Articles de revues sur le sujet « [SiH4 + CO2 + He] plasma »
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Samanta, Arup, et Debajyoti Das. « Structural investigation of nC-Si/SiOx:H thin films from He diluted (SiH4+CO2) plasma at low temperature ». Applied Surface Science 259 (octobre 2012) : 477–85. http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2012.07.070.
Texte intégralSamanta, Arup, et Debajyoti Das. « Studies on the structural properties of SiO:H films prepared from (SiH4+CO2+He) plasma in RF-PECVD ». Solar Energy Materials and Solar Cells 93, no 5 (mai 2009) : 588–96. http://dx.doi.org/10.1016/j.solmat.2008.12.005.
Texte intégralSobajima, Yasushi, Shota Kinoshita, Shinnosuke Kakimoto, Ryoji Okumoto, Chitose Sada, Akihisa Matsuda et Hiroaki Okamoto. « Control of growth process for obtaining high-quality a-SiO:H ». Canadian Journal of Physics 92, no 7/8 (juillet 2014) : 582–85. http://dx.doi.org/10.1139/cjp-2013-0558.
Texte intégralJo, Sanghyun, Suik Kang, Kyungjun Lee et Ho Jun Kim. « Helium Metastable Distributions and Their Effect on the Uniformity of Hydrogenated Amorphous Silicon Depositions in He/SiH4 Capacitively Coupled Plasmas ». Coatings 12, no 9 (15 septembre 2022) : 1342. http://dx.doi.org/10.3390/coatings12091342.
Texte intégralErshov, I. A., V. I. Pustovoy, V. I. Krasovskii, A. N. Orlov, S. I. Rasmagin, L. D. Iskhakova, F. O. Milovich, M. N. Kirichenko, L. L. Chaikov et E. A. Konstantinova. « Synthesis and properties of silicon carbide nanoparticles obtained by laser pyrolysis method ». Physics and Chemistry of Materials Treatment 1 (2021) : 51–57. http://dx.doi.org/10.30791/0015-3214-2021-1-51-57.
Texte intégralPark, Hwanyeol, et Ho Jun Kim. « Theoretical Analysis of Si2H6 Adsorption on Hydrogenated Silicon Surfaces for Fast Deposition Using Intermediate Pressure SiH4 Capacitively Coupled Plasma ». Coatings 11, no 9 (29 août 2021) : 1041. http://dx.doi.org/10.3390/coatings11091041.
Texte intégralJia, Haijun, et Michio Kondo. « High rate synthesis of crystalline silicon films from SiH4+He using high density microwave plasma ». Journal of Applied Physics 105, no 10 (15 mai 2009) : 104903. http://dx.doi.org/10.1063/1.3129321.
Texte intégralDas, Debajyoti, Madhusudan Jana et A. K. Barua. « Characterization of undoped μc-SiO:H films prepared from (SiH4+CO2+H2)-plasma in RF glow discharge ». Solar Energy Materials and Solar Cells 63, no 3 (juillet 2000) : 285–97. http://dx.doi.org/10.1016/s0927-0248(00)00035-0.
Texte intégralLee, Sung‐Woo, Du‐Chang Heo, Jin‐Kyu Kang, Young‐Bae Park et Shi‐Woo Rhee. « Microcrystalline Silicon Film Deposition from H 2 ‐ He ‐ SiH4 Using Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition ». Journal of The Electrochemical Society 145, no 8 (1 août 1998) : 2900–2904. http://dx.doi.org/10.1149/1.1838733.
Texte intégralDian, J., J. Valenta, J. Hála, A. Poruba, P. Horváth, K. Luterová, I. Gregora et I. Pelant. « Visible photoluminescence in hydrogenated amorphous silicon grown in microwave plasma from SiH4 strongly diluted with He ». Journal of Applied Physics 86, no 3 (août 1999) : 1415–19. http://dx.doi.org/10.1063/1.370904.
