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Texte intégralCasalboni, M., L. Dominici, V. Foglietti, F. Michelotti, E. Orsini, C. Palazzesi, F. Stella et P. Prosposito. « Bragg Grating Optical Filters by UV Nanoimprinting ». Journal of Nanomaterials 2012 (2012) : 1–5. http://dx.doi.org/10.1155/2012/186429.
Texte intégralGuijt, Rosanne M., et Michael C. Breadmore. « Maskless photolithography using UV LEDs ». Lab on a Chip 8, no 8 (2008) : 1402. http://dx.doi.org/10.1039/b800465j.
Texte intégralNoniewicz, Konrad, Zbigniew K. Brzozowski et Irmina Zadrozna. « UV-sensitive polyarylates as photolithographic emulsions ». Journal of Applied Polymer Science 60, no 7 (16 mai 1996) : 1071–82. http://dx.doi.org/10.1002/(sici)1097-4628(19960516)60:7<1071 ::aid-app19>3.0.co;2-3.
Texte intégralMagklaras, Aris, Panayiotis Alefragis, Christos Gogos, Christos Valouxis et Alexios Birbas. « A Genetic Algorithm-Enhanced Sensor Marks Selection Algorithm for Wavefront Aberration Modeling in Extreme-UV (EUV) Photolithography ». Information 14, no 8 (28 juillet 2023) : 428. http://dx.doi.org/10.3390/info14080428.
Texte intégralGordillo, H., I. Suárez, R. Abargues, P. Rodríguez-Cantó, S. Albert et J. P. Martínez-Pastor. « Polymer/QDs Nanocomposites for Waveguiding Applications ». Journal of Nanomaterials 2012 (2012) : 1–9. http://dx.doi.org/10.1155/2012/960201.
Texte intégralWu, Chun-Ying, Heng Hsieh et Yung-Chun Lee. « Contact Photolithography at Sub-Micrometer Scale Using a Soft Photomask ». Micromachines 10, no 8 (18 août 2019) : 547. http://dx.doi.org/10.3390/mi10080547.
Texte intégralCritchley, Kevin, Lixin Zhang, Hitoshi Fukushima, Masaya Ishida, Tatsuya Shimoda, Richard J. Bushby et Stephen D. Evans. « Soft-UV Photolithography using Self-Assembled Monolayers ». Journal of Physical Chemistry B 110, no 34 (août 2006) : 17167–74. http://dx.doi.org/10.1021/jp0630370.
Texte intégralHoriuchi, S., T. Fujita, T. Hayakawa et Y. Nakao. « Micropatterning of Metal Nanoparticles via UV Photolithography ». Advanced Materials 15, no 17 (3 septembre 2003) : 1449–52. http://dx.doi.org/10.1002/adma.200305270.
Texte intégralZaki, M., Uda Hashim, Mohd Khairuddin Md Arshad, M. Nurfaiz, M. F. M. Fathil, A. H. Azman et R. M. Ayub. « Optimization on Conventional Photolithography Process of 0.98 μm Gap Design for Micro Gap Biosensor Application ». Applied Mechanics and Materials 754-755 (avril 2015) : 524–29. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.754-755.524.
Texte intégralLowe, Jimmy, Carl Bartels et Steven Holdcroft. « Synthesis and properties of a sterically encumbered poly(thienylene vinylene) : poly[E-1,2-(4,4prime-dihexyl-2,2prime-dithienyl)ethylene] ». Canadian Journal of Chemistry 76, no 11 (1 novembre 1998) : 1524–29. http://dx.doi.org/10.1139/v98-110.
Texte intégralGoodall, F., RA Lawes et PH Sharp. « Excimer lasers as deep UV sources for photolithographic system ». Microelectronic Engineering 5, no 1-4 (décembre 1986) : 445–52. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(86)90075-4.
Texte intégralRoth, S., L. Dellmann, G.-A. Racine et N. F. de Rooij. « High aspect ratio UV photolithography for electroplated structures ». Journal of Micromechanics and Microengineering 9, no 2 (1 janvier 1999) : 105–8. http://dx.doi.org/10.1088/0960-1317/9/2/001.
Texte intégralMontague, Martha F., et Craig J. Hawker. « Secondary Patterning of UV Imprint Features by Photolithography ». Chemistry of Materials 19, no 3 (février 2007) : 526–34. http://dx.doi.org/10.1021/cm0622102.
