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Xiaoting Fang, Xiaoting Fang, Shengfu Yuan Shengfu Yuan, Wenguang Liu Wenguang Liu, Baozhu Yan Baozhu Yan et Bing Huang Bing Huang. « Absorption measurement of optical thin films under high power density with a Closed Cavity ». Chinese Optics Letters 13, no 3 (2015) : 033101–33104. http://dx.doi.org/10.3788/col201513.033101.
Texte intégralFiorenza, Patrick, Raffaella Lo Nigro, Vito Raineri, Graziella Malandrino, Roberta G. Toro et Maria R. Catalano. « High capacitance density by CaCu3Ti4O12 thin films ». Journal of Applied Physics 108, no 7 (octobre 2010) : 074103. http://dx.doi.org/10.1063/1.3488893.
Texte intégralBanu, Nasrin, Surendra Singh, Saibal Basu, Anupam Roy, Hema C. P. Movva, V. Lauter, B. Satpati et B. N. Dev. « High density nonmagnetic cobalt in thin films ». Nanotechnology 29, no 19 (15 mars 2018) : 195703. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/aab0e9.
Texte intégralLodder, J. C. « Magnetic thin films for high-density recording ». Thin Solid Films 281-282 (août 1996) : 474–83. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(96)08679-8.
Texte intégralWang, Yong, Xin Zhou, Minren Lin et Q. M. Zhang. « High-energy density in aromatic polyurea thin films ». Applied Physics Letters 94, no 20 (18 mai 2009) : 202905. http://dx.doi.org/10.1063/1.3142388.
Texte intégralByeon, S. C., Y. Ding et C. Alexander. « High moment FeTiN thin films for high density recording heads ». IEEE Transactions on Magnetics 36, no 5 (2000) : 2502–5. http://dx.doi.org/10.1109/20.908487.
Texte intégralYu, Shihui, Chunmei Zhang, Muying Wu, Helei Dong et Lingxia Li. « Ultra-high energy density thin-film capacitors with high power density using BaSn0.15Ti0.85O3/Ba0.6Sr0.4TiO3 heterostructure thin films ». Journal of Power Sources 412 (février 2019) : 648–54. http://dx.doi.org/10.1016/j.jpowsour.2018.12.012.
Texte intégralYan, S. L., Y. Y. Xie, J. Z. Wu, T. Aytug, A. A. Gapud, B. W. Kang, L. Fang et al. « High critical current density in epitaxial HgBa2CaCu2OX thin films ». Applied Physics Letters 73, no 20 (16 novembre 1998) : 2989–91. http://dx.doi.org/10.1063/1.122653.
Texte intégralYe, M., M. Mehbod et R. Deltour. « High critical current density in epitaxial YBa2Cu3O7 thin films ». Physica B : Condensed Matter 204, no 1-4 (janvier 1995) : 200–205. http://dx.doi.org/10.1016/0921-4526(94)00264-v.
Texte intégralWen, Fei, Zhuo Xu, Weimin Xia, Hongjun Ye, Xiaoyong Wei et Zhicheng Zhang. « High-Energy-Density Poly(styrene-co-acrylonitrile) Thin Films ». Journal of Electronic Materials 42, no 12 (8 octobre 2013) : 3489–93. http://dx.doi.org/10.1007/s11664-013-2764-z.
Texte intégralLi, Zongxin, Hanxing Liu, Zhonghua Yao, Juan Xie, Xixi Li, Chunli Diao, Amjad Ullah, Hua Hao et Minghe Cao. « Novel BiAlO3 dielectric thin films with high energy density ». Ceramics International 45, no 17 (décembre 2019) : 22523–27. http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2019.07.278.
Texte intégralLODDER, J. C. « ChemInform Abstract : Magnetic Thin Films for High-Density Recording ». ChemInform 28, no 6 (4 août 2010) : no. http://dx.doi.org/10.1002/chin.199706325.
Texte intégralSong, Baijie, Kun Zhu, Hao Yan, Liuxue Xu, Bo Shen et Jiwei Zhai. « High energy storage density with high power density in Bi0.2Sr0.7TiO3/BiFeO3 multilayer thin films ». Journal of Materials Chemistry C 9, no 13 (2021) : 4652–60. http://dx.doi.org/10.1039/d0tc05646d.
