Articles de revues sur le sujet « DIRECT LASER WRITING LITHOGRAPHY »
Créez une référence correcte selon les styles APA, MLA, Chicago, Harvard et plusieurs autres
Consultez les 50 meilleurs articles de revues pour votre recherche sur le sujet « DIRECT LASER WRITING LITHOGRAPHY ».
À côté de chaque source dans la liste de références il y a un bouton « Ajouter à la bibliographie ». Cliquez sur ce bouton, et nous générerons automatiquement la référence bibliographique pour la source choisie selon votre style de citation préféré : APA, MLA, Harvard, Vancouver, Chicago, etc.
Vous pouvez aussi télécharger le texte intégral de la publication scolaire au format pdf et consulter son résumé en ligne lorsque ces informations sont inclues dans les métadonnées.
Parcourez les articles de revues sur diverses disciplines et organisez correctement votre bibliographie.
Rensch, Clemens, Stefan Hell, Manfred v. Schickfus et Siegfried Hunklinger. « Laser scanner for direct writing lithography ». Applied Optics 28, no 17 (1 septembre 1989) : 3754. http://dx.doi.org/10.1364/ao.28.003754.
Texte intégralUlrich, H., R. W. Wijnaendts-van-Resandt, C. Rensch et W. Ehrensperger. « Direct writing laser lithography for production of microstructures ». Microelectronic Engineering 6, no 1-4 (décembre 1987) : 77–84. http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(87)90019-0.
Texte intégralNi, Haibin, Guanghui Yuan, Liangdong Sun, Ning Chang, Di Zhang, Ruipeng Chen, Liyong Jiang, Hongyuan Chen, Zhongze Gu et Xiangwei Zhao. « Large-scale high-numerical-aperture super-oscillatory lens fabricated by direct laser writing lithography ». RSC Advances 8, no 36 (2018) : 20117–23. http://dx.doi.org/10.1039/c8ra02644k.
Texte intégralGuney, M. G., et G. K. Fedder. « Estimation of line dimensions in 3D direct laser writing lithography ». Journal of Micromechanics and Microengineering 26, no 10 (7 septembre 2016) : 105011. http://dx.doi.org/10.1088/0960-1317/26/10/105011.
Texte intégralSun, Hong-Bo, Atsushi Nakamura, Koshiro Kaneko, Satoru Shoji et Satoshi Kawata. « Direct laser writing defects in holographic lithography-created photonic lattices ». Optics Letters 30, no 8 (15 avril 2005) : 881. http://dx.doi.org/10.1364/ol.30.000881.
Texte intégralHarke, Benjamin, Paolo Bianchini, Fernando Brandi et Alberto Diaspro. « Photopolymerization Inhibition Dynamics for Sub-Diffraction Direct Laser Writing Lithography ». ChemPhysChem 13, no 6 (5 mars 2012) : 1429–34. http://dx.doi.org/10.1002/cphc.201200006.
Texte intégralWang Hongqing, 王洪庆, 温积森 Wen Jisen, 杨臻垚 Yang Zhenyao, 汤孟博 Tang Mengbo, 孙秋媛 Sun Qiuyuan, 马程鹏 Ma Chengpeng, 王子昂 Wang Ziang et al. « 高速并行双光子激光直写光刻系统 ». Chinese Journal of Lasers 49, no 22 (2022) : 2202009. http://dx.doi.org/10.3788/cjl202249.2202009.
Texte intégralHu, Jin, D. L. Pu et Lin Sen Chen. « The Deep Etching Process Based on Parallel Laser Direct Writing System ». Key Engineering Materials 426-427 (janvier 2010) : 265–69. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.426-427.265.
Texte intégralYuan, Chenyu, Jukun Liu, Tianqing Jia, Kan Zhou, Hongxin Zhang, Jia Pan, Donghai Feng et Zhenrong Sun. « Super resolution direct laser writing in ITX resist inspired by STED microscopy ». Journal of Nonlinear Optical Physics & ; Materials 23, no 02 (juin 2014) : 1450015. http://dx.doi.org/10.1142/s0218863514500155.