Texte intégralSritharathikhun, Jaran, Taweewat Krajangsang, Apichan Moollakorn, Sorapong Inthisang, Amornrat Limmanee, Aswin Hongsingtong, Nattaphong Boriraksantikul, Tianchai Taratiwat, Nirod Akarapanjavit et Kobsak Sriprapha. « Effect of the CO2/SiH4Ratio in the p-μc-SiO:H Emitter Layer on the Performance of Crystalline Silicon Heterojunction Solar Cells ». International Journal of Photoenergy 2014 (2014) : 1–5. http://dx.doi.org/10.1155/2014/872849.
Texte intégralZhang, Yan, Rui Juan Liu, Zhong Xuan Shang, Yin Ding Lv et Biao Gu. « The Surface Hydrophilicity of Polypropylene Non-Woven Treated by Atmospheric Glow Plasma ». Advanced Materials Research 328-330 (septembre 2011) : 1413–16. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.328-330.1413.
Texte intégralDas, Debajyoti, Debnath Raha, Wei-Chao Chen, Kuei-Hsien Chen, Chien-Ting Wu et Li-Chyong Chen. « Effect of substrate bias on the promotion of nanocrystalline silicon growth from He-diluted SiH4 plasma at low temperature ». Journal of Materials Research 27, no 9 (16 février 2012) : 1303–13. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2012.4.
Texte intégralKim, Ho Jun. « Importance of Dielectric Elements for Attaining Process Uniformity in Capacitively Coupled Plasma Deposition Reactors ». Coatings 12, no 4 (28 mars 2022) : 457. http://dx.doi.org/10.3390/coatings12040457.
Texte intégralDas, Debajyoti, Debnath Raha et Koyel Bhattacharya. « Evolution of nc-Si Network and the Control of Its Growth by He/H2 Plasma Assistance in SiH4 at PECVD ». Journal of Nanoscience and Nanotechnology 9, no 9 (1 septembre 2009) : 5614–21. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2009.1151.
Texte intégralSohn, Hong Lae, Young Tae Cho et Bong Ju Lee. « Measurement of Carboxyl Group Separated from a Thin Film Copolymerized by Low-Temperature Plasma at Atmospheric Pressure of C2H2 and CO2 ». Key Engineering Materials 321-323 (octobre 2006) : 1332–35. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.321-323.1332.
Texte intégralWang, Xu-Cheng, Ji-Xin Bai, Tai-Heng Zhang, Ying Sun et Yuan-Tao Zhang. « Comprehensive study on discharge characteristics in pulsed dielectric barrier discharges with atmospheric He and CO2 ». Physics of Plasmas 29, no 8 (août 2022) : 083503. http://dx.doi.org/10.1063/5.0096172.
Texte intégralTakahashi, Hidemi, Minoru Kimura, Reiji Sano, Yoshio Nagayama et Kenro Miyamoto. « Heterodyne interferometer of coaxial CO2 and He–Ne lasers for plasma density measurements ». Review of Scientific Instruments 57, no 7 (juillet 1986) : 1286–89. http://dx.doi.org/10.1063/1.1138644.
Texte intégralKim, Ho Jun, et Jung Hwan Yoon. « Computational Fluid Dynamics Analysis of Particle Deposition Induced by a Showerhead Electrode in a Capacitively Coupled Plasma Reactor ». Coatings 11, no 8 (23 août 2021) : 1004. http://dx.doi.org/10.3390/coatings11081004.
Texte intégralSantato, Clara, Giorgio Mattei, Wu Ruihua et Federico Mecarini. « In situmicro Raman investigation of the laser crystallization in Si thin films plasma enhanced chemical vapor deposition-grown from He-diluted SiH4 ». Journal of Applied Physics 95, no 10 (15 mai 2004) : 5366–72. http://dx.doi.org/10.1063/1.1699506.
Texte intégralKim, Ho Jun. « Enhancement of Cleanliness and Deposition Rate by Understanding the Multiple Roles of the Showerhead Electrode in a Capacitively Coupled Plasma Reactor ». Coatings 11, no 8 (21 août 2021) : 999. http://dx.doi.org/10.3390/coatings11080999.
