Littérature scientifique sur le sujet « Films de silice »
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Articles de revues sur le sujet "Films de silice"
Bouchard, H., A. Azelmad, J. F. Currie et M. Meunier. « Variation de la contrainte des verres de silice sous cycle thermique ». Canadian Journal of Physics 70, no 10-11 (1 octobre 1992) : 830–33. http://dx.doi.org/10.1139/p92-131.
Texte intégralBahlawane, N., M. Charbonnier et M. Romand. « Apport des techniques XRFS et LEEIXS à l'étude de la formation de films de silice sur acier par PACVD ». Le Journal de Physique IV 08, PR5 (octobre 1998) : Pr5–271—Pr5–278. http://dx.doi.org/10.1051/jp4:1998534.
Texte intégralBalan, Poovarasi, Aaron Ng, Chee Beng Siang, R. K. Singh Raman et Eng Seng Chan. « Effect of Nanoparticle Addition in Hybrid Sol-Gel Silane Coating on Corrosion Resistance of Low Carbon Steel ». Advanced Materials Research 686 (avril 2013) : 244–49. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.686.244.
Texte intégralPark, Hoy Yul, Dong Pil Kang, In Hye Myung et Seog Young Yoon. « Properties of Coating Films Synthesized from Nano Colloidal Silica and Alkoxy Silanes ». Materials Science Forum 510-511 (mars 2006) : 222–25. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.510-511.222.
Texte intégralTao, Yao, Feng Zheng, Zhao Chen, Shuangshuang Chen, Xuemin Lu et Qinghua Lu. « Comparison of hybrid polyimide films with silica and organosilica obtained via sol–gel process ». High Performance Polymers 29, no 9 (14 septembre 2016) : 1049–57. http://dx.doi.org/10.1177/0954008316668242.
Texte intégralJiang, Pei-Cheng, Yu-Ting Chow, Chi-Wei Chien, Cheng-Hsun-Tony Chang et Chii-Ruey Lin. « Silica Layer Used in Sensor Fabrication from a Low-Temperature Silane-Free Procedure ». Chemosensors 9, no 2 (4 février 2021) : 32. http://dx.doi.org/10.3390/chemosensors9020032.
Texte intégralZhou, Yingyu, et Hongling Chen. « Robust Super-Repellent Anisotropic Silica Films by Emulsion-Based Sol–Gel Growth ». Nano 13, no 01 (janvier 2018) : 1850005. http://dx.doi.org/10.1142/s1793292018500054.
Texte intégralNa, Moon Kyong, Dong Pil Kang, Hoy Yul Park, Myeong Sang Ahn et In Hye Myung. « Properties of Nano-Hybrid Sol-Gel Materials Synthesized from Colloidal Silica-Silane Containing Epoxy Silane ». Key Engineering Materials 336-338 (avril 2007) : 2278–81. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.336-338.2278.
Texte intégralMahdi, Billal, et Farid Rouabah. « Effect of Titanium Dioxide Nanoparticles on the Properties of Poly(Vinyl Alcohol)/Silica Hybrid Films Prepared by the Sol-Gel Method ». Nano Hybrids and Composites 38 (3 février 2023) : 63–79. http://dx.doi.org/10.4028/p-381bv9.
Texte intégralKurniasih, Yeti, Hasan Basri et Baiq Asma Nufida. « The Effect of Type and Concentration of Receiving Phase on Silver Separation Efficiency by Supported Liquid Membrane Technique ». Jurnal Ilmiah Mandala Education 10, no 1 (4 janvier 2024) : 53. http://dx.doi.org/10.58258/jime.v10i1.6504.
Texte intégralThèses sur le sujet "Films de silice"
Basnig, Deomila. « Élaboration de films minces de silice pour des applications en chimie analytique ». Electronic Thesis or Diss., Université de Lorraine, 2021. http://www.theses.fr/2021LORR0102.
