Articles de revues sur le sujet « Resist film removal »
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Mercadier, Thomas, Philippe Garnier, Virginie Loup, Raluca Tiron, Song Zhang, Ayumi Higuchi et Naser Belmiloud. « Evaluation and Optimization of Particle Removal with a Resist Peeling Method ». Solid State Phenomena 346 (14 août 2023) : 268–74. http://dx.doi.org/10.4028/p-art4vs.
Texte intégralSobhian, Mani. « The Role of Extreme Agitation in Accelerating the Removal Rate of Advanced Packaging Photoresists ». Additional Conferences (Device Packaging, HiTEC, HiTEN, and CICMT) 2013, DPC (1 janvier 2013) : 001389–416. http://dx.doi.org/10.4071/2013dpc-wp15.
Texte intégralHollenbeck, J. L., et R. C. Buchanan. « Oxide thin films for nanometer scale electron beam lithography ». Journal of Materials Research 5, no 5 (mai 1990) : 1058–72. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1990.1058.
Texte intégralLee, Jong Han, Sang Won Shin, Young Suk Kwon, In Hoon Choi, Chung Nam Whang, Tae Gon Kim et Jong Han Song. « Magnetic Patterning of the Ni/Cu Thin Film by 40 keV O Ion Irradiation ». Solid State Phenomena 124-126 (juin 2007) : 867–70. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.124-126.867.
Texte intégralJimbo, Sadayuki, Kouji Shimomura, Tokuhisa Ohiwa, Makoto Sekine, Haruki Mori, Keiji Horioka et Haruo Okano. « Resist and Sidewall Film Removal after Al Reactive Ion Etching (RIE) Employing F+H2O Downstream Ashing ». Japanese Journal of Applied Physics 32, Part 1, No. 6B (30 juin 1993) : 3045–50. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.32.3045.
Texte intégralMikalsen Martinussen, Simen, Raimond N. Frentrop, Meindert Dijkstra et Sonia Maria Garcia-Blanco. « Redeposition-Free Deep Etching in Small KY(WO4)2 Samples ». Micromachines 11, no 12 (24 novembre 2020) : 1033. http://dx.doi.org/10.3390/mi11121033.
Texte intégralTomita, Hiroshi, Minako Inukai, Kaori Umezawa et Li Nan Ji. « Direct Observation of Single Bubble Cavitation Damage for MHz Cleaning ». Solid State Phenomena 145-146 (janvier 2009) : 3–6. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.145-146.3.
Texte intégralMuangtong, Piyanut, Righdan Mohsen Namus et Russell Goodall. « Improved Tribocorrosion Resistance by Addition of Sn to CrFeCoNi High Entropy Alloy ». Metals 11, no 1 (24 décembre 2020) : 13. http://dx.doi.org/10.3390/met11010013.
Texte intégralFarahani, Emad, Andre C. Liberati, Amirhossein Mahdavi, Pantcho Stoyanov, Christian Moreau et Ali Dolatabadi. « Ice Adhesion Evaluation of PTFE Solid Lubricant Film Applied on TiO2 Coatings ». Coatings 13, no 6 (6 juin 2023) : 1049. http://dx.doi.org/10.3390/coatings13061049.
Texte intégralLimcharoen, Alonggot, Pichet Limsuwan, Chupong Pakpum et Krisda Siangchaew. « Characterisation of C–F Polymer Film Formation on the Air-Bearing Surface Etched Sidewall of Fluorine-Based Plasma Interacting with AL2O3–TiC Substrate ». Journal of Nanomaterials 2013 (2013) : 1–6. http://dx.doi.org/10.1155/2013/851489.
Texte intégralPfeiffer, P., X. D. Zhang, D. Stümmler, S. Sanders, M. Weingarten, M. Heuken, A. Vescan et H. Kalisch. « Backside Contacting for Uniform Luminance in Large-Area OLED ». MRS Advances 2, no 42 (2017) : 2275–80. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.175.
