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Mantese, Joseph V., Ian G. Brown, Nathan W. Cheung et George A. Collins. « Plasma-Immersion Ion Implantation ». MRS Bulletin 21, no 8 (août 1996) : 52–56. http://dx.doi.org/10.1557/s0883769400035727.
Texte intégralThomae, Rainer W. « Plasma-immersion ion implantation ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 139, no 1-4 (avril 1998) : 37–42. http://dx.doi.org/10.1016/s0168-583x(97)00952-x.
Texte intégralMIREAULT, N., et G. G. ROSS. « MODIFICATION OF WETTING PROPERTIES OF PMMA BY IMMERSION PLASMA ION IMPLANTATION ». Surface Review and Letters 15, no 04 (août 2008) : 345–54. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x08011470.
Texte intégralLieberman, M. A. « Model of plasma immersion ion implantation ». Journal of Applied Physics 66, no 7 (octobre 1989) : 2926–29. http://dx.doi.org/10.1063/1.344172.
Texte intégralKondyurin, A., V. Karmanov et R. Guenzel. « Plasma immersion ion implantation of polyethylene ». Vacuum 64, no 2 (novembre 2001) : 105–11. http://dx.doi.org/10.1016/s0042-207x(01)00381-5.
Texte intégralLópez-Callejas, R., R. Valencia-Alvarado, A. E. Muñoz-Castro, O. G. Godoy-Cabrera et J. L. Tapia-Fabela. « Instrumentation for plasma immersion ion implantation ». Review of Scientific Instruments 73, no 12 (décembre 2002) : 4277–82. http://dx.doi.org/10.1063/1.1517144.
Texte intégralCollins, G. A., R. Hutchings et J. Tendys. « Plasma immersion ion implantation of steels ». Materials Science and Engineering : A 139 (juillet 1991) : 171–78. http://dx.doi.org/10.1016/0921-5093(91)90613-r.
Texte intégralMändl, S., J. Brutscher, R. Günzel et W. Möller. « Ion energy distribution in plasma immersion ion implantation ». Surface and Coatings Technology 93, no 2-3 (septembre 1997) : 234–37. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00051-0.
Texte intégralKenny, M. J., L. S. Wielunski, J. Tendys et G. A. Collins. « A comparison of plasma immersion ion implantation with conventional ion implantation ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 80-81 (juin 1993) : 262–66. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(93)96120-2.
Texte intégralYankov, Rossen A., et Stephan Mändl. « Plasma immersion ion implantation for silicon processing ». Annalen der Physik 513, no 4 (26 février 2001) : 279–98. http://dx.doi.org/10.1002/andp.20015130401.
Texte intégralLinder, B. P., et N. W. Cheung. « Plasma immersion ion implantation with dielectric substrates ». IEEE Transactions on Plasma Science 24, no 6 (1996) : 1383–88. http://dx.doi.org/10.1109/27.553205.
Texte intégralBrutscher, Jörg, Reinhard Günzel et Wolfhard Möller. « Sheath dynamics in plasma immersion ion implantation ». Plasma Sources Science and Technology 5, no 1 (1 février 1996) : 54–60. http://dx.doi.org/10.1088/0963-0252/5/1/007.
Texte intégralChen, S. M., R. M. Gwilliam et B. J. Sealy. « Computer simulation of Plasma Immersion Ion Implantation ». Radiation Effects and Defects in Solids 141, no 1-4 (juin 1997) : 149–59. http://dx.doi.org/10.1080/10420159708211566.
Texte intégralZeng, Xuchu, Ricky K. Y. Fu, Dixon T. K. Kwok et Paul K. Chu. « Quasi-direct current plasma immersion ion implantation ». Applied Physics Letters 79, no 19 (5 novembre 2001) : 3044–46. http://dx.doi.org/10.1063/1.1415404.
Texte intégralOliveira, R. M., M. Ueda, J. O. Rossi, B. Diaz et K. Baba. « Plasma Immersion Ion Implantation With Lithium Atoms ». IEEE Transactions on Plasma Science 36, no 5 (octobre 2008) : 2572–76. http://dx.doi.org/10.1109/tps.2008.2004229.
Texte intégralHuber, P., G. Keller, J. W. Gerlach, S. Mändl, W. Assmann et B. Rauschenbach. « Trench homogeneity in plasma immersion ion implantation ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 161-163 (mars 2000) : 1085–89. http://dx.doi.org/10.1016/s0168-583x(99)00825-3.
Texte intégralSchiller, T. L., D. Sheeja, D. R. McKenzie, D. G. McCulloch, D. S. P. Lau, S. Burn et B. K. Tay. « Plasma immersion ion implantation of poly(tetrafluoroethylene) ». Surface and Coatings Technology 177-178 (janvier 2004) : 483–88. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(03)00916-2.