Texte intégralKim, Ho Jun, et Hae June Lee. « Analysis of intermediate pressure SiH4/He capacitively coupled plasma for deposition of an amorphous hydrogenated silicon film in consideration of thermal diffusion effects ». Plasma Sources Science and Technology 26, no 8 (17 juillet 2017) : 085003. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa78b4.
Texte intégralWillems, Gert, Ante Hecimovic, Kerstin Sgonina, Emile Carbone et Jan Benedikt. « Mass spectrometry of neutrals and positive ions in He/CO2 non-equilibrium atmospheric plasma jet ». Plasma Physics and Controlled Fusion 62, no 3 (10 février 2020) : 034005. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6587/ab6b4c.
Texte intégralJantarang, Salina, Simone Ligori, Jonathan Horlyck, Emma C. Lovell, Tze Hao Tan, Bingqiao Xie, Rose Amal et Jason Scott. « Plasma-Induced Catalyst Support Defects for the Photothermal Methanation of Carbon Dioxide ». Materials 14, no 15 (28 juillet 2021) : 4195. http://dx.doi.org/10.3390/ma14154195.
Texte intégralMurata, Tatsunori, Yoshihiro Miyagawa, Masazumi Matsuura, Koyu Asai et Hiroshi Miyatake. « Effect of N2Gas Flow Ratio in Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition with SiH4–NH3–N2–He Gas Mixture on Stress Relaxation of Silicon Nitride ». Japanese Journal of Applied Physics 49, no 8 (20 août 2010) : 08JF08. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.49.08jf08.
Texte intégralMijatović, Z., R. Kobilarov, S. Djurović et M. Stevanov. « Use of He(I) 447.1-nm Line with Forbidden Component for Electron Density Determination in Plasmas ». Applied Spectroscopy 51, no 3 (mars 1997) : 396–400. http://dx.doi.org/10.1366/0003702981940269.
Texte intégralKhumaeni, Ali, Wahyu S. Budi, Asep Y. Wardaya, Hideaki Niki, Kazuyoshi Kurihara et Kiichiro Kagawa. « Emission Characteristics of Hydrogen and Carbon in Various Ambient Gases using Pulsed-CO2 Laser-Induced Breakdown Spectroscopy ». Current Analytical Chemistry 16, no 3 (15 mai 2020) : 234–40. http://dx.doi.org/10.2174/1573411014666181115121139.
Texte intégralWu, Qiang, Lan Ying Xu et Yong Mao. « Melted Characteristics Effects of Shielding Gas on Laser Deep Penetration Welding ». Key Engineering Materials 620 (août 2014) : 116–21. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.620.116.
Texte intégralRamli, Muliadi, Nasrullah Idris, Kenichi Fukumoto, Hideaki Niki, Fujio Sakan, Tadashi Maruyama, Koo Hendrik Kurniawan, Tjung Jie Lie et Kiichiro Kagawa. « Hydrogen analysis in solid samples by utilizing He metastable atoms induced by TEA CO2 laser plasma in He gas at 1 atm ». Spectrochimica Acta Part B : Atomic Spectroscopy 62, no 12 (décembre 2007) : 1379–89. http://dx.doi.org/10.1016/j.sab.2007.10.007.
Texte intégralCamacho, J. J., L. Díaz, M. Santos et J. M. L. Poyato. « Time-resolved optical emission spectroscopic measurements of He plasma induced by a high-power CO2 pulsed laser ». Spectrochimica Acta Part B : Atomic Spectroscopy 66, no 1 (janvier 2011) : 57–66. http://dx.doi.org/10.1016/j.sab.2010.12.001.
Texte intégralLie, Zener Sukra, Ali Khumaeni, Tadashi Maruyama, Ken-ichi Fukumoto, Hideaki Niki et Kiichiro Kagawa. « Hydrogen analysis in metal samples by selective detection method utilizing TEA CO2 laser-induced He gas plasma ». Applied Physics A 101, no 3 (21 juillet 2010) : 555–58. http://dx.doi.org/10.1007/s00339-010-5897-4.