Texte intégralSchwan, J., S. Ulrich, T. Theel, H. Roth, H. Ehrhardt, P. Becker et S. R. P. Silva. « Stress-induced formation of high-density amorphous carbon thin films ». Journal of Applied Physics 82, no 12 (15 décembre 1997) : 6024–30. http://dx.doi.org/10.1063/1.366469.
Texte intégralChristodoulides, J. A., Y. Huang, Y. Zhang, G. C. Hadjipanayis, I. Panagiotopoulos et D. Niarchos. « CoPt and FePt thin films for high density recording media ». Journal of Applied Physics 87, no 9 (mai 2000) : 6938–40. http://dx.doi.org/10.1063/1.372892.
Texte intégralRamzi, A., A. Taoufik, S. Senoussi, A. Tirbiyine et A. Abaragh. « The critical current density in high quality YBaCuO thin films ». Physica A : Statistical Mechanics and its Applications 358, no 1 (décembre 2005) : 119–22. http://dx.doi.org/10.1016/j.physa.2005.06.012.
Texte intégralXu, Xiao-Hong, Hai-Shun Wu, Xiao-Li Li et Fang Wang. « FePt/C granular thin films for high-density magnetic recording ». Materials Chemistry and Physics 90, no 1 (mars 2005) : 95–98. http://dx.doi.org/10.1016/j.matchemphys.2004.10.014.
Texte intégralKaranasos, V., I. Panagiotopoulos, D. Niarchos, H. Okumura et G. C. Hadjipanayis. « CoPt:B granular thin films for high density magnetic recording media ». Journal of Magnetism and Magnetic Materials 236, no 1-2 (octobre 2001) : 234–41. http://dx.doi.org/10.1016/s0304-8853(01)00045-2.
Texte intégralCord, B., W. Maass, J. Schroeder, K. H. Schuller et U. Patz. « Application of magnetic thin films for high-density data storage ». Thin Solid Films 175 (août 1989) : 287–93. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(89)90841-9.
Texte intégralMellbring, O., S. Kihlman Øiseth, A. Krozer, J. Lausmaa et T. Hjertberg. « Spin Coating and Characterization of Thin High-Density Polyethylene Films ». Macromolecules 34, no 21 (octobre 2001) : 7496–503. http://dx.doi.org/10.1021/ma000094x.
Texte intégralLi, J., S. S. Rosenblum, W. Nojima, H. Hayashi et R. Sinclair. « High density recording characteristics of sputtered barium ferrite thin films ». IEEE Transactions on Magnetics 31, no 6 (1995) : 2749–51. http://dx.doi.org/10.1109/20.490139.
Texte intégralLiu, Xiaoxi, Jianmin Bai, Fulin Wei, Zheng Yang, Akimitsu Morisako et Mitsunori Matsumoto. « Partially crystallized BaM thin films for high density magnetic recording ». Materials Science and Engineering : B 65, no 2 (novembre 1999) : 90–93. http://dx.doi.org/10.1016/s0921-5107(99)00185-3.
Texte intégralCole, Amanda, Gregory B. Thompson, J. W. Harrell, J. Weston et Ronald Ott. « High-density plasma-arc heating studies of FePt thin films ». JOM 58, no 6 (juin 2006) : 39–42. http://dx.doi.org/10.1007/s11837-006-0179-5.
Texte intégralChen, L. J., S. L. Cheng, C. H. Yu, P. Y. Su, H. H. Lin et K. S. Chi. « Structural Evolution in Amorphous Silicon and Germanium Thin Films ». Microscopy and Microanalysis 8, no 4 (août 2002) : 268–73. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927602020202.
Texte intégralAbdel-Hamid, H. M., S. M. El-Sayed et R. M. Radwan. « High-field conduction in high-density polyethylene thin films irradiated with electron beams ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 215, no 3-4 (février 2004) : 479–85. http://dx.doi.org/10.1016/j.nimb.2003.10.001.