Texte intégralBlawert, C., et B. L. Mordike. « Industrial applications of plasma immersion ion implantation ». Surface and Coatings Technology 93, no 2-3 (septembre 1997) : 274–79. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00060-1.
Texte intégralMöller, Wolfhard, Stefano Parascandola, Olaf Kruse, Reinhard Günzel et Edgar Richter. « Plasma-immersion ion implantation for diffusive treatment ». Surface and Coatings Technology 116-119 (septembre 1999) : 1–10. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(99)00144-9.
Texte intégralCheung, Nathan W. « Processing considerations with plasma immersion ion implantation ». Surface and Coatings Technology 156, no 1-3 (juillet 2002) : 24–30. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(02)00068-3.
Texte intégralKondyurin, A., P. Volodin et J. Weber. « Plasma immersion ion implantation of Pebax polymer ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 251, no 2 (octobre 2006) : 407–12. http://dx.doi.org/10.1016/j.nimb.2006.06.026.
Texte intégralZeng, Zhaoming, Ricky K. Y. Fu, Xiubo Tian et Paul K. Chu. « Plasma immersion ion implantation of industrial gears ». Surface and Coatings Technology 186, no 1-2 (août 2004) : 260–64. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.02.048.
Texte intégralTian, X. B., K. Y. Fu, P. K. Chu et S. Q. Yang. « Plasma immersion ion implantation of insulating materials ». Surface and Coatings Technology 196, no 1-3 (juin 2005) : 162–66. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.08.166.
Texte intégralUeda, M., I. H. Tan, R. S. Dallaqua, J. O. Rossi, J. J. Barroso et M. H. Tabacniks. « Aluminum plasma immersion ion implantation in polymers ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 206 (mai 2003) : 760–66. http://dx.doi.org/10.1016/s0168-583x(03)00844-9.
Texte intégralGünzel, R., et J. Brutscher. « Sheath dynamics in plasma immersion ion implantation ». Surface and Coatings Technology 85, no 1-2 (novembre 1996) : 98–104. http://dx.doi.org/10.1016/0257-8972(96)02883-6.
Texte intégralChu, Paul K. « Semiconductor applications of plasma immersion ion implantation ». Plasma Physics and Controlled Fusion 45, no 5 (26 mars 2003) : 555–70. http://dx.doi.org/10.1088/0741-3335/45/5/304.
Texte intégralCheung, N. W. « Plasma immersion ion implantation for semiconductor processing ». Materials Chemistry and Physics 46, no 2-3 (novembre 1996) : 132–39. http://dx.doi.org/10.1016/s0254-0584(97)80006-5.
Texte intégralChu, Paul K., et Nathan W. Cheung. « Microcavity engineering by plasma immersion ion implantation ». Materials Chemistry and Physics 57, no 1 (novembre 1998) : 1–16. http://dx.doi.org/10.1016/s0254-0584(98)00211-9.
Texte intégralEnsinger, W. « Semiconductor processing by plasma immersion ion implantation ». Materials Science and Engineering : A 253, no 1-2 (septembre 1998) : 258–68. http://dx.doi.org/10.1016/s0921-5093(98)00734-5.
Texte intégralJones, Erin C., Barry P. Linder et Nathan W. Cheung. « Plasma Immersion Ion Implantation for Electronic Materials ». Japanese Journal of Applied Physics 35, Part 1, No. 2B (28 février 1996) : 1027–36. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.35.1027.
Texte intégralCheung, Nathan W. « Plasma immersion ion implantation for ULSI processing ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 55, no 1-4 (avril 1991) : 811–20. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(91)96285-s.
Texte intégralYankov, Rossen A., et Stephan Mändl. « Plasma immersion ion implantation for silicon processing ». Annalen der Physik 10, no 4 (avril 2001) : 279–98. http://dx.doi.org/10.1002/1521-3889(200104)10:4<279 ::aid-andp279>3.0.co;2-r.
Texte intégralChu, Paul K. « Progress in direct-current plasma immersion ion implantation and recent applications of plasma immersion ion implantation and deposition ». Surface and Coatings Technology 229 (août 2013) : 2–11. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.03.073.
Texte intégralCollins, G. A., R. Hutchings, K. T. Short et J. Tendys. « Ion-assisted surface modification by plasma immersion ion implantation ». Surface and Coatings Technology 103-104 (mai 1998) : 212–17. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(98)00395-8.
