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Texte intégralYAMAMOTO, Masaoki, Masayuki FUKUI et Takayuki SHIBATA. « Properties of carbonous films synthesized by RF plasma CVD. » Journal of the Japan Society for Precision Engineering 55, no 12 (1989) : 2222–27. http://dx.doi.org/10.2493/jjspe.55.2222.
Texte intégralMannan, Md Abdul, Masamitsu Nagano, Norie Hirao et Yuji Baba. « Hexagonal BCN Films Prepared by RF Plasma-enhanced CVD ». Chemistry Letters 37, no 1 (5 janvier 2008) : 96–97. http://dx.doi.org/10.1246/cl.2008.96.
Texte intégralTSAKADZE, E., K. OSTRIKOV, Z. TSAKADZE, N. JIANG, R. AHMAD et S. XU. « CONTROL AND DIAGNOSTICS OF INDUCTIVELY COUPLED PLASMAS FOR CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION ON NANOCOMPOSITE CARBON NITRIDE-BASED FILMS ». International Journal of Modern Physics B 16, no 06n07 (20 mars 2002) : 1143–47. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979202011019.
Texte intégralInao, Takuro, Masahiko Kumadaki, Kohki Satoh, Masaki Yoshino et Hidenori Itoh. « Deposition of Boron Nitride Films using RF Plasma CVD Method ». IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials 134, no 6 (2014) : 397–401. http://dx.doi.org/10.1541/ieejfms.134.397.
Texte intégralKashem, Abul, Masaki Matsushita et Shinzo Morita. « RF Plasma CVD of C-S Compound under Hydrogen Dilution ». Journal of Photopolymer Science and Technology 13, no 1 (2000) : 47–49. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.13.47.
Texte intégralJie, Jiang, et Liu Chenzan. « Diamond-like carbon thin films prepared by rf-plasma CVD ». Vacuum 42, no 16 (1991) : 1058. http://dx.doi.org/10.1016/0042-207x(91)91327-k.
Texte intégralMITSUI, Akira, et Akio KATO. « Preparation of SiC Powders by CVD Method Using RF-Plasma ». Journal of the Ceramic Association, Japan 94, no 1089 (1986) : 517–20. http://dx.doi.org/10.2109/jcersj1950.94.1089_517.
Texte intégralMitomo, Tohru, Tomohiro Ohta, Hiroaki Sasaki, Kenichi Ohtsuka et Yasuhiro Habu. « Deposition of amorphous-carbon films by RF plasma CVD method. » KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU 17, no 2 (1991) : 305–12. http://dx.doi.org/10.1252/kakoronbunshu.17.305.
Texte intégralMitsui, Akira, et Akio Kato. « Preparation of SiC powders by CVD method using RF-plasma ». International Journal of High Technology Ceramics 3, no 1 (janvier 1987) : 85. http://dx.doi.org/10.1016/0267-3762(87)90071-3.
Texte intégralKim, Y. T., B. Hong, G. E. Jang, S. J. Suh et D. H. Yoon. « Characterization of a-SiC:H Films Deposited by RF Plasma CVD ». Crystal Research and Technology 37, no 2-3 (février 2002) : 219–24. http://dx.doi.org/10.1002/1521-4079(200202)37:2/3<219 ::aid-crat219>3.0.co;2-9.
Texte intégralSuzuki, Keigo, et Kazunori Kijima. « Phase transformation of BaTiO3 nanoparticles synthesized by RF-plasma CVD ». Journal of Alloys and Compounds 419, no 1-2 (août 2006) : 234–42. http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2005.08.075.
Texte intégralJonas, Stanisława, Karol Kyzioł, Jerzy Lis et Katarzyna Tkacz-Śmiech. « Stability of a-C:N:H Layers Deposited by RF Plasma Enhanced CVD ». Solid State Phenomena 147-149 (janvier 2009) : 738–43. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.147-149.738.
Texte intégralOng, Si Ci, Usman Ilyas et Rajdeep Singh Rawat. « Nanofabrication using home-made RF plasma coupled chemical vapour deposition system ». International Journal of Modern Physics : Conference Series 32 (janvier 2014) : 1460342. http://dx.doi.org/10.1142/s2010194514603421.