Texte intégralOriented mesoporous silica-based film on FTO electrode was prepared via electrochemically-assisted self-assembly approach (EASA). A potential of -1.5V was applied to the FTO electrode containing a prehydrolyzed silica precursor, (e.g. tetraethyl orthosilicate), in the presence of a template (e.g. cetrimonium bromide) and electrolyte. This approach could generate vertically-aligned silica nanochannels with pore sizes adjustable between 2 and 3 nm, depending on the template. This work showed the voltammetric behavior and the selectivity of the mesoporous silica film towards various positively-charged cations of different nature, size, and charge. Results showed an accumulation and selectivity favoring the least positive charged ion: MB⁺ > PQ²⁺ > DQ²⁺ > Ru(bpy)₃²⁺ > Ru(NH₃)₆³⁺. The enhancement of the voltammetric signals relative to the bare FTO electrode was strongly dependent on the probe type. The accumulation of the different redox probe is attributed to the due to the vertical orientation of the nanochannel favoring fast transport and diffusion unto the electrode surface. Further electrochemical characterization showed an interplay of the suface-controlled and diffusion-controlled process, wherein adsorbed species is more prominent in diluted media. Results showed that changing the debye length and electrokinetic radius of the silica nanochannel due to the ionic strength or nanochannel diameter also affects the transport and electrochemical detection of the paraquat analyte. Mesoporous silica films having different pore size, prepared using different alkyl ammonium bromide as template, yield different sensitivities, which could be due to the difference in electrochemical charge of the silica surface, as well as the distribution of ions in the nanochannel. Finally, an attempt to modify the surface of silica wall using zirconia was also made to study the transport of cations, which could pave a way for an improved stability of the mesoporous film
Wora, Adeola Ganye Vergnat Michel Rinnert Hervé. « Propriétés de luminescence de films d'oxyde de silcium dopés à l'erbium ». S. l. : S. n, 2007.
Trouver le texte intégralCABOT, BENJAMIN. « Etudes pour l'elaboration par electrophorese de films anticorrosion a base de silice ». Besançon, 1997. http://www.theses.fr/1997BESA2055.
Texte intégralSikolenko, Taisiia. « Films minces de silice mésoporeuse électrogénérée : contrôle de l’épaisseur et applications analytiques ». Electronic Thesis or Diss., Université de Lorraine, 2020. http://www.theses.fr/2020LORR0242.
Texte intégralThe combination of rich surface chemistry of silica and ordered perpendicularly-standing hexagonal mesostructure of films generated by EASA makes this material a perfect choice for use as the electrode coatings. In this light, improvement of film design is a constant challenge in order to benefit from porous layer and to increase the efficiency of electrochemical sensors. The first part of project was centred around the optimisation of the film thickness towards the thinnest with preservation of the beneficial hexagonal structure. The mesoporous silica film (MSF) thickness is a parameter that can affect the mass transport through the silica coating to the electrode specifically because of the reactivity of surface silanol groups. Thinning of the MSF can facilitate the diffusion of species, while keeping the presence of the beneficial silica layer can increase the electrochemical response, hence, the sensitivity of analysis. Two approaches were used in order to decrease thickness. The first was a study of the effect of the deposition time during the modification of the electrode (EASA process). The second one was the wet etching of film after its deposition. The thinnest uniform MSFs, which can be generated on indium tin oxide (ITO) surface, require minimum 10 seconds deposition with an applied potential equal to -1.3 V and a 100 mM silane-containing sol. This gave rise to 80 ± 9 nm coating. Post-synthesis etching with the soft fluoride solution of ammonium fluoride, NH4F, allowed to control the decrease of the MSF thickness. By keeping the surfactant inside the silica pores, template agent for the synthesis, the kinetic of the etching reaction was faster, but with a more homogeneous dissolution. It was possible to obtain the thinnest ordered MSF in comparison with an etching procedure conducted on MSF after the extraction of the template. The profilometry determined thickness of well-structured film with vertical pore orientation was respectively of 28 ± 9 nm for the templated silica films and 57 ± 11 nm for films without surfactant inside their pores. In the second part of the study, MSFs were applied to modify ITO electrodes for the development of electrochemiluminescence platform for detection of amine-containing herbicide glyphosate using co-reactant system with Ru(bpy)₃²⁺. Comparison between physical and chemical immobilisation of the organometallic agent was studied. Covalent functionalisation was achievable due to introduction of azide functions on co-condensation step with their further coupling with propargyl-functionalised derivative of Ru(bpy)₃²⁺ complex by Huisgen 1,3-cycloaddition reaction. The effect of the herbicide addition was investigated using electrodes with immobilised by two approaches Ru(bpy)₃²⁺ complex as well as in solution of Ru(bpy)₃²⁺, operating bare ITO electrode and ITO electrode covered with unmodified MSF. The evolution of electrochemical signal was used to conclude on the possibility to detect glyphosate
Motos, Blanca. « Silices fonctionnalisées contenant des espèces ioniques pour la catalyse hétérogène ». Thesis, Montpellier, Ecole nationale supérieure de chimie, 2011. http://www.theses.fr/2011ENCM0015.