Texte intégralMalhotra, S. S., Y. Liu, Z. S. Shan, S. H. Liou, D. C. Stafford et D. J. Sellmyer. « Nanocrystalline high coercivity PrCo//Cr thin films : Potential high density magnetic recording media ». Journal of Magnetism and Magnetic Materials 161 (août 1996) : 316–22. http://dx.doi.org/10.1016/s0304-8853(96)00051-0.
Texte intégralPan, Yaru, Xihui Liang, Zhihao Liang, Rihui Yao, Honglong Ning, Jinyao Zhong, Nanhong Chen, Tian Qiu, Xiaoqin Wei et Junbiao Peng. « Application of Solution Method to Prepare High Performance Multicomponent Oxide Thin Films ». Membranes 12, no 7 (22 juin 2022) : 641. http://dx.doi.org/10.3390/membranes12070641.
Texte intégralKamaata, Hiroshi, Makoto Sakai et Kazuei Shikama. « Application of high density Ar plasma for optical thin films coating ». JOURNAL OF THE ILLUMINATING ENGINEERING INSTITUTE OF JAPAN 84, Appendix (2000) : 41. http://dx.doi.org/10.2150/jieij1980.84.appendix_41.
Texte intégralDo-Kyun Kwon et Min Hyuk Lee. « Temperature-stable high-energy-density capacitors using complex perovskite thin films ». IEEE Transactions on Ultrasonics, Ferroelectrics and Frequency Control 59, no 9 (septembre 2012) : 1894–99. http://dx.doi.org/10.1109/tuffc.2012.2403.
Texte intégralHidaka, T., T. Maruyama, I. Sakai, M. Saitoh, L. A. Wills, R. Hiskes, S. A. Dicarolis, Jun Amano et C. M. Foster. « Characteristics of PZT thin films as ultra-high density recording media ». Integrated Ferroelectrics 17, no 1-4 (septembre 1997) : 319–27. http://dx.doi.org/10.1080/10584589708013006.
Texte intégralMua, N. T., C. R. Serrao, Shipra, A. Sundaresan, T. D. Hien et N. K. Man. « High critical current density in Ag-doped Bi-2212 thin films ». Superconductor Science and Technology 21, no 10 (21 juillet 2008) : 105002. http://dx.doi.org/10.1088/0953-2048/21/10/105002.
Texte intégralZhu, X., H. Kotadia, S. Xu, H. Lu, S. H. Mannan, C. Bailey et Y. C. Chan. « Electromigration in Sn–Ag solder thin films under high current density ». Thin Solid Films 565 (août 2014) : 193–201. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2014.06.030.
Texte intégralVlachopoulou, M. E., P. Dimitrakis, A. Tserepi, V. Em Vamvakas, S. Koliopoulou, P. Normand, E. Gogolides et D. Tsoukalas. « High-density plasma silicon oxide thin films grown at room-temperature ». Microelectronic Engineering 85, no 5-6 (mai 2008) : 1245–47. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2008.01.010.
Texte intégralWi, Jae-Hyung, Jong-Chang Woo, Doo-Seung Um, JunSeong Kim et Chang-Il Kim. « Surface properties of etched ITO thin films using high density plasma ». Thin Solid Films 518, no 22 (septembre 2010) : 6228–31. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2010.03.166.
Texte intégralKatayama, Nobuhiro, Xiaoxi Liu et Akimitsu Morisako. « Self-assembled L10 FePt thin films for high-density magnetic recording ». Journal of Magnetism and Magnetic Materials 303, no 2 (août 2006) : e255-e257. http://dx.doi.org/10.1016/j.jmmm.2006.01.054.
Texte intégralHogan, Zach L., Cortney R. Kreller, Kiet A. Tran, Mark W. Hart, Gregory M. Wallraff, Sally A. Swanson, Willi Volksen et al. « Patterned nanoporous poly(methylsilsesquioxane) thin films : a potential high density substrate ». Materials Science and Engineering : C 24, no 4 (juin 2004) : 487–90. http://dx.doi.org/10.1016/j.msec.2003.10.002.
Texte intégralLupton, D. F. « Optimized ITO thin films from ultra-high-density single-phase targets ». Journal of the Society for Information Display 7, no 4 (1999) : 249. http://dx.doi.org/10.1889/1.1985289.