Texte intégralSawada, Yasushi, Keiichi Yamazaki, Noriyuki Taguchi et Tetsuji Shibata. « Pretreatment of Blind Via Holes before Ni/Au and Cu Plating Applied with Atmospheric Pressure Plasma Jet ». Journal of Microelectronics and Electronic Packaging 2, no 3 (1 juillet 2005) : 189–96. http://dx.doi.org/10.4071/1551-4897-2.3.189.
Texte intégralAhner, Nicole, Sven Zimmermann, Matthias Schaller et Stefan E. Schulz. « Determination of Surface Energy Characteristics of Plasma Processed Ultra Low-K Dielectrics for Optimized Wetting in Wet Chemical Plasma Etch Residue Removal ». Solid State Phenomena 195 (décembre 2012) : 110–13. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.195.110.
Texte intégralEs-Souni, Mona, Martha Es-Souni, Hamzah Bakhti, Aydin Gülses, Helge Fischer-Brandies, Yahya Açil, Jörg Wiltfang et Christian Flörke. « A Bacteria and Cell Repellent Zwitterionic Polymer Coating on Titanium Base Substrates towards Smart Implant Devices ». Polymers 13, no 15 (27 juillet 2021) : 2472. http://dx.doi.org/10.3390/polym13152472.
Texte intégralMoore, John, Jared Pettit, Alex Brewer et Alman Law. « Temporary Bonding of Wafers, Displays, and Components ». Additional Conferences (Device Packaging, HiTEC, HiTEN, and CICMT) 2015, DPC (1 janvier 2015) : 1–68. http://dx.doi.org/10.4071/2015dpc-tp13.
Texte intégralHoribe, H., M. Yamamoto, T. Maruoka, Y. Goto, A. Kono, I. Nishiyama et S. Tagawa. « Ion-implanted resist removal using atomic hydrogen ». Thin Solid Films 519, no 14 (mai 2011) : 4578–81. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2011.01.287.
Texte intégralChavez, K. L., et D. W. Hess. « Removal of Resist Materials Using Acetic Acid ». Journal of The Electrochemical Society 150, no 4 (2003) : G284. http://dx.doi.org/10.1149/1.1557085.
Texte intégralHoribe, Hideo, Masayuki Fujita et Akira Yoshikado. « Acrylic-Type Resist Removal Using 532 nm Laser Pulses ». Journal of The Electrochemical Society 153, no 7 (2006) : G609. http://dx.doi.org/10.1149/1.2197767.
Texte intégralGupta, Atul, Eric Snyder, Christiane Gottschalke, Kevin Wenzel, James Gunn, Hao Lu, Yuya Suzuki, Venky Sundaram et Rao Tummala. « First Demonstration of Fine Line RDL Yield Enhancement using an Innovative Ozone Treatment Process for Panel Fan-out and Interposers ». Additional Conferences (Device Packaging, HiTEC, HiTEN, and CICMT) 2017, DPC (1 janvier 2017) : 1–19. http://dx.doi.org/10.4071/2017dpc-tp1_presentation2.
Texte intégralHollenbeck, J. L., et R. C. Buchanan. « Nanometer-scale structures produced in oxide films ». Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 45 (août 1987) : 396–97. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100126779.
Texte intégralHossain, Sylvia D., et Michael F. Pas. « Heated SC1 Solution for Selective Etching and Resist Particulate Removal ». Journal of The Electrochemical Society 140, no 12 (1 décembre 1993) : 3604–6. http://dx.doi.org/10.1149/1.2221133.
Texte intégralPavlova, T. V., V. M. Shevlyuga, B. V. Andryushechkin, G. M. Zhidomirov et K. N. Eltsov. « Local removal of silicon layers on Si(1 0 0)-2 × 1 with chlorine-resist STM lithography ». Applied Surface Science 509 (avril 2020) : 145235. http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2019.145235.
Texte intégralNoda, Seiji, Kazumasa Kawase, Hideo Horibe, Masaki Kuzumoto et Tatsuo Kataoka. « Development of a Method for Resist Removal by Ozone with Acetic Acid Vapor ». Journal of The Electrochemical Society 152, no 1 (2005) : G73. http://dx.doi.org/10.1149/1.1833311.