Texte intégralLamprecht, B., E. Kraker, G. Weirum, H. Ditlbacher, G. Jakopic, G. Leising et J. R. Krenn. « Organic optoelectronic device fabrication using standard UV photolithography ». physica status solidi (RRL) – Rapid Research Letters 2, no 1 (janvier 2008) : 16–18. http://dx.doi.org/10.1002/pssr.200701250.
Texte intégralTam, Joyce, et Ozlem Yasar. « Multi Material 3D Scaffold Printing with Maskless Photolithography ». MRS Advances 2, no 24 (2017) : 1303–8. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.21.
Texte intégralAraki, Hitoshi, Akira Shimada, Hisashi Ogasawara, Masaya Jukei, Takenori Fujiwara et Masao Tomikawa. « Low Temperature Curable Low Dk & ; Df Polyimide for Antenna in Package ». International Symposium on Microelectronics 2021, no 1 (1 octobre 2021) : 000130–35. http://dx.doi.org/10.4071/1085-8024-2021.1.000130.
Texte intégralTyagi, Pawan, Edward Friebe, Beachrhell Jacques, Tobias Goulet, Stanley Travers et Francisco J. Garcia-Moreno. « Taguchi Design of Experiment Enabling the Reduction of Spikes on the Sides of Patterned Thin Films for Tunnel Junction Fabrication ». MRS Advances 2, no 52 (2017) : 3025–30. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.456.
Texte intégralKaltashov, Alexander, Prabu Karthick Parameshwar, Nicholas Lin et Christopher Moraes. « Accessible, large-area, uniform dose photolithography using a moving light source ». Journal of Micromechanics and Microengineering 32, no 2 (20 décembre 2021) : 027001. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6439/ac4005.
Texte intégralLin, Hung Yi, Yong Shan Sun, Shih Liang Chen et Mao Kuo Wei. « Microlens Array Fabrication by 3D Diffuser Lithography for Light Enhancement of Organic Light-Emitting Devices ». Key Engineering Materials 625 (août 2014) : 430–36. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.625.430.
Texte intégralReynolds, David Eun, Olivia Lewallen, George Galanis et Jina Ko. « A Customizable and Low-Cost Ultraviolet Exposure System for Photolithography ». Micromachines 13, no 12 (1 décembre 2022) : 2129. http://dx.doi.org/10.3390/mi13122129.
Texte intégralLIAO, K. J., W. L. WANG, C. Z. CAI, X. S. WANG et C. Y. KONG. « UV PHOTODETECTORS OF c-BN FILMS ». International Journal of Modern Physics B 16, no 06n07 (20 mars 2002) : 1115–19. http://dx.doi.org/10.1142/s0217979202010968.
Texte intégralToyama, Yoshisuke, et Hirokazu Ikeda. « 13‐2 : Invited Paper : Advanced Patterning Method Exceeding a Limitation of Lithography with Resolution Enhancement Technology (RET) ». SID Symposium Digest of Technical Papers 54, no 1 (juin 2023) : 158–61. http://dx.doi.org/10.1002/sdtp.16513.
Texte intégralBeck, Anthony, Franziska Obst, Mathias Busek, Stefan Grünzner, Philipp Mehner, Georgi Paschew, Dietmar Appelhans, Brigitte Voit et Andreas Richter. « Hydrogel Patterns in Microfluidic Devices by Do-It-Yourself UV-Photolithography Suitable for Very Large-Scale Integration ». Micromachines 11, no 5 (2 mai 2020) : 479. http://dx.doi.org/10.3390/mi11050479.
Texte intégralPrashad, Ramesh, et Ozlem Yasar. « Three-Dimensional Scaffold Fabrication with Inverse Photolithography ». MRS Advances 2, no 19-20 (15 décembre 2016) : 1071–75. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2016.620.
Texte intégralSuwandi, Dedi, Yudan Whulanza et Jos Istiyanto. « Visible Light Maskless Photolithography for Biomachining Application ». Applied Mechanics and Materials 493 (janvier 2014) : 552–57. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.493.552.
Texte intégralSEKIGUCHI, Ten, Ryo ICHIGE, Hidetaka UENO et Takaaki SUZUKI. « Shape Evaluation of UV-PDMS Microstructures Made by Using Photolithography ». Proceedings of the Conference on Information, Intelligence and Precision Equipment : IIP 2022 (2022) : IIP1R1—E06. http://dx.doi.org/10.1299/jsmeiip.2022.iip1r1-e06.