Texte intégralCara, Eleonora, Federico Ferrarese Lupi, Matteo Fretto, Natascia De Leo, Mauro Tortello, Renato Gonnelli, Katia Sparnacci et Luca Boarino. « Directed Self-Assembly of Polystyrene Nanospheres by Direct Laser-Writing Lithography ». Nanomaterials 10, no 2 (7 février 2020) : 280. http://dx.doi.org/10.3390/nano10020280.
Texte intégralEschenbaum, Carsten, Daniel Großmann, Katja Dopf, Siegfried Kettlitz, Tobias Bocksrocker, Sebastian Valouch et Uli Lemmer. « Hybrid lithography : Combining UV-exposure and two photon direct laser writing ». Optics Express 21, no 24 (26 novembre 2013) : 29921. http://dx.doi.org/10.1364/oe.21.029921.
Texte intégralKim, H. S., B. H. Son, Y. C. Kim et Y. H. Ahn. « Direct laser writing lithography using a negative-tone electron-beam resist ». Optical Materials Express 10, no 11 (9 octobre 2020) : 2813. http://dx.doi.org/10.1364/ome.409302.
Texte intégralFischer, Joachim, Georg von Freymann et Martin Wegener. « The Materials Challenge in Diffraction-Unlimited Direct-Laser-Writing Optical Lithography ». Advanced Materials 22, no 32 (30 juin 2010) : 3578–82. http://dx.doi.org/10.1002/adma.201000892.
Texte intégralShoji, Masaaki, Hideo Jotaki, Masaaki Moriyama et Kentaro Totsu. « Evaluation of Thick-Film Photoresist for Grayscale Lithography Utilizing Direct Laser Writing ». IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines 140, no 5 (1 mai 2020) : 113–18. http://dx.doi.org/10.1541/ieejsmas.140.113.
Texte intégralBraun, Avi, et Stefan Alexander Maier. « Versatile Direct Laser Writing Lithography Technique for Surface Enhanced Infrared Spectroscopy Sensors ». ACS Sensors 1, no 9 (17 août 2016) : 1155–62. http://dx.doi.org/10.1021/acssensors.6b00469.
Texte intégralHasan, Md Nazmul, Muttahid-Ull Haque, Jonathan Trisno et Yung-Chun Lee. « Direct-writing lithography using laser diode beam focused with single elliptical microlens ». Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 14, no 4 (2 novembre 2015) : 043505. http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.14.4.043505.
Texte intégralButkus, Antanas, Edvinas Skliutas, Darius Gailevičius et Mangirdas Malinauskas. « Femtosecond-laser direct writing 3D micro/nano-lithography using VIS-light oscillator ». Journal of Central South University 29, no 10 (octobre 2022) : 3270–76. http://dx.doi.org/10.1007/s11771-022-5153-z.
Texte intégralMeisel, D. C., M. Deubel, M. Hermatschweiler, K. Busch, W. Koch, G. von Freymann, A. Blanco, C. Enkrich et M. Wegener. « Three-Dimensional Photonic Crystals ». Solid State Phenomena 99-100 (juillet 2004) : 55–64. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.99-100.55.
Texte intégralFallica, Roberto. « Beyond grayscale lithography : inherently three-dimensional patterning by Talbot effect ». Advanced Optical Technologies 8, no 3-4 (26 juin 2019) : 233–40. http://dx.doi.org/10.1515/aot-2019-0005.
Texte intégralYu, Luming, Boyang Lu, Ping Yu, Yang Wang, Guojian Ding, Qi Feng, Yang Jiang et al. « Ultra-small size (1–20 μm) blue and green micro-LEDs fabricated by laser direct writing lithography ». Applied Physics Letters 121, no 4 (25 juillet 2022) : 042106. http://dx.doi.org/10.1063/5.0099642.