Texte intégralHeterogenous catalysis is an area in continuous development due to economical, health and environmental issues. This thesis deals with the preparation of i-silica materials for the posterior application in heterogeneous catalysis. First, di-aryl imidazolium containing silica materials were synthesized by post-grafting reactions on mesoporous SBA-15. Moreover, di-alkyl imidazolium containing PMO films were prepared in presence of an anionic surfactant. Then, supported copper and palladium N-heterocyclic carbenes were synthesized from di-aryl imidazolium silica and applied to A3 reactions (Cu-NHC) and Suzuki cross-coupling reactions (Pd-NHC). Imidazolium functionalized silicas were also utilized as heterogeneous organocatalysts in Henry reactions and in reactions of cycloaddition of carbon dioxide to epoxides. Finally, PMO type materials containing amine/ammonium and zwitterionic substructures were applied to Henry and Biginelli organocatalysed reactions, respectively
JIANG, NAN. « Etude de films minces de silice deposes a basse temperature par pecvd rcer ». Paris 11, 1993. http://www.theses.fr/1993PA112340.
Texte intégralCagnol, Florence. « Films minces mesostructures minéraux ou hybrides à base de silice : élaboration, caractérisation, mécanismes ». Paris 6, 2004. http://www.theses.fr/2004PA066443.
Texte intégralSibottier, Emilie Walcarius Alain. « Génération électro-assistée de films à base de silice fonctionnalisation, mésostructuration et applications analytiques / ». S. l. : S. n, 2007. http://www.scd.uhp-nancy.fr/docnum/SCD_T_2007_0101_SIBOTTIER.pdf.
Texte intégralDourdain, Sandrine. « Caractérisation structurale, poreuse et mécanique de films minces de silice mésoporeuse.Influence de la fonctionnalisation ». Phd thesis, Université du Maine, 2006. http://tel.archives-ouvertes.fr/tel-00201895.
Texte intégralLes paramètres pertinents influençant la structuration des films minces ont été appréhendés. En particulier, des études in situ par réflectivité des rayons X et par Diffusion en incidence rasante des rayons X (Grazing Incidence Small Angle X-ray Scattering, GISAXS), ont permis de mettre en évidence le rôle prédominant de l'humidité relative. Des protocoles d'extraction par rinçage à l'éthanol ont été établis pour dégager efficacement les structures mésoporeuses sans les écraser.
Une méthode d'analyse de la porosité des films minces a ensuite été développée. Cette méthode est basée sur l'analyse quantitative des courbes de réflectivité par la méthode matricielle. Complémentée par l'analyse des clichés GISAXS, elle nous a permis de déterminer sur couche mince non seulement la porosité, la taille des pores et des murs mais aussi la surface spécifique et la distorsion des pores.
Les pores de ces films mésoporeux ont une dimension idéale pour y parfaire l'étude de la condensation capillaire de l'eau. Quand l'eau pénètre dans les pores, le contraste de densité électronique décroît fortement. Ainsi, les techniques de diffusion des rayons X (réflectivité et GISAXS) permettent de suivre les isothermes de condensation et de désorption de l'eau dans les pores. La distribution de taille des pores peut alors être obtenue. Les isothermes d'adsorption d'eau ont permis également d'estimer la porosité, mais aussi d'appréhender par le biais de l'équation de Laplace, les propriétés mécaniques des films en accédant à leur module d'Young.
Finalement nous avons conclu cette thèse par l'étude de la fonctionnalisation des films par divers groupements fonctionnels localisés à la surface des mésopores, dans l'optique de modifier leur hydrophilicité ou leur réactivité chimique.
Sibottier, Emilie. « Génération électro-assistée de films à base de silice : fonctionnalisation, mésostructuration et applications analytiques ». Thesis, Nancy 1, 2007. http://www.theses.fr/2007NAN10101/document.
