Articles de revues sur le sujet « H Thin Films »
Créez une référence correcte selon les styles APA, MLA, Chicago, Harvard et plusieurs autres
Consultez les 50 meilleurs articles de revues pour votre recherche sur le sujet « H Thin Films ».
À côté de chaque source dans la liste de références il y a un bouton « Ajouter à la bibliographie ». Cliquez sur ce bouton, et nous générerons automatiquement la référence bibliographique pour la source choisie selon votre style de citation préféré : APA, MLA, Harvard, Vancouver, Chicago, etc.
Vous pouvez aussi télécharger le texte intégral de la publication scolaire au format pdf et consulter son résumé en ligne lorsque ces informations sont inclues dans les métadonnées.
Parcourez les articles de revues sur diverses disciplines et organisez correctement votre bibliographie.
Baldi, A., V. Palmisano, M. Gonzalez-Silveira, Y. Pivak, M. Slaman, H. Schreuders, B. Dam et R. Griessen. « Quasifree Mg–H thin films ». Applied Physics Letters 95, no 7 (17 août 2009) : 071903. http://dx.doi.org/10.1063/1.3210791.
Texte intégralKrist, Th, M. Brière et L. Cser. « H in Ti thin films ». Thin Solid Films 228, no 1-2 (mai 1993) : 141–44. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(93)90583-b.
Texte intégralBurlaka, Vladimir, Kai Nörthemann et Astrid Pundt. « Nb-H Thin Films : On Phase Transformation Kinetics ». Defect and Diffusion Forum 371 (février 2017) : 160–65. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ddf.371.160.
Texte intégralBorisov, A. G., et H. Winter. « Formation of H− on thin aluminum films ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 115, no 1-4 (juillet 1996) : 142–45. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(96)01518-2.
Texte intégralGlesener, J. W., J. M. Anthony et A. Cunningham. « Photoluminescence investigation of a-C : H thin films ». Diamond and Related Materials 2, no 5-7 (avril 1993) : 670–72. http://dx.doi.org/10.1016/0925-9635(93)90201-c.
Texte intégralMahdjoubi, L., N. Hadj-Zoubir et M. Benmalek. « Photoelectrical properties of H+ implanted CdS thin films ». Thin Solid Films 156, no 2 (janvier 1988) : L21—L26. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(88)90332-x.
Texte intégralEbel, M. F., H. Ebel, M. Mantler, J. Wernisch, R. Svagera, M. Gazicki, F. Olcaytug, J. Schalko, F. Kohl et A. Jachimowicz. « X-ray analysis of thin GexCyOz : H films ». X-Ray Spectrometry 21, no 3 (mai 1992) : 137–42. http://dx.doi.org/10.1002/xrs.1300210308.
Texte intégralZhou, Rui, Zhaoyang Zhao, Juanxia Wu et Liming Xie. « Chemical Vapor Deposition of IrTe2 Thin Films ». Crystals 10, no 7 (3 juillet 2020) : 575. http://dx.doi.org/10.3390/cryst10070575.
Texte intégralChen, Yuan-Tsung. « Nanoindentation and Adhesion Properties of Ta Thin Films ». Journal of Nanomaterials 2013 (2013) : 1–7. http://dx.doi.org/10.1155/2013/154179.
Texte intégralMisra, A., H. Kung, T. E. Mitchell et M. Nastasi. « Residual stresses in polycrystalline Cu/Cr multilayered thin films ». Journal of Materials Research 15, no 3 (mars 2000) : 756–63. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2000.0109.
Texte intégralWu, H. Z., T. C. Chou, A. Mishra, D. R. Anderson, J. K. Lampert et S. C. Gujrathi. « Characterization of titanium nitride thin films ». Thin Solid Films 191, no 1 (octobre 1990) : 55–67. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(90)90274-h.
Texte intégralXiaoli, Xiang, Hou Lisong et Gan Fuxi. « Sol-gel derived BaTiO3 thin films ». Vacuum 42, no 16 (1991) : 1057–58. http://dx.doi.org/10.1016/0042-207x(91)91324-h.