Texte intégralFurusawa, Takeshi, Noriyuki Sakuma, Daisuke Ryuzaki, Seiichi Kondo, Ken-ichi Takeda, Shuntaro Machida, Ryo Yoneyama et Kenji Hinode. « Direct Resist Removal Process from Copper-Exposed Vias for Low-Parasitic-Capacitance Interconnects ». Journal of The Electrochemical Society 148, no 4 (2001) : G190. http://dx.doi.org/10.1149/1.1353580.
Texte intégralChen, Y., D. S. Macintyre et S. Thoms. « A non-destructive method for the removal of residual resist in imprinted patterns ». Microelectronic Engineering 67-68 (juin 2003) : 245–51. http://dx.doi.org/10.1016/s0167-9317(03)00184-9.
Texte intégralKono, Akihiko, Yu Arai, Takeshi Maruoka, Masashi Yamamoto, Yousuke Goto, Seiji Takahashi, Takashi Nishiyama et Hideo Horibe. « High removal rate of cross-linked SU-8 resist using hydrogen radicals generated by tungsten hot-wire catalyzer ». Thin Solid Films 562 (juillet 2014) : 632–37. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2014.04.062.
Texte intégralLu, Ming, et Shaozhang Niu. « A Detection Approach Using LSTM-CNN for Object Removal Caused by Exemplar-Based Image Inpainting ». Electronics 9, no 5 (22 mai 2020) : 858. http://dx.doi.org/10.3390/electronics9050858.
Texte intégralLi, X., H. Zhou, J. Abrokwah, P. Zurcher, K. Rajagopalan, W. Liu, R. Gregory, M. Passlack et I. G. Thayne. « Low damage ashing and etching processes for ion implanted resist and Si3N4 removal by ICP and RIE methods ». Microelectronic Engineering 85, no 5-6 (mai 2008) : 966–68. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2007.12.056.
Texte intégralKalai, Amina, Fadila Malek et Leila Bousmaha-Marroki. « Effect of Thymus ciliatus oil-based disinfectant solutions against bio-films formed by Bacillus cereus strains isolated from pasteurized-milk processing lines in Algeria ». South Asian Journal of Experimental Biology 8, no 1 (29 octobre 2018) : 01–12. http://dx.doi.org/10.38150/sajeb.8(1).p01-12.
Texte intégralP. Yu. Glagolev, G. D. Demin, N. A. Djuzhev, M. A. Makhiboroda et N. A. Filippo. « Study of the dynamics of heating anode units in a maskless nanolithograph based on an array of microfocus X-ray tubes ». Technical Physics 92, no 13 (2022) : 2125. http://dx.doi.org/10.21883/tp.2022.13.52233.132-21.
Texte intégralSun, Yong, et Richard Bailey. « Tribocorrosion Behavior of γ′-Fe4N Nitride Layer Formed on Mild Steel by Plasma Nitriding in Chloride-Containing Solution ». Lubricants 11, no 7 (29 juin 2023) : 281. http://dx.doi.org/10.3390/lubricants11070281.
Texte intégralChang, Shih-Chia, et Jeffrey M. Kempisty. « Lift-off Methods for MEMS Devices ». MRS Proceedings 729 (2002). http://dx.doi.org/10.1557/proc-729-u2.3.
Texte intégralMatsubara, Y., K. Endo, T. Tatsumi et T. Horiuchi. « Adhesion of a-C:F during oxygen plasma annealing ». MRS Proceedings 476 (1997). http://dx.doi.org/10.1557/proc-476-19.
Texte intégralPremnath, Vijay Anirudh, et Chih-Hao Chang. « Investigation of polymer template removal techniques in three-dimensional thin-shell nanolattices ». Journal of Vacuum Science & ; Technology B 41, no 6 (17 octobre 2023). http://dx.doi.org/10.1116/6.0003036.
Texte intégralBoumerzoug, Mohamed, Han Xu, Richard Bersin, Peter Mascher et Ginutis Balcaitis. « Removal of Titanium Oxide Grown on Titanium Nitride and Reduction of VIA Contact Resistance using a Modern Plasma Asher ». MRS Proceedings 495 (1997). http://dx.doi.org/10.1557/proc-495-345.