Texte intégralJaramillo, Juan, Artur Zarzycki, July Galeano et Patrick Sandoz. « Performance Characterization of an xy-Stage Applied to Micrometric Laser Direct Writing Lithography ». Sensors 17, no 2 (31 janvier 2017) : 278. http://dx.doi.org/10.3390/s17020278.
Texte intégralFan Changjiang, 范长江, 徐建程 Xu Jiancheng, 任志君 Ren Zhijun, 应朝福 Ying Chaofu et 王辉 Wang Hui. « Performance of high-order spiral phase plate made by direct laser writing lithography ». High Power Laser and Particle Beams 23, no 12 (2011) : 3283–86. http://dx.doi.org/10.3788/hplpb20112312.3283.
Texte intégralLim, Miles P., Xiaofei Guo, Eva L. Grunblatt, Garrett M. Clifton, Ayda N. Gonzalez et Christopher N. LaFratta. « Augmenting mask-based lithography with direct laser writing to increase resolution and speed ». Optics Express 26, no 6 (8 mars 2018) : 7085. http://dx.doi.org/10.1364/oe.26.007085.
Texte intégralŽukauskas, Albertas, Ieva Matulaitienė, Domas Paipulas, Gediminas Niaura, Mangirdas Malinauskas et Roaldas Gadonas. « Tuning the refractive index in 3D direct laser writing lithography : towards GRIN microoptics ». Laser & ; Photonics Reviews 9, no 6 (29 octobre 2015) : 706–12. http://dx.doi.org/10.1002/lpor.201500170.
Texte intégralBückmann, Tiemo, Nicolas Stenger, Muamer Kadic, Johannes Kaschke, Andreas Frölich, Tobias Kennerknecht, Christoph Eberl, Michael Thiel et Martin Wegener. « Tailored 3D Mechanical Metamaterials Made by Dip-in Direct-Laser-Writing Optical Lithography ». Advanced Materials 24, no 20 (12 avril 2012) : 2710–14. http://dx.doi.org/10.1002/adma.201200584.
Texte intégralZhou Guozun, 周国尊, 何敏菲 He Minfei, 杨臻垚 Yang Zhenyao, 曹春 Cao Chun, 谢飞 Xie Fei, 曹耀宇 Cao Yaoyu, 匡翠方 Kuang Cuifang et 刘旭 Liu Xu. « 基于边缘光抑制技术的双光束激光直写纳米光刻系统 ». Chinese Journal of Lasers 49, no 2 (2022) : 0202001. http://dx.doi.org/10.3788/cjl202249.0202001.
Texte intégralBae, Garam, Moonjeong Jang, Yeong Min Kwon, Wooseok Song, Sun Sook Lee et Ki-Seok An. « Photon-Pen Writing for Metal Oxide-Based Versatile Nanosensors ». ECS Meeting Abstracts MA2022-02, no 63 (9 octobre 2022) : 2474. http://dx.doi.org/10.1149/ma2022-02632474mtgabs.
Texte intégralBrenner, Philipp, Ofer Bar-On, Tobias Siegle, Tobias Leonhard, Raz Gvishi, Carsten Eschenbaum, Heinz Kalt, Jacob Scheuer et Uli Lemmer. « 3D whispering-gallery-mode microlasers by direct laser writing and subsequent soft nanoimprint lithography ». Applied Optics 56, no 13 (24 avril 2017) : 3703. http://dx.doi.org/10.1364/ao.56.003703.
Texte intégralMizera, Tomas, Peter Gaso, Dusan Pudis, Martin Ziman, Anton Kuzma et Matej Goraus. « 3D Polymer-Based 1 × 4 MMI Splitter ». Nanomaterials 12, no 10 (20 mai 2022) : 1749. http://dx.doi.org/10.3390/nano12101749.
Texte intégralPisanello, Marco, Di Zheng, Antonio Balena, Filippo Pisano, Massimo De Vittorio et Ferruccio Pisanello. « An open source three-mirror laser scanning holographic two-photon lithography system ». PLOS ONE 17, no 4 (15 avril 2022) : e0265678. http://dx.doi.org/10.1371/journal.pone.0265678.