Texte intégralTsai, C., J. Nelson, W. W. Gerberich, J. Heberlein et E. Pfender. « Metal reinforced thermal plasma diamond coatings ». Journal of Materials Research 7, no 8 (août 1992) : 1967–69. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1992.1967.
Texte intégralKURAMASU, Keizaburo, Tetsuhiro KORECHIKA, Masatoshi KITAGAWA et Takashi HIRAO. « Mechanical Properties of SiOxNy Films Deposited by RF Plasma-Enhanced CVD ». Journal of the Ceramic Society of Japan 105, no 1218 (1997) : 161–65. http://dx.doi.org/10.2109/jcersj.105.161.
Texte intégralBerghaus, J. O., J. L. Meunier et F. Gitzhofer. « Direct current bias effects in RF induction thermal plasma diamond CVD ». IEEE Transactions on Plasma Science 30, no 1 (février 2002) : 442–49. http://dx.doi.org/10.1109/tps.2002.1003894.
Texte intégralKim, Dong-Sun, et Tae-Won Kang. « Deposition of Amorphous Carbon Thin Films by Pulsed RF Plasma CVD ». JOURNAL OF CHEMICAL ENGINEERING OF JAPAN 38, no 8 (2005) : 593–99. http://dx.doi.org/10.1252/jcej.38.593.
Texte intégralKejun, Liao, et Wang Wanlu. « Cubic Boron Nitride Films Formed by Thermally Assisted rf Plasma CVD ». Chinese Physics Letters 12, no 1 (janvier 1995) : 58–60. http://dx.doi.org/10.1088/0256-307x/12/1/016.
Texte intégralSachdev, H., et P. Scheid. « Formation of silicon carbide and silicon carbonitride by RF-plasma CVD ». Diamond and Related Materials 10, no 3-7 (mars 2001) : 1160–64. http://dx.doi.org/10.1016/s0925-9635(00)00575-6.
Texte intégralBaldwin, S. K., T. G. Owano et C. H. Kruger. « Growth rate studies of CVD diamond in an RF plasma torch ». Plasma Chemistry and Plasma Processing 14, no 4 (décembre 1994) : 383–406. http://dx.doi.org/10.1007/bf01570203.
Texte intégralItoh, Naomi, Kiyotaka Kato et Isamu Kato. « Fabrication of sin thin films by rf biased microwave plasma CVD ». Electronics and Communications in Japan (Part II : Electronics) 74, no 7 (1991) : 101–6. http://dx.doi.org/10.1002/ecjb.4420740711.
Texte intégralShimizu, Hideki, Setsuo Nakao, Hiroshi Kusakabe et Mikio Noda. « Microstructures of hydrogenated amorphous carbon films prepared by rf plasma CVD ». Journal of Non-Crystalline Solids 114 (décembre 1989) : 196–98. http://dx.doi.org/10.1016/0022-3093(89)90111-7.
Texte intégralTakenaka, Kosuke, Yusuke Okumura et Yuichi Setsuhara. « Characterization of inductively coupled RF plasmas for plasma-assisted mist CVD of ZnO films ». Journal of Physics : Conference Series 379 (7 août 2012) : 012031. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/379/1/012031.
Texte intégralSaha, Sucharita, et Debajyoti Das. « Diamond-Like Carbon Thin Films from Low-Pressure and High-Density CH4 Plasma ». IOP Conference Series : Materials Science and Engineering 1221, no 1 (1 mars 2022) : 012037. http://dx.doi.org/10.1088/1757-899x/1221/1/012037.
Texte intégralFantoni, R., M. Giorgi, A. G. G. Moliterni, W. C. M. Berden, V. Lazic, O. Martini et F. Polla Mattiot. « On-line gas-phase optical diagnostics in plasma CVD deposition of carbon films ». Journal of Materials Research 7, no 5 (mai 1992) : 1204–14. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1992.1204.
Texte intégralCho, Chung-Woo, Byungyou Hong et Young-Ze Lee. « Wear life evaluation of diamond-like carbon films deposited by microwave plasma-enhanced CVD and RF plasma-enhanced CVD method ». Wear 259, no 1-6 (juillet 2005) : 789–94. http://dx.doi.org/10.1016/j.wear.2005.02.007.