Texte intégralThe study deals with various aspects of a novel method of sol-gel synthesis : the electro-assisted generation of functionalized and/or mesostructured silica thin films, and their applications in analytical electrochemistry. Sol-gel-derived silica films functionnalized with amine or thiol groups have been electrogenerated on gold electrodes. The formation of a partial self-assembled monolayer of mercaptopropyltrimethoxysilane (MPTMS) on gold led to a silica film adhering well to the electrode surface owing to the MPTMS acting as a « molecular glue ». The whole process was characterized by two successive distinct rates, starting by a slow deposition stage leading to thin deposits, which was followed by a much faster film growing in the form of macroporous coatings. The use of these modified electrodes was considered as a voltammetric sensor for copper(II). By adding a surfactant in the synthesis medium, it’s possible to electrogenerate mesostructured silica films with hexagonal structure with pore channels oriented perpendiculary to the substrate (which is difficult to get by other methods). The electrochemically-induced-self-assembly of surfactant-templated silica thin films can be applied to various conducting supports. The broad interest of the novel method was demonstrated by its ability to produce homogeneous deposits of silica on non-planar surfaces or heterogeneous substrates, what is difficult by the traditional techniques of film deposition. Finally, a preliminary approach has been proposed in order to apply the electrodeposition process coupled with a scanning electrochemical microscope in order to get localized sol-gel deposits at the micrometric size level on gold
Livres sur le sujet "Films de silice"
Symposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Emerging Dielectrics (9th 2007 Chicago, Ill.). Silicon nitride, silicon dioxide, and emerging dielectrics 9. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division. et Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J : Electrochemical Society, 2007.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride, Silicon Dioxide Thin Insulating Films, and Emerging Dielectrics (9th 2007 Chicago, Ill.). Silicon nitride, silicon dioxide, and emerging dielectrics 9. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division. et Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J : Electrochemical Society, 2007.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (8th 2005 Québec, Québec). Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging diele[c]trics VIII : Proceedings of the international symposium. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division et Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J : Electrochemical Society, 2005.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (8th 2005 Québec, Québec). Silicon nitride, silicon dioxide thin insulating films, and other emerging diele[c]trics VIII : Proceedings of the international symposium. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division et Electrochemical Society Meeting. Pennington, N.J : Electrochemical Society, 2005.
Trouver le texte intégralB, Bergmann Ralf, et Research Signpost (Trivandrum India), dir. Growth, characterization, and electronic applications of si-based thin films. Trivandrum : Research Signpost, 2002.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (5th 1999 Seattle, Wash.). Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films : Proceedings of the fifth international symposium. Pennington, NJ (10 S. Main St., Pennington 08534-2696 : Electrochemical Society), 1999.
Trouver le texte intégralSymposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films (7th 2003 Paris, France). Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films VII : Proceedings of the international symposium. Sous la direction de Sah R. E, Electrochemical Society. Dielectric Science and Technology Division., Electrochemical Society Electronics Division et Electrochemical Society Meeting. Pennington, NJ : Electrochemical Society, 2003.
Trouver le texte intégralInnocenzi, Plinio. Mesoporous Ordered Silica Films. Cham : Springer International Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-030-89536-5.
Texte intégralP, Jennings J., et Hefter G. T, dir. Amorphous silicon thin films and devices : Results of research carried out as MERIWA Project No. E161 in the School of Mathematical and Physical Sciences, Murdoch University. East Perth, WA : Minerals and Energy Research Institute of Western Australia, 1993.
Trouver le texte intégralNarayanan, V., et Martin M. Frank. Thin films on silicon. Singapore : World Scientific Publishing Co. Pte. Ltd, 2016.
Trouver le texte intégralChapitres de livres sur le sujet "Films de silice"
Eisele, I., J. Schulze et E. Kasper. « Films by Molecular-Beam Epitaxy ». Dans Silicon, 95–122. Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg, 2004. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-662-09897-4_6.
Texte intégralGonçalves, M. Clara, et George S. Attard. « Nanostructured Mesoporous Silica Films ». Dans Nanostructured Materials and Coatings for Biomedical and Sensor Applications, 159–68. Dordrecht : Springer Netherlands, 2003. http://dx.doi.org/10.1007/978-94-010-0157-1_16.