Texte intégralSun, Dawei, Yan Cai, Yonggui Wang, Yue Wu et Yixiong Wu. « Effect of He–Ar ratio of side assisting gas on plasma 3D formation during CO2 laser welding ». Optics and Lasers in Engineering 56 (mai 2014) : 41–49. http://dx.doi.org/10.1016/j.optlaseng.2013.12.009.
Texte intégralDucatte, Gerald R., et Gary L. Long. « Effect of Carbon Dioxide and Hydrogen on Nonmetal Emission Intensities in a Helium Microwave-Induced Plasma ». Applied Spectroscopy 48, no 4 (avril 1994) : 493–501. http://dx.doi.org/10.1366/000370294775268866.
Texte intégralde Morais Gouvêa Lima, Gabriela, Celina Faig Lima Carta, Aline Chiodi Borges, Thalita Mayumi Castaldelli Nishime, Cézar Augusto Villela da Silva, Marcelo Vidigal Caliari, Marcia Pinto Alves Mayer, Konstantin Georgiev Kostov et Cristiane Yumi Koga-Ito. « Cold Atmospheric Pressure Plasma Is Effective against P. gingivalis (HW24D-1) Mature Biofilms and Non-Genotoxic to Oral Cells ». Applied Sciences 12, no 14 (19 juillet 2022) : 7247. http://dx.doi.org/10.3390/app12147247.
Texte intégralHossack, A. C., K. D. Morgan, C. J. Hansen et D. A. Sutherland. « A multi-chord, two-color interferometer using Hilbert transform phase detection for measuring electron density in spheromak plasmas ». Review of Scientific Instruments 93, no 9 (1 septembre 2022) : 093501. http://dx.doi.org/10.1063/5.0097459.
Texte intégralTyczkowski, Jacek, Hanna Kierzkowska-Pawlak, Jan Sielski et Iwona Krawczyk-Kłys. « Low-Temperature Plasma Modification of Styrene–Butadiene Block Copolymer Surfaces for Improved Adhesion—A Kinetic Approach ». Polymers 12, no 4 (17 avril 2020) : 935. http://dx.doi.org/10.3390/polym12040935.
Texte intégralMAGUNOV, A. I., A. YA FAENOV, I. YU SKOBELEV, T. A. PIKUZ, S. DOBOSZ, M. SCHMIDT, M. PERDRIX et al. « X-ray spectra of fast ions generated from clusters by ultrashort laser pulses ». Laser and Particle Beams 21, no 1 (janvier 2003) : 73–79. http://dx.doi.org/10.1017/s0263034603211149.
Texte intégralDawei, Sun, Cai Yan, Wu Yue, Zhu Junjie et Wu Yixiong. « Investigation into the effect of Ar ratio in He-Ar mixture side assisting gas on plasma properties during CO2 laser welding based on 3D reconstruction ». Journal of Laser Applications 27, no 1 (février 2015) : 012001. http://dx.doi.org/10.2351/1.4898015.
Texte intégralKhumaeni, Ali, Zener Sukra Lie, Hideaki Niki, Ken-ichi Fukumoto, Tadashi Maruyama et Kiichiro Kagawa. « A novel double-pulse laser plasma spectroscopic technique for H analysis in metal samples utilizing transversely excited atmospheric-pressure CO2 laser-induced metastable He atoms ». Optical Review 17, no 3 (mai 2010) : 285–89. http://dx.doi.org/10.1007/s10043-010-0050-3.
Texte intégralSun, Jintao, Qi Chen, Baoming Zhao, Caohui Guo, Jianyu Liu, Mingming Zhang et Decai Li. « Temperature-dependent ion chemistry in nanosecond discharge plasma-assisted CH4 oxidation ». Journal of Physics D : Applied Physics 55, no 13 (4 janvier 2022) : 135203. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6463/ac45ac.