Texte intégralde Miguel, Gustavo, Giuseppe Vicidomini, Martí Duocastella et Alberto Diaspro. « Selective fluorescence functionalization of dye-doped polymerized structures fabricated by direct laser writing (DLW) lithography ». Nanoscale 7, no 47 (2015) : 20164–70. http://dx.doi.org/10.1039/c5nr06071k.
Texte intégralLightman, Shlomi, Raz Gvishi, Gilad Hurvitz et Ady Arie. « Comparative analysis of direct laser writing and nanoimprint lithography for fabrication of optical phase elements ». Applied Optics 55, no 34 (23 novembre 2016) : 9724. http://dx.doi.org/10.1364/ao.55.009724.
Texte intégralDuocastella, Martí, Giuseppe Vicidomini, Kseniya Korobchevskaya, Katarzyna Pydzińska, Marcin Ziółek, Alberto Diaspro et Gustavo de Miguel. « Improving the Spatial Resolution in Direct Laser Writing Lithography by Using a Reversible Cationic Photoinitiator ». Journal of Physical Chemistry C 121, no 31 (28 juillet 2017) : 16970–77. http://dx.doi.org/10.1021/acs.jpcc.7b03591.
Texte intégralAhn, Jinseong, Changui Ahn, Seokwoo Jeon et Junyong Park. « Atomic Layer Deposition of Inorganic Thin Films on 3D Polymer Nanonetworks ». Applied Sciences 9, no 10 (15 mai 2019) : 1990. http://dx.doi.org/10.3390/app9101990.
Texte intégralGrauzeliene, Sigita, Aukse Navaruckiene, Edvinas Skliutas, Mangirdas Malinauskas, Angels Serra et Jolita Ostrauskaite. « Vegetable Oil-Based Thiol-Ene/Thiol-Epoxy Resins for Laser Direct Writing 3D Micro-/Nano-Lithography ». Polymers 13, no 6 (12 mars 2021) : 872. http://dx.doi.org/10.3390/polym13060872.
Texte intégralLu, Yu, Wei Wu et Ke-yi Wang. « High-Speed Transmission and Mass Data Storage Solutions for Large-Area and Arbitrarily Structured Fabrication through Maskless Lithography ». Journal of Electrical and Computer Engineering 2016 (2016) : 1–7. http://dx.doi.org/10.1155/2016/6074791.
Texte intégralBakhchova, Liubov, Linas Jonušauskas, Dovilė Andrijec, Marharyta Kurachkina, Tomas Baravykas, Alexey Eremin et Ulrike Steinmann. « Femtosecond Laser-Based Integration of Nano-Membranes into Organ-on-a-Chip Systems ». Materials 13, no 14 (10 juillet 2020) : 3076. http://dx.doi.org/10.3390/ma13143076.
Texte intégralChen, Cheng, Yanhua Liu, Zhou-ying Jiang, Chong Shen, Ye Zhang, Fan Zhong, Linsen Chen, Shining Zhu et Hui Liu. « Large-area long-wave infrared broadband all-dielectric metasurface absorber based on markless laser direct writing lithography ». Optics Express 30, no 8 (6 avril 2022) : 13391. http://dx.doi.org/10.1364/oe.447783.
Texte intégralLima, Frederico, Isman Khazi, Ulrich Mescheder, Alok C. Tungal et Uma Muthiah. « Fabrication of 3D microstructures using grayscale lithography ». Advanced Optical Technologies 8, no 3-4 (26 juin 2019) : 181–93. http://dx.doi.org/10.1515/aot-2019-0023.
Texte intégralEgorov, Anton E., Alexey A. Kostyukov, Denis A. Shcherbakov, Danila A. Kolymagin, Dmytro A. Chubich, Rilond P. Matital, Maxim V. Arsenyev et al. « Benzylidene Cyclopentanone Derivative Photoinitiator for Two-Photon Photopolymerization-Photochemistry and 3D Structures Fabrication for X-ray Application ». Polymers 15, no 1 (24 décembre 2022) : 71. http://dx.doi.org/10.3390/polym15010071.
