Articles de revues sur le sujet « Dimensional Nanometrology »
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MISUMI, Ichiko. « Standard Sample in Dimensional Nanometrology ». Journal of the Japan Society for Precision Engineering 74, no 3 (2008) : 222–25. http://dx.doi.org/10.2493/jjspe.74.222.
Texte intégralYacoot, Andrew, et Ludger Koenders. « Recent developments in dimensional nanometrology using AFMs ». Measurement Science and Technology 22, no 12 (25 octobre 2011) : 122001. http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/22/12/122001.
Texte intégralTöpfer, Susanne C. N., Uwe Nehse et Gerhard Linß. « Automated inspections for dimensional micro- and nanometrology ». Measurement 40, no 2 (février 2007) : 243–54. http://dx.doi.org/10.1016/j.measurement.2006.06.010.
Texte intégralSimão, C., D. Tuchapsky, W. Khunsin, A. Amann, M. A. Morris et C. M. Sotomayor Torres. « Dimensional and defectivity nanometrology of directed self-assembly patterns ». physica status solidi (c) 12, no 3 (25 février 2015) : 267–70. http://dx.doi.org/10.1002/pssc.201400211.
Texte intégralMalinovski, I., R. S. França, M. S. Lima, M. S. Bessa, C. R. Silva et I. B. Couceiro. « High-resolution interferometic microscope for traceable dimensional nanometrology in Brazil ». Journal of Physics : Conference Series 733 (juillet 2016) : 012060. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/733/1/012060.
Texte intégralTondare, Vipin N., John S. Villarrubia et András E. Vladár. « Three-Dimensional (3D) Nanometrology Based on Scanning Electron Microscope (SEM) Stereophotogrammetry ». Microscopy and Microanalysis 23, no 5 (18 septembre 2017) : 967–77. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927617012521.
Texte intégralJäger, Gerd, T. Hausotte, Eberhard Manske, H. J. Büchner, R. Mastylo, N. Dorozhovets, R. Füßl et R. Grünwald. « Nanometrology – Nanopositioning- and Nanomeasuring Machine with Integrated Nanopobes ». Materials Science Forum 505-507 (janvier 2006) : 7–12. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.505-507.7.
Texte intégralJorio, Ado. « Raman Spectroscopy in Graphene-Based Systems : Prototypes for Nanoscience and Nanometrology ». ISRN Nanotechnology 2012 (6 décembre 2012) : 1–16. http://dx.doi.org/10.5402/2012/234216.
Texte intégralKrumrey, Michael, Gudrun Gleber, Frank Scholze et Jan Wernecke. « Synchrotron radiation-based x-ray reflection and scattering techniques for dimensional nanometrology ». Measurement Science and Technology 22, no 9 (8 août 2011) : 094032. http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/22/9/094032.
Texte intégralEndres, J., A. Diener, M. Wurm et B. Bodermann. « Investigations of the influence of common approximations in scatterometry for dimensional nanometrology ». Measurement Science and Technology 25, no 4 (5 mars 2014) : 044004. http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/25/4/044004.
Texte intégralSchuler, Alexander, Albert Weckenmann et Tino Hausotte. « Setup and evaluation of a sensor tilting system for dimensional micro- and nanometrology ». Measurement Science and Technology 25, no 6 (30 avril 2014) : 064010. http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/25/6/064010.
Texte intégralGonda, S., T. Kurosawa et Y. Tanimura. « Mechanical performances of a symmetrical, monolithic three-dimensional fine-motion stage for nanometrology ». Measurement Science and Technology 10, no 11 (30 septembre 1999) : 986–93. http://dx.doi.org/10.1088/0957-0233/10/11/302.
Texte intégralThiesler, Jan, Thomas Ahbe, Rainer Tutsch et Gaoliang Dai. « True 3D Nanometrology : 3D-Probing with a Cantilever-Based Sensor ». Sensors 22, no 1 (31 décembre 2021) : 314. http://dx.doi.org/10.3390/s22010314.
Texte intégralStöhr, Frederik, Jonas Michael-Lindhard, Hugh Simons, Henning Friis Poulsen, Jörg Hübner, Ole Hansen, Joergen Garnaes et Flemming Jensen. « Three-dimensional nanometrology of microstructures by replica molding and large-range atomic force microscopy ». Microelectronic Engineering 141 (juin 2015) : 6–11. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2014.11.026.
Texte intégralSun, Zhong Yuan, Alexander Schuler et Tino Hausotte. « Development of a 3D Tunneling Current Probing System for Micro- and Nano-Coordinate Metrology ». Applied Mechanics and Materials 870 (septembre 2017) : 126–31. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.870.126.
Texte intégralSong, Se Ahn, Tatsumi Hirano, Jong Bong Park, Kazutoshi Kaji, Ki Hong Kim et Shohei Terada. « Searching Ultimate Nanometrology for AlOx Thickness in Magnetic Tunnel Junction by Analytical Electron Microscopy and X-ray Reflectometry ». Microscopy and Microanalysis 11, no 5 (28 septembre 2005) : 431–45. http://dx.doi.org/10.1017/s1431927605050580.
Texte intégralBosse, Harald, et Günter Wilkening. « Dimensionelle Nanometrologie in der PTB – eine Übersicht (Dimensional Nanometrology at PTB – a Survey) ». tm - Technisches Messen 73, no 1/2006 (1 janvier 2006). http://dx.doi.org/10.1524/teme.2006.73.1.4.
Texte intégralDai, Gaoliang, et Xiukun Hu. « Correction of Interferometric High-Order Nonlinearity Error in Metrological Atomic Force Microscopy ». Nanomanufacturing and Metrology, 6 octobre 2022. http://dx.doi.org/10.1007/s41871-022-00154-6.
Texte intégralCharrier, Anne M., Aubin C. Normand, Ali Passian, Philip Schaefer et Aude L. Lereu. « In situ plant materials hyperspectral imaging by multimodal scattering near-field optical microscopy ». Communications Materials 2, no 1 (9 juin 2021). http://dx.doi.org/10.1038/s43246-021-00166-7.
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