « Thermooptic switches using fluorinated polyimide waveguides ». Dans Organic Thin Films for Photonic Applications. Washington, D.C. : Optica Publishing Group, 1997. http://dx.doi.org/10.1364/otfa.1997.fa.4.
Texte intégralMelninkaitis, Andrius, Algirdas Selskis, Rytis Buzelis, Lina Mažule, Tomas Tolenis, Lina Grineviciute et Ramutis Drazdys. « New generation all-silica based optical elements for high power laser systems ». Dans Nanostructured Thin Films X, sous la direction de Tom G. Mackay, Akhlesh Lakhtakia et Yi-Jun Jen. SPIE, 2017. http://dx.doi.org/10.1117/12.2272952.
Texte intégralGrineviciute, Lina, Lukas Ramalis, Rytis Buzelis et Tomas Tolenis. « Highly resistant all-silica polarizers for normal incidence applications ». Dans Advances in Optical Thin Films VII, sous la direction de Michel Lequime et Detlev Ristau. SPIE, 2021. http://dx.doi.org/10.1117/12.2597136.
Texte intégralKao, Chih-cheng, B. Gallas et J. Rivory. « Study of Erbium Doped Silica Films Containing Silicon Nanograins ». Dans 2007 IEEE Conference on Electron Devices and Solid-State Circuits. IEEE, 2007. http://dx.doi.org/10.1109/edssc.2007.4450187.
Texte intégralFardad, M. A., Eric M. Yeatman et Emma J. Dawnay. « Porous films for nonlinear silica-on-silicon integrated optics ». Dans SPIE's 1994 International Symposium on Optics, Imaging, and Instrumentation, sous la direction de John D. Mackenzie. SPIE, 1994. http://dx.doi.org/10.1117/12.188938.
Texte intégralSwab, P., et R. E. Klinger. « Physical microstructure of evaporated titania-silica and zirconia-silica multilayer thin films ». Dans OSA Annual Meeting. Washington, D.C. : Optica Publishing Group, 1985. http://dx.doi.org/10.1364/oam.1985.thv1.
Texte intégralRamalis, Lukas, Ugnė Norkutė, Rytis Buzelis, Algirdas Selskis et Tomas Tolenis. « Sculptured thin film based all-silica mirrors for high power lasers ». Dans Advances in Optical Thin Films VII, sous la direction de Michel Lequime et Detlev Ristau. SPIE, 2021. http://dx.doi.org/10.1117/12.2597151.
Texte intégralRapports d'organisations sur le sujet "Silica films"
Smith, W. L., T. A. Michalske et R. R. Rye. The deposition of boron nitride and carbon films on silica glass fibers. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), novembre 1993. http://dx.doi.org/10.2172/10110580.
Texte intégralKalnitsky, A., S. P. Tay, J. P. Ellul, J. W. Andrews, E. A. Irene et S. Chongsawagvirod. Measurements and Modelling of Thin Silicon Dioxide Films on Silicon. Fort Belvoir, VA : Defense Technical Information Center, mai 1989. http://dx.doi.org/10.21236/ada207853.
Texte intégralMecholsky, Jr, Tsai J. J., Drawl Y. L. et W. R. Fracture Studies of Diamond Films on Silicon. Fort Belvoir, VA : Defense Technical Information Center, août 1991. http://dx.doi.org/10.21236/ada240978.
Texte intégralMartin U. Pralle et James E. Carey. Black Silicon Enhanced Thin Film Silicon Photovoltaic Devices. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), juillet 2010. http://dx.doi.org/10.2172/984305.
Texte intégralIrene, Eugene A. Silicon Oxidation Studies on Thin Film Silicon Oxidation Formation. Fort Belvoir, VA : Defense Technical Information Center, mars 1989. http://dx.doi.org/10.21236/ada206835.
Texte intégralBerman, G. P., G. D. Doolen, R. Mainieri, D. K. Campbell et V. A. Luchnikov. Molecular dynamics simulations of grain boundaries in thin nanocrystalline silicon films. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), octobre 1997. http://dx.doi.org/10.2172/292865.
Texte intégralGallagher, A., D. Doughty et J. Doyle. Diagnostics of glow discharges used to produce hydrogenated amorphous silicon films. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), mai 1990. http://dx.doi.org/10.2172/6910198.
Texte intégralKeyes, Brian. National solar technology roadmap : Film-silicon PV. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), juin 2007. http://dx.doi.org/10.2172/1217298.
Texte intégralBenziger, Jay B. Surface Intermediates in Thin Film Deposition on Silicon. Fort Belvoir, VA : Defense Technical Information Center, août 1989. http://dx.doi.org/10.21236/ada216662.
Texte intégralHall, R. B., C. Bacon, V. DiReda, D. H. Ford, A. E. Ingram, S. M. Lampo, J. A. Rand, T. R. Ruffins et A. M. Barnett. Silicon-film{trademark} on ceramic solar cells. Final report. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), février 1993. http://dx.doi.org/10.2172/10135001.
Texte intégral