Texte intégralKrimmel, Eberhard F., Rudolf Hezel, Uwe Nohl et Rainer Bohrer. « Insulating Silicon Nitride Films ». Dans Si Silicon, 72–76. Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg, 1991. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-662-09901-8_4.
Texte intégralSlaoui, A., et P. Siffert. « Polycrystalline Silicon Films for Electronic Devices ». Dans Silicon, 49–72. Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg, 2004. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-662-09897-4_4.
Texte intégralAli, Atif Mossad, et Takao Inokuma. « Nanocrystalline silicon thin films ». Dans Silicon Nanomaterials Sourcebook, 97–106. Boca Raton, FL : CRC Press, Taylor & Francis Group, [2017] | Series : Series in materials science and engineering : CRC Press, 2017. http://dx.doi.org/10.4324/9781315153544-5.
Texte intégralAbedrabbo, S., B. Lahlouh, S. Shet, A. T. Fiory et N. M. Ravindra. « Spin-Coated Erbium-Doped Silica Sol-Gel Films on Silicon ». Dans Supplemental Proceedings, 677–84. Hoboken, NJ, USA : John Wiley & Sons, Inc., 2012. http://dx.doi.org/10.1002/9781118356074.ch86.
Texte intégralShaikhutdinov, Shamil. « Water Adsorption on Silica Films ». Dans Introduction to Ultrathin Silica Films Silicatene and Others, 271–91. New York : Jenny Stanford Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1201/9781003088622-8.
Texte intégralShaikhutdinov, Shamil. « Ultrathin Silica Films on Metals ». Dans Introduction to Ultrathin Silica Films Silicatene and Others, 107–65. New York : Jenny Stanford Publishing, 2022. http://dx.doi.org/10.1201/9781003088622-4.
Texte intégralMorita, Mizuho. « Native Oxide Films and Chemical Oxide Films ». Dans Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers, 543–58. Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg, 1998. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-662-03535-1_42.
Texte intégralKrimmel, Eberhard F., Rudolf Hezel, Uwe Nohl et Rainer Bohrer. « Specific Applications of Silicon Nitride Films ». Dans Si Silicon, 316–20. Berlin, Heidelberg : Springer Berlin Heidelberg, 1991. http://dx.doi.org/10.1007/978-3-662-09901-8_31.
Texte intégralActes de conférences sur le sujet "Films de silice"
Poulsen, Christian V., Mikael Svalgaard et Ove Poulsen. « Photosensitivity in germania-doped silica films ». Dans The European Conference on Lasers and Electro-Optics. Washington, D.C. : Optica Publishing Group, 1994. http://dx.doi.org/10.1364/cleo_europe.1994.cmm5.
Texte intégralCoquil, Thomas, Neal Hutchinson, Laurent Pilon, Erik Richman et Sarah Tolbert. « Thermal Conductivity of Cubic and Hexagonal Mesoporous Silica Thin Films ». Dans ASME 2009 Heat Transfer Summer Conference collocated with the InterPACK09 and 3rd Energy Sustainability Conferences. ASMEDC, 2009. http://dx.doi.org/10.1115/ht2009-88256.
Texte intégralFang, Jin, Laurent Pilon, Chris B. Kang et Sarah H. Tolbert. « Thermal Conductivity of Ordered Mesoporous Silicon Thin Films Made From Magnesium Reduction of Polymer Templated Silica ». Dans ASME 2011 International Mechanical Engineering Congress and Exposition. ASMEDC, 2011. http://dx.doi.org/10.1115/imece2011-64784.
Texte intégralHur, Soojung C., Laurent Pilon, Adam Christensen et Samuel Graham. « Thermal Conductivity of Cubic Mesoporous Silica Thin Films ». Dans ASME 2007 International Mechanical Engineering Congress and Exposition. ASMEDC, 2007. http://dx.doi.org/10.1115/imece2007-43016.
Texte intégralDahle, Sebastian, Lienhard Wegewitz, Fei Qi, Alfred P. Weber et Wolfgang Maus-Friedrichs. « Silicon dioxide coating of titanium dioxide nano particles from dielectric barrier discharge in a gaseous mixture of silan and nitrogen ». Dans 13th International Conference on Plasma Surface Engineering September 10 - 14, 2012, in Garmisch-Partenkirchen, Germany. Linköping University Electronic Press, 2013. http://dx.doi.org/10.3384/wcc2.116-117.