Texte intégralJeong, Chaehwan, Seongjae Boo, Minsung Jeon et Koichi Kamisako. « Characterization of Intrinsic a-Si:H Films Prepared by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition for Solar Cell Applications ». Journal of Nanoscience and Nanotechnology 7, no 11 (1 novembre 2007) : 4169–73. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2007.064.
Texte intégralFouad, Osama A., Nizam Uddin, Masaaki Yamazato et Masamitsu Nagano. « RF-plasma enhanced CVD of TiSi2 thin films : effects of TiCl4 flow rate and RF power ». Journal of Crystal Growth 257, no 1-2 (septembre 2003) : 153–60. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-0248(03)01419-2.
Texte intégralPrzetakiewicz, Karol, Katarzyna Tkacz-Śmiech, Piotr Boszkowicz et Stanisława Jonas. « Polymer-Surface Modification with a-C:N:H Layers Plasma Chemically Deposited in RF CVD and MW CVD Systems ». Solid State Phenomena 165 (juin 2010) : 159–64. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.165.159.
Texte intégralPark, Yonggyun, Pengzhan Liu, Seunghwan Lee, Jinill Cho, Eric Joo, Hyeong-U. Kim et Taesung Kim. « Diagnosing Time-Varying Harmonics in Low-k Oxide Thin Film (SiOF) Deposition by Using HDP CVD ». Sensors 23, no 12 (14 juin 2023) : 5563. http://dx.doi.org/10.3390/s23125563.
Texte intégralSleptsova, Anastasia A., Sergey V. Chernykh, Dmitry A. Podgorny et Ilya A. Zhilnikov. « Optimization of passivation in AlGaN/GaN heterostructure microwave transistor fabrication by ICP CVD ». Modern Electronic Materials 6, no 2 (15 juillet 2020) : 71–75. http://dx.doi.org/10.3897/j.moem.6.2.58860.
Texte intégralSaitoh, Hidetoshi, Yoshihiko Hirotsu et Yukio Ichinose. « Conditions for Formation of BN Film by Thermally Assisted RF Plasma CVD ». Journal of the Japan Institute of Metals 54, no 2 (1990) : 186–92. http://dx.doi.org/10.2320/jinstmet1952.54.2_186.
Texte intégralISHIGURO, Takashi, Hidetoshi SAITOH et Yukio ICHINOSE. « Synthesis of cubic boron nitride film by an RF plasma CVD method. » Journal of the Japan Society for Precision Engineering 53, no 10 (1987) : 1527–31. http://dx.doi.org/10.2493/jjspe.53.1527.
Texte intégralKumadaki, Masahiko, Masaki Yoshino, Kohki Sato et Hidenori Itoh. « Low-temperature Deposition of SiCN Thin Films by RF Plasma CVD Method ». IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials 134, no 10 (2014) : 538–44. http://dx.doi.org/10.1541/ieejfms.134.538.
Texte intégralNAKAYAMA, Masatoshi, Kunihiro UEDA, Masanori SHIBAHARA, Kazunori MARUYAMA et Kiichiro KAMATA. « Bias Effect on the Formation of Carbon Films by RF-Plasma CVD ». Journal of the Ceramic Society of Japan 98, no 1138 (1990) : 597–600. http://dx.doi.org/10.2109/jcersj.98.597.
Texte intégralOkuyama, Hideo, Kazuhiro Honnma et Satoru Ohno. « Synthesis of Composite Metal Particles Modified UFP Using the RF-plasma CVD. » Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy 47, no 9 (2000) : 993–98. http://dx.doi.org/10.2497/jjspm.47.993.
Texte intégralKim, Je-Deok, Hiroyuki Sugimura et Osamu Takai. « Water-repellency of a-C:H films deposited by rf plasma-enhanced CVD ». Vacuum 66, no 3-4 (août 2002) : 379–83. http://dx.doi.org/10.1016/s0042-207x(02)00158-6.