Texte intégralTian, X. B., et Paul K. Chu. « Multiple ion-focusing effects in plasma immersion ion implantation ». Applied Physics Letters 81, no 20 (11 novembre 2002) : 3744–46. http://dx.doi.org/10.1063/1.1520716.
Texte intégralCheng-Sen, Liu, Wang De-Zhen, Fan Yu-Jia, Zhang Nan, Guan Li et Yao Yuan. « Non-Uniformity of Ion Implantation in Direct-Current Plasma Immersion Ion Implantation ». Chinese Physics Letters 27, no 7 (juillet 2010) : 075201. http://dx.doi.org/10.1088/0256-307x/27/7/075201.
Texte intégralQian, X. Y., N. W. Cheung, M. A. Lieberman, R. Brennan, M. I. Current et N. Jha. « Conformal implantation for trench doping with plasma immersion ion implantation ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 55, no 1-4 (avril 1991) : 898–901. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(91)96303-3.
Texte intégralZhi-Neng Fan, Qing-Chuan Chen, P. K. Chu et Chung Chan. « Low pressure plasma immersion ion implantation of silicon ». IEEE Transactions on Plasma Science 26, no 6 (1998) : 1661–68. http://dx.doi.org/10.1109/27.747884.
Texte intégralChen, S. M., R. M. Gwilliam et B. J. Sealy. « MOS device fabrication via plasma immersion ion implantation ». Solid-State Electronics 41, no 4 (avril 1997) : 535–37. http://dx.doi.org/10.1016/s0038-1101(96)00218-3.
Texte intégralTan, I. H., M. Ueda, R. S. Dallaqua, J. O. Rossi, A. F. Beloto et E. Abramof. « Magnesium plasma immersion ion implantation on silicon wafers ». Surface and Coatings Technology 169-170 (juin 2003) : 379–83. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(03)00053-7.
Texte intégralShao, Jiqun, Erin C. Jones et Nathan W. Cheung. « Shallow junction formation by plasma immersion ion implantation ». Surface and Coatings Technology 93, no 2-3 (septembre 1997) : 254–57. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(97)00055-8.
Texte intégralDavis, J., K. Short, R. Wuhrer, M. Phillips et K. Whittle. « Plasma Immersion Ion Implantation of Stainless Steel 316 ». Microscopy and Microanalysis 17, S2 (juillet 2011) : 1886–87. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927611010300.
Texte intégralThorwarth, G., S. Mändl et B. Rauschenbach. « Plasma immersion ion implantation of cold-work steel ». Surface and Coatings Technology 125, no 1-3 (mars 2000) : 94–99. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(99)00605-2.
Texte intégralMändl, S., D. Krause, G. Thorwarth, R. Sader, F. Zeilhofer, H. H. Horch et B. Rauschenbach. « Plasma immersion ion implantation treatment of medical implants ». Surface and Coatings Technology 142-144 (juillet 2001) : 1046–50. http://dx.doi.org/10.1016/s0257-8972(01)01066-0.
Texte intégralMändl, Stephan, et Darina Manova. « Modification of metals by plasma immersion ion implantation ». Surface and Coatings Technology 365 (mai 2019) : 83–93. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2018.04.039.
Texte intégralKondyurin, A., B. K. Gan, M. M. M. Bilek, D. R. McKenzie, K. Mizuno et R. Wuhrer. « Argon plasma immersion ion implantation of polystyrene films ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 266, no 7 (avril 2008) : 1074–84. http://dx.doi.org/10.1016/j.nimb.2008.02.063.
Texte intégralUeda, M., M. M. Silva, C. M. Lepienski, P. C. Soares, J. A. N. Gonçalves et H. Reuther. « High temperature plasma immersion ion implantation of Ti6Al4V ». Surface and Coatings Technology 201, no 9-11 (février 2007) : 4953–56. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2006.07.074.
Texte intégralYankov, R. A., N. Shevchenko, A. Rogozin, M. F. Maitz, E. Richter, W. Möller, A. Donchev et M. Schütze. « Reactive plasma immersion ion implantation for surface passivation ». Surface and Coatings Technology 201, no 15 (avril 2007) : 6752–58. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2006.09.010.
Texte intégralValcheva, E., S. Dimitrov, D. Manova, S. Mändl et S. Alexandrova. « AlN nanoclusters formation by plasma ion immersion implantation ». Surface and Coatings Technology 202, no 11 (février 2008) : 2319–22. http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2007.08.051.
Texte intégralCollins, G. A., R. Hutchings et J. Tendys. « Plasma immersion ion implantation—the role of diffusion ». Surface and Coatings Technology 59, no 1-3 (octobre 1993) : 267–73. http://dx.doi.org/10.1016/0257-8972(93)90095-6.
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