Littérature scientifique sur le sujet « Photolithographie UV »
Créez une référence correcte selon les styles APA, MLA, Chicago, Harvard et plusieurs autres
Sommaire
Consultez les listes thématiques d’articles de revues, de livres, de thèses, de rapports de conférences et d’autres sources académiques sur le sujet « Photolithographie UV ».
À côté de chaque source dans la liste de références il y a un bouton « Ajouter à la bibliographie ». Cliquez sur ce bouton, et nous générerons automatiquement la référence bibliographique pour la source choisie selon votre style de citation préféré : APA, MLA, Harvard, Vancouver, Chicago, etc.
Vous pouvez aussi télécharger le texte intégral de la publication scolaire au format pdf et consulter son résumé en ligne lorsque ces informations sont inclues dans les métadonnées.
Articles de revues sur le sujet "Photolithographie UV"
Ballandras, S., et D. Hauden. « Applications aux microtechniques de la photolithographie profonde par UV et par rayonnement synchrotron ». Annales de Physique 19 (octobre 1994) : C1–73—C1–85. http://dx.doi.org/10.1051/anphys/1994022.
Texte intégralCasalboni, M., L. Dominici, V. Foglietti, F. Michelotti, E. Orsini, C. Palazzesi, F. Stella et P. Prosposito. « Bragg Grating Optical Filters by UV Nanoimprinting ». Journal of Nanomaterials 2012 (2012) : 1–5. http://dx.doi.org/10.1155/2012/186429.
Texte intégralGuijt, Rosanne M., et Michael C. Breadmore. « Maskless photolithography using UV LEDs ». Lab on a Chip 8, no 8 (2008) : 1402. http://dx.doi.org/10.1039/b800465j.
Texte intégralNoniewicz, Konrad, Zbigniew K. Brzozowski et Irmina Zadrozna. « UV-sensitive polyarylates as photolithographic emulsions ». Journal of Applied Polymer Science 60, no 7 (16 mai 1996) : 1071–82. http://dx.doi.org/10.1002/(sici)1097-4628(19960516)60:7<1071 ::aid-app19>3.0.co;2-3.
Texte intégralMagklaras, Aris, Panayiotis Alefragis, Christos Gogos, Christos Valouxis et Alexios Birbas. « A Genetic Algorithm-Enhanced Sensor Marks Selection Algorithm for Wavefront Aberration Modeling in Extreme-UV (EUV) Photolithography ». Information 14, no 8 (28 juillet 2023) : 428. http://dx.doi.org/10.3390/info14080428.
Texte intégralGordillo, H., I. Suárez, R. Abargues, P. Rodríguez-Cantó, S. Albert et J. P. Martínez-Pastor. « Polymer/QDs Nanocomposites for Waveguiding Applications ». Journal of Nanomaterials 2012 (2012) : 1–9. http://dx.doi.org/10.1155/2012/960201.
Texte intégralWu, Chun-Ying, Heng Hsieh et Yung-Chun Lee. « Contact Photolithography at Sub-Micrometer Scale Using a Soft Photomask ». Micromachines 10, no 8 (18 août 2019) : 547. http://dx.doi.org/10.3390/mi10080547.
Texte intégralCritchley, Kevin, Lixin Zhang, Hitoshi Fukushima, Masaya Ishida, Tatsuya Shimoda, Richard J. Bushby et Stephen D. Evans. « Soft-UV Photolithography using Self-Assembled Monolayers ». Journal of Physical Chemistry B 110, no 34 (août 2006) : 17167–74. http://dx.doi.org/10.1021/jp0630370.
Texte intégralHoriuchi, S., T. Fujita, T. Hayakawa et Y. Nakao. « Micropatterning of Metal Nanoparticles via UV Photolithography ». Advanced Materials 15, no 17 (3 septembre 2003) : 1449–52. http://dx.doi.org/10.1002/adma.200305270.
Texte intégralZaki, M., Uda Hashim, Mohd Khairuddin Md Arshad, M. Nurfaiz, M. F. M. Fathil, A. H. Azman et R. M. Ayub. « Optimization on Conventional Photolithography Process of 0.98 μm Gap Design for Micro Gap Biosensor Application ». Applied Mechanics and Materials 754-755 (avril 2015) : 524–29. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.754-755.524.
Texte intégralThèses sur le sujet "Photolithographie UV"
Regagnon, Théo. « Modélisation in vitro du muscle sur membrane silicone microstructurée par photolithographie UV ». Electronic Thesis or Diss., Université de Montpellier (2022-....), 2023. http://www.theses.fr/2023UMONS073.