Texte intégralVretenar, Petar. « Mechanical stresses in oxide thin films ». Vacuum 43, no 5-7 (mai 1992) : 727–29. http://dx.doi.org/10.1016/0042-207x(92)90119-h.
Texte intégralFaria, I. C., R. Torresi et A. Gorenstein. « Electrochemical intercalation in NiOx thin films ». Electrochimica Acta 38, no 18 (décembre 1993) : 2765–71. http://dx.doi.org/10.1016/0013-4686(93)85096-h.
Texte intégralHASANAIN, S. K., et UZMA KHALIQUE. « FLUX DYNAMICS IN YBCO THIN FILMS ». Modern Physics Letters B 14, no 27n28 (10 décembre 2000) : 949–59. http://dx.doi.org/10.1142/s0217984900001099.
Texte intégralWang, Xiao-Dong, K. W. Hipps, J. T. Dickinso et Ursula Mazur. « Amorphous or nanocrystalline AlN thin films formed from AlN : H ». Journal of Materials Research 9, no 6 (juin 1994) : 1449–55. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.1449.
Texte intégralSong, Lin, Volker Körstgens, David Magerl, Bo Su, Thomas Fröschl, Nicola Hüsing, Sigrid Bernstorff et Peter Müller-Buschbaum. « Low-Temperature Fabrication of Mesoporous Titania Thin Films ». MRS Advances 2, no 43 (2017) : 2315–25. http://dx.doi.org/10.1557/adv.2017.406.
Texte intégralWang, Sheng Zhao, Ying Peng Yin, Chun Juan Nan et Ming Ji Shi. « Influence of Substrate on μc-Si : H Thin Films ». Key Engineering Materials 538 (janvier 2013) : 169–72. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.538.169.
Texte intégralHan, Hyeon, Donghoon Kim, Sangmin Chae, Jucheol Park, Sang Yeol Nam, Mingi Choi, Kijung Yong, Hyo Jung Kim, Junwoo Son et Hyun Myung Jang. « Switchable ferroelectric photovoltaic effects in epitaxial h-RFeO3 thin films ». Nanoscale 10, no 27 (2018) : 13261–69. http://dx.doi.org/10.1039/c7nr08666k.
Texte intégralScarminio, J., W. Estrada, A. Andersson, A. Gorenstein et F. Decker. « H Insertion and Electrochromism in NiO x Thin Films ». Journal of The Electrochemical Society 139, no 5 (1 mai 1992) : 1236–39. http://dx.doi.org/10.1149/1.2069389.
Texte intégralBorsa, D. M., A. Baldi, M. Pasturel, H. Schreuders, B. Dam, R. Griessen, P. Vermeulen et P. H. L. Notten. « Mg–Ti–H thin films for smart solar collectors ». Applied Physics Letters 88, no 24 (12 juin 2006) : 241910. http://dx.doi.org/10.1063/1.2212287.
Texte intégralHawley, M. E., G. W. Brown, P. C. Yashar et C. Kwon. « H-dependent magnetic domain structures in La0.67Sr0.33MnO3 thin films ». Journal of Crystal Growth 211, no 1-4 (avril 2000) : 86–92. http://dx.doi.org/10.1016/s0022-0248(99)00849-0.
Texte intégralBao, Shanhu, Yasusei Yamada, Kazuki Tajima, Ping Jin, Masahisa Okada et Kazuki Yoshimura. « Switchable mirror based on Mg–Zr–H thin films ». Journal of Alloys and Compounds 513 (février 2012) : 495–98. http://dx.doi.org/10.1016/j.jallcom.2011.10.098.
Texte intégralBaldi, A., D. M. Borsa, H. Schreuders, J. H. Rector, T. Atmakidis, M. Bakker, H. A. Zondag, W. G. J. van Helden, B. Dam et R. Griessen. « Mg–Ti–H thin films as switchable solar absorbers ». International Journal of Hydrogen Energy 33, no 12 (juin 2008) : 3188–92. http://dx.doi.org/10.1016/j.ijhydene.2008.01.026.