Texte intégralLiu, Junbo, Shaolin Zhou, Song Hu, Hongtao Gao, Yu He et Yiguang Cheng. « Spectrum-Integral Talbot Effect for UV Photolithography With Extended DOF ». IEEE Photonics Technology Letters 27, no 20 (15 octobre 2015) : 2201–4. http://dx.doi.org/10.1109/lpt.2015.2456184.
Texte intégralHemanth, Suhith, Thomas A. Anhøj, Claudia Caviglia et Stephan S. Keller. « Suspended microstructures of epoxy based photoresists fabricated with UV photolithography ». Microelectronic Engineering 176 (mai 2017) : 40–44. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2017.01.026.
Texte intégralLu, Yang, Jinbao Guo, Hao Wang et Jie Wei. « Flexible Bistable Smectic-A Liquid Crystal Device Using Photolithography and Photoinduced Phase Separation ». Advances in Condensed Matter Physics 2012 (2012) : 1–9. http://dx.doi.org/10.1155/2012/843264.
Texte intégralFantino, Erika, Alessandra Vitale, Marzia Quaglio, Matteo Cocuzza, Candido F. Pirri et Roberta Bongiovanni. « Blue and UV combined photolithographic polymerization for the patterning of thick structures ». Chemical Engineering Journal 267 (mai 2015) : 65–72. http://dx.doi.org/10.1016/j.cej.2014.12.088.
Texte intégralGupta, Ishi, Manika Choudhury, G. Harish Gnanasambanthan et Debashis Maji. « Optimization of Microstructure Patterning for Flexible Bioelectronics Application ». International Journal of Electrical and Electronics Research 11, no 3 (20 septembre 2023) : 738–42. http://dx.doi.org/10.37391/ijeer.110315.
Texte intégralKang, Myeongwoo, Jae Hwan Byun, Sangcheol Na et Noo Li Jeon. « Fabrication of functional 3D multi-level microstructures on transparent substrates by one step back-side UV photolithography ». RSC Advances 7, no 22 (2017) : 13353–61. http://dx.doi.org/10.1039/c6ra28812j.
Texte intégralSun, Ke, Gai Wu, Kang Liang, Bin Sun et Jian Wang. « Investigation into Photolithography Process of FPCB with 18 µm Line Pitch ». Micromachines 14, no 5 (10 mai 2023) : 1020. http://dx.doi.org/10.3390/mi14051020.
Texte intégralNaggay, Benjamin K., Kerstin Frey, Markus Schneider, Kiriaki Athanasopulu, Günter Lorenz et Ralf Kemkemer. « Low-cost photolithography system for cell biology labs ». Current Directions in Biomedical Engineering 7, no 2 (1 octobre 2021) : 550–53. http://dx.doi.org/10.1515/cdbme-2021-2140.
Texte intégralLi, Bo. « Low-stress ultra-thick SU-8 UV photolithography process for MEMS ». Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 4, no 4 (1 octobre 2005) : 043008. http://dx.doi.org/10.1117/1.2117108.
Texte intégralKim, Pan Kyeom, Sung-Il Chung, Tae-Gyu Ha et Myung Yung Jeong. « The Fabrication of a Cylindrical Nano Mold Based on UV Photolithography ». Science of Advanced Materials 12, no 3 (1 mars 2020) : 407–11. http://dx.doi.org/10.1166/sam.2020.3652.
Texte intégralWhitfield, Michael D., Stuart P. Lansley, Olivier Gaudin, Robert D. McKeag, Nadeem Rizvi et Richard B. Jackman. « Diamond photodetectors for next generation 157-nm deep-UV photolithography tools ». Diamond and Related Materials 10, no 3-7 (mars 2001) : 693–97. http://dx.doi.org/10.1016/s0925-9635(00)00518-5.
Texte intégralBing, Chu Yih, Ajay Achath Mohanan, Tridib Saha, Ramakrishnan Nagasundara Ramanan, R. Parthiban et N. Ramakrishnan. « Microfabrication of surface acoustic wave device using UV LED photolithography technique ». Microelectronic Engineering 122 (juin 2014) : 9–12. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2014.03.011.