Texte intégralAdelung, Rainer, Mady Elbahri, Shiva Kumar Rudra, Abhijit Biswas, Seid Jebril, Rainer Kunz, Sebastian Wille et Michael Scharnberg. « Employing Thin Film Failure Mechanisms to Form Templates for Nano-electronics ». MRS Proceedings 863 (2005). http://dx.doi.org/10.1557/proc-863-b7.3/o11.3.
Texte intégralGuo, Hanwen, Xiaoying Chu, Yishun Guo, Jianhua Yang, Yingying Jin, Liyang Zhou, Yaou Peng, Qingying Wang, Fan Lu et Bailiang Wang. « A water transfer printing method for contact lenses surface 2D MXene modification to resist bacterial infection and inflammation ». Science Advances 10, no 15 (12 avril 2024). http://dx.doi.org/10.1126/sciadv.adl3262.
Texte intégralSandstrom, Clifford, et Tim Olson. « Mask-less Laser Direct Imaging & ; Adaptive Patterning for Fan-Out Heterogeneous Integration ». IMAPSource Proceedings 2022, DPC (14 novembre 2023). http://dx.doi.org/10.4071/001c.90153.
Texte intégralBorini, Stefano, Andrea M. Rossi, Luca Boarino et Giampiero Amato. « Etching Silicon Through an Effective Nanomask : An Electrochemical Way to Nanomachining ». MRS Proceedings 872 (2005). http://dx.doi.org/10.1557/proc-872-j13.9.
Texte intégralHockett, R. S., M. H. Herman, X. C. Mu et Li-Jia Ma. « Investigations of Residual Chlorine on Etched AlCu Metal Lines by Total Reflection X-Ray Fluorescence (TXRF) ». MRS Proceedings 225 (1991). http://dx.doi.org/10.1557/proc-225-329.
Texte intégralTian, Xiaoli, Fu Li, Zhenyuan Tang, Song Wang, Kangkang Weng, Dan Liu, Shaoyong Lu et al. « Crosslinking-induced patterning of MOFs by direct photo- and electron-beam lithography ». Nature Communications 15, no 1 (4 avril 2024). http://dx.doi.org/10.1038/s41467-024-47293-6.
Texte intégralHanevelt, Julia, Jelle F. Huisman, Laura W. Leicher, Miangela M. Lacle, Milan C. Richir, Paul Didden, Joost M. J. Geesing et al. « Limited wedge resection for T1 colon cancer (LIMERIC-II trial) – rationale and study protocol of a prospective multicenter clinical trial ». BMC Gastroenterology 23, no 1 (19 juin 2023). http://dx.doi.org/10.1186/s12876-023-02854-9.
Texte intégralMaras, Steven. « Reflections on Adobe Corporation, Bill Viola, and Peter Ramus while Printing Lecture Notes ». M/C Journal 8, no 2 (1 juin 2005). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.2338.
Texte intégralLevey, Nick. « “Analysis Paralysis” : The Suspicion of Suspicion in the Fiction of David Foster Wallace ». M/C Journal 15, no 1 (31 octobre 2011). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.383.
Texte intégralHughes, Karen Elizabeth. « Resilience, Agency and Resistance in the Storytelling Practice of Aunty Hilda Wilson (1911-2007), Ngarrindjeri Aboriginal Elder ». M/C Journal 16, no 5 (28 août 2013). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.714.
Texte intégralBallard, Su. « Information, Noise and et al. » M/C Journal 10, no 5 (1 octobre 2007). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.2704.
Texte intégralLombard, Kara-Jane. « “To Us Writers, the Differences Are Obvious” ». M/C Journal 10, no 2 (1 mai 2007). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.2629.
Texte intégralMurphy, Ffion, et Richard Nile. « The Many Transformations of Albert Facey ». M/C Journal 19, no 4 (31 août 2016). http://dx.doi.org/10.5204/mcj.1132.
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