Texte intégralHerrero, J., et M. T. Gutiérrez. « Photoelectrochemical measurements of amorphous silicon thin films ». Electrochimica Acta 36, no 5-6 (janvier 1991) : 915–20. http://dx.doi.org/10.1016/0013-4686(91)85294-h.
Texte intégralRobinet, S., M. Salvi et C. Clarisse. « Ionic implantation in scandium diphthalocyanine thin films ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 53, no 1 (janvier 1991) : 46–52. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(91)95443-h.
Texte intégralGibson, U. J. « Low energy ion modification of thin films ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 74, no 1-2 (avril 1993) : 322–25. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(93)95069-h.
Texte intégralWingert, D., et D. Stauffer. « Monte Carlo simulation of thin Ising films ». Physica A : Statistical Mechanics and its Applications 219, no 1-2 (septembre 1995) : 135–40. http://dx.doi.org/10.1016/0378-4371(95)00199-h.
Texte intégralDhumure, S. S., et C. D. Lokhande. « Solution growth of silver sulphide thin films ». Materials Chemistry and Physics 27, no 3 (mars 1991) : 321–24. http://dx.doi.org/10.1016/0254-0584(91)90128-h.
Texte intégralRosaiah, P., et O. M. Hussain. « Microstructural and Electrochemical Properties of rf-Sputtered LiFeO2 Thin Films ». Journal of Nanoscience 2014 (13 mars 2014) : 1–6. http://dx.doi.org/10.1155/2014/173845.
Texte intégralHu, Chih-Wei, Yasusei Yamada et Kazuki Yoshimura. « Fabrication of nickel oxyhydroxide/palladium (NiOOH/Pd) thin films for gasochromic application ». Journal of Materials Chemistry C 4, no 23 (2016) : 5390–97. http://dx.doi.org/10.1039/c6tc01541g.
Texte intégralHellgren, Niklas, Nian Lin, Esteban Broitman, Virginie Serin, Stefano E. Grillo, Ray Twesten, Ivan Petrov, Christian Colliex, Lars Hultman et Jan-Eric Sundgren. « Thermal stability of carbon nitride thin films ». Journal of Materials Research 16, no 11 (novembre 2001) : 3188–201. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2001.0440.
Texte intégralMiceli, P. F., H. Zabel, J. A. Dura et C. P. Flynn. « Anomalous lattice expansion of metal-hydrogen thin films ». Journal of Materials Research 6, no 5 (mai 1991) : 964–68. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1991.0964.
Texte intégralJäger, S., K. Bewilogua et C. P. Klages. « Infrared spectroscopic investigations on h-BN and mixed h/c-BN thin films ». Thin Solid Films 245, no 1-2 (juin 1994) : 50–54. http://dx.doi.org/10.1016/0040-6090(94)90876-1.
Texte intégralMohammed Al-Ansari, Ramiz A. « The effect of annealing temperatures on the optical parameters of NiO0.99Cu0.01 thin films ». Iraqi Journal of Physics (IJP) 14, no 29 (3 février 2019) : 73–81. http://dx.doi.org/10.30723/ijp.v14i29.223.
Texte intégralKITA, R., Y. MATSU, Y. MASUDA et S. YANO. « STABILIZATION AGAINST RESISTANCE DEGRADATION OF SrTiO3 THIN FILMS BY Er DOPING ». Modern Physics Letters B 13, no 27 (20 novembre 1999) : 983–89. http://dx.doi.org/10.1142/s0217984999001202.
Texte intégralYoon, Dae Sung, Chang Jung Kim, Joon Sung Lee, Won Jong Lee et Kwangsoo No. « Epitaxial growth of sol-gel PLZT thin films ». Journal of Materials Research 9, no 2 (février 1994) : 420–25. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.0420.
Texte intégralPrado, R. J., D. R. S. Bittencourt, M. H. Tabacniks, M. C. A. Fantini, M. N. P. Carreño et I. Pereyra. « Distribution of Pores in a-Si1−x C x :H Thin Films ». Journal of Applied Crystallography 30, no 5 (1 octobre 1997) : 659–63. http://dx.doi.org/10.1107/s0021889897001349.