Texte intégralPhan, Van, Quan Nguyen, Vien Phan, Feyza Erenler et Anastassios Pittas. « LBSUN292 Learning Lesson From A Case of Fulminant Type 1 Diabetes Mellitus Shortly After Pembrolizumab Treatment ». Journal of the Endocrine Society 6, Supplement_1 (1 novembre 2022) : A291. http://dx.doi.org/10.1210/jendso/bvac150.600.
Texte intégralTrinh, Ngo Binh, Giang Huong Tran et Hoang Trung Hieu. « Penile porokeratosis mimicking annular lichen planus ». Our Dermatology Online 13, no 1 (3 janvier 2022) : 109–10. http://dx.doi.org/10.7241/ourd.20221.30.
Texte intégralTakallooBakhtiari, Asieh, Julio Piedra Butina, Sheri A. Gillis Funderburk et Hari V. Brundavanam. « Euglycemic DKA Associated With SGLT2 Inhibitors ». Journal of the Endocrine Society 5, Supplement_1 (1 mai 2021) : A382. http://dx.doi.org/10.1210/jendso/bvab048.778.
Texte intégralDevine, Alma, et Silvia Bercovici. « PSAT007 Pheochromocytoma Presenting With Small Bowel Obstruction ». Journal of the Endocrine Society 6, Supplement_1 (1 novembre 2022) : A89. http://dx.doi.org/10.1210/jendso/bvac150.183.
Texte intégralCiesla, M., K. Kwasniak et B. Kolarz. « AB0050 EVALUATION OF THE ASSOCIATION BETWEEN CIRCULATING NON-CODING RNA CIRC_0005567 AND DISEASE ACTIVITY IN PATIENTS WITH RHEUMATOID ARTHRITIS AND ITS BIOLOGICAL FUNCTION IN THE CELL LINE MODEL ». Annals of the Rheumatic Diseases 82, Suppl 1 (30 mai 2023) : 1204.1–1204. http://dx.doi.org/10.1136/annrheumdis-2023-eular.3667.
Texte intégralGaboury, Damien, Dominique Genna, Jacques Trottier, Maxime Bouchard, Jérôme Augustin et Kelly Malcolm. « The Perron Gold Deposit, Archean Abitibi Belt, Canada : Exceptionally High-Grade Mineralization Related to Higher Gold-Carrying Capacity of Hydrocarbon-Rich Fluids ». Minerals 11, no 10 (29 septembre 2021) : 1066. http://dx.doi.org/10.3390/min11101066.
Texte intégralvan den Kerkhof, Alfons M., Graciela M. Sosa, Thomas Oberthür, Frank Melcher, Tobias Fusswinkel, Andreas Kronz, Klaus Simon et István Dunkl. « The hydrothermal Waterberg platinum deposit, Mookgophong (Naboomspruit), South Africa. Part II : Quartz chemistry, fluid inclusions and geochronology ». Mineralogical Magazine 82, no 3 (12 avril 2018) : 751–78. http://dx.doi.org/10.1180/mgm.2018.80.
Texte intégralTerekhov, Vladimir A., Evgeny I. Terukov, Yury K. Undalov, Konstantin A. Barkov, Igor E. Zanin, Oleg V. Serbin et Irina N. Trapeznikova. « Structural Rearrangement of a-SiOx:H Films with Pulse Photon Annealing ». Kondensirovannye sredy i mezhfaznye granitsy = Condensed Matter and Interphases 22, no 4 (15 décembre 2020) : 489–95. http://dx.doi.org/10.17308/kcmf.2020.22/3119.
Texte intégralJeung, J.-H., Hak-Gue Lee, Lihong Teng et W. A. Anderson. « Microwave Plasma CVD of Silicon Nanocrystalline and Amorphous Silicon as a Function of Deposition Conditions ». MRS Proceedings 703 (2001). http://dx.doi.org/10.1557/proc-703-v9.25.
Texte intégralKang, Su-hyuk, Min-Cheol Lee, Kook-Chul Moon et Min-koo Han. « The Characteristics of Silicon Dioxide Deposited by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition at 150°C ». MRS Proceedings 769 (2003). http://dx.doi.org/10.1557/proc-769-h6.18.
Texte intégral