Texte intégralOur aim was to propose an in vitro model of differentiated and aligned human skeletal myotubes. To this end, we describe the micropatterning on a PDMS [poly(dimethylsiloxane)] substrate of EETMOS [2-(3,4 epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane)] an organic-inorganic hybrid polymer to produce a network of parallel lines that can be stretchable to optimize differenciation.The EETMOS-based resin was synthesized by sol-gel process and polymerized using UV-photolithography. Human primary myoblasts were seeded onto the microstructurated substrate to be, after proliferation, stretched to differentiate into aligned myotubes.The effect of the spacing between the parallel lines and their height was assessed by immunofluorescence. After an optimization of the model, we ended up with 30µm large myotubes reached with a 75µm spacing and 8 µm high microstructures. Then we functionalized the silicone with the use of silylated peptide ligands derived from extracellular matrix adhesion proteins to avoid detachment of the myotubes from their support. A stretching protocol was then optimized (10% from L0, 1Hz, two cycles of 1h stretching / 2h rest / 1h stretching with 20h rest in between). An improvement in the expression of sarcomere proteins and myogenic regulatory factors (MyoG) was observed with stretching in relation to better differentiation of the myogenic progeniteur. The in vitro model that we propose would be a very useful tool to evaluate in a patient, from a microbiopsy, his muscular responses to mechanical stress
Stehlin, Fabrice. « Photolithographie UV-profond d'oxoclusters métalliques : Des processus photochimiques aux applications en nanofabrication ». Phd thesis, Université de Haute Alsace - Mulhouse, 2013. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-01067489.
Texte intégralStehlin, Fabrice. « Photolithographie UV-profond d’oxoclusters métalliques : Des processus photochimiques aux applications en nanofabrication ». Thesis, Mulhouse, 2013. http://www.theses.fr/2013MULH8376/document.
Texte intégralThe main purpose of this thesis is to provide a material precursor of metal oxides (ZrO2, TiO2, HfO2) compatible with DUV interference photolithography technique. Transition metal oxoclusters (MOC) obtained by complexation of an organic ligand and a partial hydrolysis have been proposed as building blocks. DUV irradiation (193 nm) allows a direct excitation of the MOC, which leads a photo-induced crosslinking and gives to the material a negative photoresist character. A detailed spectroscopic study allowed proposing a mechanism of photocrosslinking. This study relied primarily on in situ techniques to follow the photochemical reaction by spectroscopic ellipsometry and RT-FTIR. The nanostructuring was performed by interferometric DUV lithography at 193 nm and could be extended to 2-photon stereolithography. DUV-IL was chosen for its potential to write nanostructures on relatively large areas, in standard atmosphere and temperature conditions. Furthermore, in the case of TiOC, the nanostructures can be fully mineralised at room temperature by an additionnal photochemical treatment. For ZrOC and HfOC, an additional thermal annealing step allows to obtain a crystalline structure MO2
Liu, Xiyuan. « Design, analysis and fabrication of micro optical systems involving UV-deep lithography - with an application in atomic physics ». [S.l. : s.n.], 2008. http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bsz:180-madoc-21393.
Texte intégralServera, Marc. « Etude d'un système de masquage pour microlithographie sensible en UV profond et développable par plasma d'oxygène ». Montpellier 2, 1990. http://www.theses.fr/1990MON20092.
Texte intégralYeh, Chun-Cheng. « ZnO micro- and nanostructures from Deep-UV photosensitive solutions for electronic and magnetic applications ». Thesis, Mulhouse, 2017. http://www.theses.fr/2017MULH1359/document.
Texte intégralIn this thesis, an in-depth investigation to the photosensitive zinc methacrylate (ZnMAA) precursor was made. Zinc methacrylate can be crosslinked under DUV (193 nm) irradiation. The photo-induced solidification is attributed to the partial decomposition of the ZnMAA complex, which gives rise to the following hydrolysis-condensation reactions and the formation of Zn-O-Zn networks. The bonding variation and decomposition of organic species caused by DUV irradiation were carefully investigated by FTIR, XPS and ellipsometry and discussed in Chapter III. DUV irradiation provokes clivage of MAA ligands from zinc cations. However, the intensity of MAA ligands can only be reduced to ~2/3 of its initial intensity regardless the extension of irradiation time, implying only a small amount oxide network can be induced by DUV irradiation. The small amount of Zn-O-Zn networks inside the photo-irradiated regions can effectively decrease the solubility of photo-irradiated regions in polar solvents, which makes ZnMAA precursor just like a negative tone resist and able to be patterned into two-dimensional structures by DUV lithography. Due to good photosensitivity to DUV light (193 nm), the dimension of DUV-patterned ZnMAA structures can be decreased to sub-micro by using binary masks and the effects of each pattering step including (i) DUV exposure, (ii) prebaking and (iii) development on the size and shape of DUV-patterned ZnMAA structures are discussed in Chapter IV. In order to fabricate nanoscale ZnMAA structures, a home-made DUV interference system was used to pattern ZnMAA precursor and 300 nm periodic lines were successfully made. Applications as TFT transistor, gaz sensor and magnetic materials are shown
Liu, Chao. « Optical modeling and resist metrology for deep-UV photolithography ». Texas A&M University, 2005. http://hdl.handle.net/1969.1/4233.