Texte intégralDaineka, D., P. Bulkin, G. Girard, J. E. Bourée et B. Drévillon. « High density plasma enhanced chemical vapor deposition of optical thin films ». European Physical Journal Applied Physics 26, no 1 (4 mars 2004) : 3–9. http://dx.doi.org/10.1051/epjap:2004013.
Texte intégralGlijer, P., J. M. Sivertsen et J. H. Judy. « Advanced multilayer thin films for ultra-high density magnetic recording media ». IEEE Transactions on Magnetics 30, no 6 (1994) : 3957–59. http://dx.doi.org/10.1109/20.333956.
Texte intégralFan, Q., B. McQuillin, A. K. Ray, M. L. Turner et A. B. Seddon. « High density, non-porous anatase titania thin films for device applications ». Journal of Physics D : Applied Physics 33, no 21 (17 octobre 2000) : 2683–86. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/33/21/303.
Texte intégralKondo, Keisuke, Seiya Motoki, Takafumi Hatano, Takahiro Urata, Kazumasa Iida et Hiroshi Ikuta. « NdFeAs(O,H) epitaxial thin films with high critical current density ». Superconductor Science and Technology 33, no 9 (4 août 2020) : 09LT01. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6668/aba353.
Texte intégralTakeda, J., H. Jinnouchi, S. Kurita, Y. F. Chen et T. Yao. « Dynamics of Photoexcited High Density Carriers in ZnO Epitaxial Thin Films ». physica status solidi (b) 229, no 2 (janvier 2002) : 877–80. http://dx.doi.org/10.1002/1521-3951(200201)229:2<877 ::aid-pssb877>3.0.co;2-k.
Texte intégralXu, Y. F., M. L. Yan et D. J. Sellmyer. « FePt Nanocluster Films for High-Density Magnetic Recording ». Journal of Nanoscience and Nanotechnology 7, no 1 (1 janvier 2007) : 206–24. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2007.18016.
Texte intégralMeena, S. P., et R. Ashokkumar. « Effect of different Current density on Properties of Electrodeposited Ni-Co-Cr Thin Films ». Oriental Journal of Chemistry 34, no 4 (31 juillet 2018) : 1884–89. http://dx.doi.org/10.13005/ojc/3404023.
Texte intégralChen, Fei, Jun Yan Wu, Qiang Shen, Julie M. Schoenung et Lian Meng Zhang. « Preparation of ATO Thin Films from SPS-Derived Large Size ATO Ceramic Targets by PVD Methods ». Materials Science Forum 783-786 (mai 2014) : 1973–78. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.783-786.1973.
Texte intégralMcIntyre, P. C., et M. J. Cima. « Microstructural inhomogeneities in chemically derived Ba2YCu3O7−x thin films : Implications for flux pinning ». Journal of Materials Research 9, no 11 (novembre 1994) : 2778–88. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.2778.
Texte intégralWada, Takahiro, Takayuki Negami et Mikihiko Nishitani. « Growth defects in CuInSe2 thin films ». Journal of Materials Research 9, no 3 (mars 1994) : 658–62. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.0658.
Texte intégralSurdu, Andrei E., Hassan H. Hamdeh, I. A. Al-Omari, David J. Sellmyer, Alexei V. Socrovisciuc, Andrei A. Prepelita, Ezgi T. Koparan et al. « Enhancement of the critical current density in FeO-coated MgB2 thin films at high magnetic fields ». Beilstein Journal of Nanotechnology 2 (14 décembre 2011) : 809–13. http://dx.doi.org/10.3762/bjnano.2.89.
Texte intégralBailey, A., C. Alvarez, T. Puzzer, DN Matthews, K. Sealey, CJ Russell et KNR Taylor. « Fabrication of Superconducting YBCO Thin Films on YSZ Substrates ». Australian Journal of Physics 43, no 3 (1990) : 347. http://dx.doi.org/10.1071/ph900347.
Texte intégralMichelazzi, Marco, et Davide Fabiani. « Electrical Conduction in Thin-Film Polypropylene Capacitors ». Energies 16, no 18 (15 septembre 2023) : 6631. http://dx.doi.org/10.3390/en16186631.
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