Texte intégralGarci´a, A., V. Bellido, N. Flan˜o et J. I. On˜ate. « Submicron characterization of B-C:H thin films produced by RF plasma CVD ». Diamond and Related Materials 1, no 2-4 (mars 1992) : 350–54. http://dx.doi.org/10.1016/0925-9635(92)90056-t.
Texte intégralDehning, C., A. Holländer, A.-M. Leventi-Peetz et K. Silmy. « Simulation of a Plasma Enhanced µ-jet-CVD Process ». NAFEMS International Journal of CFD Case Studies 5 (avril 2006) : 51–56. http://dx.doi.org/10.59972/8ptzprew.
Texte intégralGaisin, I. R., R. M. Valeeva et N. I. Maksimov. « Cardiorenal continuum in hypertensive pregnancy ». "Arterial’naya Gipertenziya" ("Arterial Hypertension") 15, no 5 (28 octobre 2009) : 590–97. http://dx.doi.org/10.18705/1607-419x-2009-15-5-590-597.
Texte intégralZarchi, Meysam, et Shahrokh Ahangarani. « A Comparison between Thin-Film Transistors Deposited by Hot-Wire Chemical Vapor Deposition and PECVD ». Metallurgical and Materials Engineering 21, no 1 (31 mars 2015) : 7–14. http://dx.doi.org/10.30544/128.
Texte intégralYasuoka, Yuki, Toru Harigai, Jun-Seok Oh, Hiroshi Furuta, Akimitsu Hatta, Tsuneo Suzuki et Hidetoshi Saitoh. « Diamond-like carbon films from CO source gas by RF plasma CVD method ». Japanese Journal of Applied Physics 54, no 1S (10 novembre 2014) : 01AD04. http://dx.doi.org/10.7567/jjap.54.01ad04.
Texte intégralShimada, Y., K. Kobayashi, N. Mutsukura et Y. Machi. « Synthesis of diamond on substrate with mechanical treatment by RF plasma CVD method ». Plasma Sources Science and Technology 2, no 1 (1 février 1993) : 18–22. http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/2/1/005.
Texte intégralMaemura, Yoko, Hiroshi Fujiyama, Tomoko Takagi, Ryo Hayashi, Wataru Futako, Michio Kondo et Akihisa Matsuda. « Particle formation and a-Si:H film deposition in narrow-gap RF plasma CVD ». Thin Solid Films 345, no 1 (mai 1999) : 80–84. http://dx.doi.org/10.1016/s0040-6090(99)00100-5.
Texte intégralDeb, B., B. Bhattacharjee, A. Ganguli, S. Chaudhuri et A. K. Pal. « Boron nitride films synthesized by RF plasma CVD of borane–ammonia and nitrogen ». Materials Chemistry and Physics 76, no 2 (août 2002) : 130–36. http://dx.doi.org/10.1016/s0254-0584(01)00524-7.
Texte intégralNanbu, Toshikazu, Mikio Takemoto et Toshitsugu Fukai. « Corrosion Resistance of TiN Coating Deposited on Quartz by RF Plasma-Assisted CVD ». Zairyo-to-Kankyo 41, no 11 (1992) : 734–40. http://dx.doi.org/10.3323/jcorr1991.41.734.
Texte intégralMATSUI, ISAO. « CVD Material Processing. Effect of O2 on Formation of Ar-O2 RF Plasma. » KAGAKU KOGAKU RONBUNSHU 26, no 6 (2000) : 792–97. http://dx.doi.org/10.1252/kakoronbunshu.26.792.
Texte intégralHozumi, Atsushi, Hiroki Sekoguchi, Nobuhisa Sugimoto et Osamu Takai. « Transparent Water-repellent Films Containing Fluoro-alkyl Functions by RF Plasma-enhanced CVD ». Transactions of the IMF 76, no 2 (janvier 1998) : 51–53. http://dx.doi.org/10.1080/00202967.1998.11871194.
Texte intégralTóth, A., M. Mohai, T. Ujvári et I. Bertóti. « Surface and nanomechanical properties of Si:C:H films prepared by RF plasma beam CVD ». Diamond and Related Materials 14, no 3-7 (mars 2005) : 954–58. http://dx.doi.org/10.1016/j.diamond.2005.01.017.
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