Texte intégralRogers, Bridget R., Zhe Song, Robert D. Geil et Robert A. Weller. « Optimization of UHV-CVD Thin Films for Gate Dielectric Applications ». Advances in Science and Technology 45 (octobre 2006) : 1351–54. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ast.45.1351.
Texte intégralAdmon, U., M. P. Dariel, E. Grünbaum et G. Kimmel. « Defect structure in Co-W thin films ». Proceedings, annual meeting, Electron Microscopy Society of America 44 (août 1986) : 822–23. http://dx.doi.org/10.1017/s0424820100145455.
Texte intégralNikam, S. M., A. Sharma, M. Rahaman, A. M. Teli, S. H. Mujawar, D. R. T. Zahn, P. S. Patil, S. C. Sahoo, G. Salvan et P. B. Patil. « Pulsed laser deposited CoFe2O4 thin films as supercapacitor electrodes ». RSC Advances 10, no 33 (2020) : 19353–59. http://dx.doi.org/10.1039/d0ra02564j.
Texte intégralEl Khakani, M. A., M. Chaker, A. Jean, S. Boily, J. C. Kieffer, M. E. O'Hern, M. F. Ravet et F. Rousseaux. « Hardness and Young's modulus of amorphous a-SiC thin films determined by nanoindentation and bulge tests ». Journal of Materials Research 9, no 1 (janvier 1994) : 96–103. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.0096.
Texte intégralAl-Douri, A. A. J., M. F. A. Alias, A. A. Alnajjar et M. N. Makadsi. « Electrical and Optical Properties of :H Thin Films Prepared by Thermal Evaporation Method ». Advances in Condensed Matter Physics 2010 (2010) : 1–8. http://dx.doi.org/10.1155/2010/428739.
Texte intégralDavis, C. A., D. R. McKenzie et R. C. McPhedran. « Optical properties and microstructure of thin silver films ». Optics Communications 85, no 1 (août 1991) : 70–82. http://dx.doi.org/10.1016/0030-4018(91)90054-h.
Texte intégralDam, B., G. M. Stollman, J. van Bentum, P. Berghuis et P. H. Kes. « Resistive states in thin films of Y2Ba4Cu8O16−δ ». Physica C : Superconductivity 167, no 3-4 (mai 1990) : 348–58. http://dx.doi.org/10.1016/0921-4534(90)90354-h.
Texte intégralSchneider, J., T. Göddenhenrich, U. Krüger et R. Wördenweber. « Preparation and characterization of thin epitaxial YBa2Cu3Oy-films ». Physica C : Superconductivity 185-189 (décembre 1991) : 1933–34. http://dx.doi.org/10.1016/0921-4534(91)91091-h.
Texte intégralHübler, R., S. R. Teixeira, W. H. Schreiner et I. J. R. Baumvol. « IBAD growing of magnetic iron nitride thin films ». Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B : Beam Interactions with Materials and Atoms 80-81 (janvier 1993) : 1392–96. http://dx.doi.org/10.1016/0168-583x(93)90806-h.
Texte intégralPowalla, M., et K. Herz. « Co-evaporated thin films of semiconducting β-FeSi2 ». Applied Surface Science 65-66 (mars 1993) : 482–88. http://dx.doi.org/10.1016/0169-4332(93)90706-h.
Texte intégralEvans, Ryan D., Gary L. Doll et Jeffrey T. Glass. « Relationships between the thermal stability, friction, and wear properties of reactively sputtered Si–aC:H thin films ». Journal of Materials Research 17, no 11 (novembre 2002) : 2888–96. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2002.0419.
Texte intégralCho, Jaewon, et Seuk Joo Rhee. « PL Study on ZnO Thin Films After H-plasma Treatment ». Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 28, no 1 (1 janvier 2015) : 17–20. http://dx.doi.org/10.4313/jkem.2015.28.1.17.
Texte intégral