Texte intégralUrbancova, Petra, Dusan Pudis, Matej Goraus et Jaroslav Kovac. « IP-Dip-Based SPR Structure for Refractive Index Sensing of Liquid Analytes ». Nanomaterials 11, no 5 (29 avril 2021) : 1163. http://dx.doi.org/10.3390/nano11051163.
Texte intégralMačiulaitis, Justinas, Milda Deveikytė, Sima Rekštytė, Maksim Bratchikov, Adas Darinskas, Agnė Šimbelytė, Gintaras Daunoras et al. « Preclinical study of SZ2080 material 3D microstructured scaffolds for cartilage tissue engineering made by femtosecond direct laser writing lithography ». Biofabrication 7, no 1 (23 mars 2015) : 015015. http://dx.doi.org/10.1088/1758-5090/7/1/015015.
Texte intégralAi, Jun, Qifeng Du, Zhongli Qin, Jianguo Liu et Xiaoyan Zeng. « Laser direct-writing lithography equipment system for rapid and μm-precision fabrication on curved surfaces with large sag heights ». Optics Express 26, no 16 (31 juillet 2018) : 20965. http://dx.doi.org/10.1364/oe.26.020965.
Texte intégralYu, Shengtao, Xiaoyu Li et Chengqun Gui. « 3D SOI edge coupler design for high tolerance ». AIP Advances 13, no 2 (1 février 2023) : 025365. http://dx.doi.org/10.1063/5.0127979.
Texte intégralBurkhardt, T., M. Mohaupt, M. Hornaff, B. Zaage, E. Beckert, H. J. Döring, M. Slodowski et al. « Packaging Technology of Multi Deflection Arrays for Multi-Shaped Beam Lithography ». International Symposium on Microelectronics 2011, no 1 (1 janvier 2011) : 000600–000607. http://dx.doi.org/10.4071/isom-2011-wa5-paper1.
Texte intégralSun, Xiuhui, Shaoyun Yin, Haibo Jiang, Weiguo Zhang, Mingyou Gao, Jinglei Du et Chunlei Du. « U-Net convolutional neural network-based modification method for precise fabrication of three-dimensional microstructures using laser direct writing lithography ». Optics Express 29, no 4 (12 février 2021) : 6236. http://dx.doi.org/10.1364/oe.416871.
Texte intégralBagheri, Shahin, Ksenia Weber, Timo Gissibl, Thomas Weiss, Frank Neubrech et Harald Giessen. « Fabrication of Square-Centimeter Plasmonic Nanoantenna Arrays by Femtosecond Direct Laser Writing Lithography : Effects of Collective Excitations on SEIRA Enhancement ». ACS Photonics 2, no 6 (26 mai 2015) : 779–86. http://dx.doi.org/10.1021/acsphotonics.5b00141.
Texte intégralLebedevaite, Migle, Jolita Ostrauskaite, Edvinas Skliutas et Mangirdas Malinauskas. « Photoinitiator Free Resins Composed of Plant-Derived Monomers for the Optical µ-3D Printing of Thermosets ». Polymers 11, no 1 (11 janvier 2019) : 116. http://dx.doi.org/10.3390/polym11010116.
Texte intégralFoltyn, Patrick, Ferdinand Restle, Markus Wissmann, Stefan Hengsbach et Bernhard Weigand. « The Effect of Patterned Micro-Structure on the Apparent Contact Angle and Three-Dimensional Contact Line ». Fluids 6, no 2 (23 février 2021) : 92. http://dx.doi.org/10.3390/fluids6020092.
Texte intégralLuan, Shiyi, Fei Peng, Guoxing Zheng, Chengqun Gui, Yi Song et and Sheng Liu. « High-speed, large-area and high-precision fabrication of aspheric micro-lens array based on 12-bit direct laser writing lithography ». Light : Advanced Manufacturing 3 (2022) : 1. http://dx.doi.org/10.37188/lam.2022.047.
Texte intégral