Texte intégralShao, Dongbing, et Shaochen Chen. « Surface plasmon assisted contact scheme nanoscale photolithography using an UV lamp ». Journal of Vacuum Science & ; Technology B : Microelectronics and Nanometer Structures 26, no 1 (2008) : 227. http://dx.doi.org/10.1116/1.2834688.
Texte intégralSekiguchi, Ten, Hidetaka Ueno, Vivek Anand Menon, Ryo Ichige, Yuya Tanaka, Hiroshi Toshiyoshi et Takaaki Suzuki. « UV-curable Polydimethylsiloxane Photolithography and Its Application to Flexible Mechanical Metamaterials ». Sensors and Materials 35, no 6 (27 juin 2023) : 1995. http://dx.doi.org/10.18494/sam4351.
Texte intégralHuang, Wenhai, Taige Liu, Zhe Wang, Xiangdong Yuan, Bo Zhang, Chai Hu, Kewei Liu, Jiashuo Shi et Xinyu Zhang. « Flexible refractive and diffractive micro-optical films shaped by fitting aspherical microprofiles with featured aperture and depth and their spatial arrangement for imaging applications ». Journal of Vacuum Science & ; Technology B 40, no 2 (mars 2022) : 022804. http://dx.doi.org/10.1116/6.0001586.
Texte intégralNothdurft, Philipp, Jörg Schauberger, Gisbert Riess et Wolfgang Kern. « Preparation of a Water-Based Photoreactive Azosulphonate-Doped Poly(Vinyl Alcohol) and the Investigation of Its UV Response ». Polymers 11, no 1 (18 janvier 2019) : 169. http://dx.doi.org/10.3390/polym11010169.
Texte intégralLiang, Banglong, Zili Wang, Cheng Qian, Yi Ren, Bo Sun, Dezhen Yang, Zhou Jing et Jiajie Fan. « Investigation of Step-Stress Accelerated Degradation Test Strategy for Ultraviolet Light Emitting Diodes ». Materials 12, no 19 (25 septembre 2019) : 3119. http://dx.doi.org/10.3390/ma12193119.
Texte intégralHu, Haikun, Zhou Lu, Jiasheng Li et Zongtao Li. « P‐11.3 : Manufacturing Quantum Dot Pixel Array via Self‐Assembling on Hydrophobic‐Hydrophilic Transformation Substrate ». SID Symposium Digest of Technical Papers 54, S1 (avril 2023) : 836–40. http://dx.doi.org/10.1002/sdtp.16428.
Texte intégralKasi, Dhanesh G., Mees N. S. de Graaf, Paul A. Motreuil-Ragot, Jean-Phillipe M. S. Frimat, Michel D. Ferrari, Pasqualina M. Sarro, Massimo Mastrangeli, Arn M. J. M. van den Maagdenberg, Christine L. Mummery et Valeria V. Orlova. « Rapid Prototyping of Organ-on-a-Chip Devices Using Maskless Photolithography ». Micromachines 13, no 1 (29 décembre 2021) : 49. http://dx.doi.org/10.3390/mi13010049.
Texte intégralWu, Yu, et Zihao Xiao. « The Recent Progress of Lithography Machine and the State-of-art Facilities ». Highlights in Science, Engineering and Technology 5 (7 juillet 2022) : 155–65. http://dx.doi.org/10.54097/hset.v5i.737.
Texte intégralNiu, Xi-Zhi, Richard D. Pepel, Rodrigo Paniego, Jim A. Field, Jon Chorover, Leif Abrell, A. Eduardo Sáez et Reyes Sierra-Alvarez. « Photochemical fate of sulfonium photoacid generator cations under photolithography relevant UV irradiation ». Journal of Photochemistry and Photobiology A : Chemistry 416 (juillet 2021) : 113324. http://dx.doi.org/10.1016/j.jphotochem.2021.113324.
Texte intégralYasar, Ozlem, et Binil Starly. « Fabrication of Lindenmayer System-Based Designed Engineered Scaffolds Using UV-Maskless Photolithography ». MRS Advances 1, no 11 (2016) : 749–54. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2016.223.
Texte intégralThackeray, James W., George W. Orsula, Dianne Canistro et Amanda K. Berry. « Evaluation of deep UV ANR photoresists for 248.4 nm. excimer laser photolithography. » Journal of Photopolymer Science and Technology 2, no 3 (1989) : 429–43. http://dx.doi.org/10.2494/photopolymer.2.429.
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