Texte intégralCao, Zhiqiang, Tong-Yi Zhang et Xin Zhang. « A Nanoindentation-Based Microbridge Testing Method for Mechanical Characterization of Thin Films for MEMS Applications ». Dans ASME 2005 International Mechanical Engineering Congress and Exposition. ASMEDC, 2005. http://dx.doi.org/10.1115/imece2005-80288.
Texte intégralAllen, Thomas H. « Optical materials deposited using ion beam sputtering ». Dans OSA Annual Meeting. Washington, D.C. : Optica Publishing Group, 1985. http://dx.doi.org/10.1364/oam.1985.fl4.
Texte intégralKobavashi, Junva, Tohru Maruno, Yasuhiro Hida, Tohru Matsuura et Shigekuni Sasaki. « Thermooptic switches using fluorinated polyimide waveguides ». Dans Organic Thin Films for Photonic Applications. Washington, D.C. : Optica Publishing Group, 1997. http://dx.doi.org/10.1364/otfa.1997.fa.4.
Texte intégralYang, Huan, Ben Q. Li et Changhong Liu. « Enhanced Light Absorption in Thin Crystalline Silicon Solar Cells With Silica Nanoparticles ». Dans ASME 2015 International Mechanical Engineering Congress and Exposition. American Society of Mechanical Engineers, 2015. http://dx.doi.org/10.1115/imece2015-52492.
Texte intégralSeo, Kang, Liqun Wang, Kyeongwoo Nam, Carl Bonner et Edward Gillman. « Morphology of Organic Thin Films on Silicon Substrate ». Dans Organic Thin Films. Washington, D.C. : OSA, 2002. http://dx.doi.org/10.1364/otf.2001.otud7.
Texte intégralRapports d'organisations sur le sujet "Films de silice"
Silcox, J., et E. J. Kirkland. Uhv-stem studies on nucleation and growth of thin metal silicide films on silicon. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), janvier 1992. http://dx.doi.org/10.2172/6207328.
Texte intégralKalnitsky, A., S. P. Tay, J. P. Ellul, J. W. Andrews, E. A. Irene et S. Chongsawagvirod. Measurements and Modelling of Thin Silicon Dioxide Films on Silicon. Fort Belvoir, VA : Defense Technical Information Center, mai 1989. http://dx.doi.org/10.21236/ada207853.
Texte intégralMecholsky, Jr, Tsai J. J., Drawl Y. L. et W. R. Fracture Studies of Diamond Films on Silicon. Fort Belvoir, VA : Defense Technical Information Center, août 1991. http://dx.doi.org/10.21236/ada240978.
Texte intégralFilip, Grażyna. SEMANTIC OF QUIET AND SILENCE BASED ON POLISH HUMAN SCIENCE. Ivan Franko National University of Lviv, mars 2021. http://dx.doi.org/10.30970/vjo.2021.50.11103.
Texte intégralMartin U. Pralle et James E. Carey. Black Silicon Enhanced Thin Film Silicon Photovoltaic Devices. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), juillet 2010. http://dx.doi.org/10.2172/984305.
Texte intégralSmith, W. L., T. A. Michalske et R. R. Rye. The deposition of boron nitride and carbon films on silica glass fibers. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), novembre 1993. http://dx.doi.org/10.2172/10110580.
Texte intégralIrene, Eugene A. Silicon Oxidation Studies on Thin Film Silicon Oxidation Formation. Fort Belvoir, VA : Defense Technical Information Center, mars 1989. http://dx.doi.org/10.21236/ada206835.
Texte intégralBerman, G. P., G. D. Doolen, R. Mainieri, D. K. Campbell et V. A. Luchnikov. Molecular dynamics simulations of grain boundaries in thin nanocrystalline silicon films. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), octobre 1997. http://dx.doi.org/10.2172/292865.
Texte intégralGallagher, A., D. Doughty et J. Doyle. Diagnostics of glow discharges used to produce hydrogenated amorphous silicon films. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), mai 1990. http://dx.doi.org/10.2172/6910198.
Texte intégralKeyes, Brian. National solar technology roadmap : Film-silicon PV. Office of Scientific and Technical Information (OSTI), juin 2007. http://dx.doi.org/10.2172/1217298.
Texte intégral