Livres sur le sujet « Lithographic applications »
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Trouver le texte intégralL, Engelstad Roxann, Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Semiconductor Equipment and Materials International. et International SEMATECH, dir. Emerging lithographic technologies VII : 25-27 February, 2003, Santa Clara, California, USA. Bellingham, Wash : SPIE, 2003.
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Trouver le texte intégralScott, Mackay R., Society of Photo-optical Instrumentation Engineers., Semiconductor Equipment and Materials International. et International SEMATECH, dir. Emerging lithographic technologies VIII : 24-26 February, 2004, Santa Clara, California, USA. Bellingham, Wash., USA : SPIE, 2004.
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Trouver le texte intégralFontaine, Bruno M. La, et F. M. Schellenberg. Alternative lithographic technologies : 24-26 February 2009, San Jose, California, United States. Sous la direction de SPIE (Society) et International SEMATECH. Bellingham, Wash : SPIE, 2009.
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Trouver le texte intégralSchellenberg, Frank. Emerging Lithographic Technologies XII : 26-28 February 2008, San Jose, California, USA. SPIE, 2008.
Trouver le texte intégralDevelopment of a low-debris laser driven soft x-ray source for lithographic applications. London, U.K. : Imperial College London, 2016.
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