Texte intégralMcAdams, Christopher Lee. « Polymers and photoactive compounds for non-chemically amplified deep-UV photoresists / ». Full text (PDF) from UMI/Dissertation Abstracts International, 2000. http://wwwlib.umi.com/cr/utexas/fullcit?p3004335.
Texte intégralKAOU, LARBI NEILA. « Conception et realisation d'un dispositif en silicium permettant une connexion passive entre un circuit d'optique integree et un ruban de fibres optiques ». Besançon, 1999. http://www.theses.fr/1999BESA2045.
Texte intégralArbring, Theresia. « The impact of geometrical variations on the transport properties of organic electronic ion pumps ». Thesis, Linköpings universitet, Fysik och elektroteknik, 2013. http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:liu:diva-94544.
Texte intégralActes de conférences sur le sujet "Photolithographie UV"
Harned, Noreen. « Deep-UV photolithography cluster performance ». Dans SPIE's 1994 Symposium on Microlithography, sous la direction de Timothy A. Brunner. SPIE, 1994. http://dx.doi.org/10.1117/12.175487.
Texte intégralBauer, Harry H., Matthias Heller et Norbert Kaiser. « Optical coatings for UV photolithography systems ». Dans Optical Instrumentation & Systems Design. SPIE, 1996. http://dx.doi.org/10.1117/12.246823.
Texte intégralDunn, Diana D., Katherine C. Norris et Linda K. Somerville. « 0.5-um deep-UV photolithography manufacturing ». Dans SPIE's 1994 Symposium on Microlithography, sous la direction de Timothy A. Brunner. SPIE, 1994. http://dx.doi.org/10.1117/12.175464.
Texte intégralRuff, Bruce, Elizabeth Tai et Robert Brown. « Broadband Deep-UV High NA Photolithography System ». Dans 1989 Microlithography Conferences, sous la direction de Burn J. Lin. SPIE, 1989. http://dx.doi.org/10.1117/12.953173.
Texte intégralDunn, Diana D., James A. Bruce et Michael S. Hibbs. « Deep-UV photolithography linewidth variation from reflective substrates ». Dans Optical/Laser Microlithography IV, sous la direction de Victor Pol. SPIE, 1991. http://dx.doi.org/10.1117/12.44770.
Texte intégralYapici, Murat Kaya, et Ilyas Farhat. « UV-LED exposure system for low-cost photolithography ». Dans SPIE Advanced Lithography, sous la direction de Kafai Lai et Andreas Erdmann. SPIE, 2014. http://dx.doi.org/10.1117/12.2046123.
Texte intégralMontemezzani, G., St Pfändler et P. Günter. « Photorefractive properties of Bi4Ge3O12 crystals in the ultraviolet spectral range ». Dans Photorefractive Materials, Effects, and Devices II. Washington, D.C. : Optica Publishing Group, 1991. http://dx.doi.org/10.1364/pmed.1991.ma5.
Texte intégralDu, Liqun, Shenmiao Zhu, Jiang Qin et Chong Liu. « Numerical and experimental study on SU-8 UV photolithography ». Dans 3rd International Symposium on Advanced Optical Manufacturing and Testing Technologies : Advanced Optical Manufacturing Technologies, sous la direction de Li Yang, Yaolong Chen, Ernst-Bernhard Kley et Rongbin Li. SPIE, 2007. http://dx.doi.org/10.1117/12.783364.
Texte intégralK M, Dhivakar, et Anshu Sarje. « A Versatile, Low-Cost UV Exposure System for Photolithography ». Dans 2021 Smart Technologies, Communication and Robotics (STCR). IEEE, 2021. http://dx.doi.org/10.1109/stcr51658.2021.9588848.
Texte intégralZhang, Lidan, Shengyuan Chang, Xi Chen, Yimin Ding, Md Tarek Rahman, Yao, Duan, Pavel Terekhov et Xingjie Ni. « Wafer-scale single-aperture near-infrared metalens fabricated by deep UV photolithography ». Dans CLEO : QELS_Fundamental Science. Washington, D.C. : Optica Publishing Group, 2022. http://dx.doi.org/10.1364/cleo_qels.2022.ff2d.4.
Texte intégral