Articles de revues sur le sujet « Diblock copolymer (DBC) lithography »
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Chervanyov, A. I. « Conductivity of Insulating Diblock Copolymer System Filled with Conductive Particles Having Different Affinities for Dissimilar Copolymer Blocks ». Polymers 12, no 8 (25 juillet 2020) : 1659. http://dx.doi.org/10.3390/polym12081659.
Texte intégralPermyakova, N. M., T. B. Zheltonozhskaya, V. I. Karpovskyi, R. V. Postoi, V. I. Maksin, S. V. Partsevskaya, L. M. Grishchenko, D. O. Klymchuk et V. V. Klepko. « Composition of α-tocopheryl acetate with micellar nanocarriers and the possibility of its use as a biologically active additive ». Polymer journal 42, no 4 (10 décembre 2020) : 292–306. http://dx.doi.org/10.15407/polymerj.42.04.292.
Texte intégralKuech, Thomas F., et Luke J. Mawst. « Nanofabrication of III–V semiconductors employing diblock copolymer lithography ». Journal of Physics D : Applied Physics 43, no 18 (21 avril 2010) : 183001. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/43/18/183001.
Texte intégralMuramatsu, Makoto. « Nanopatterning of diblock copolymer directed self-assembly lithography with wet development ». Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 11, no 3 (9 juillet 2012) : 031305. http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.11.3.031305.
Texte intégralKunitskaya, Larisa, Tatyana Zheltonozhskaya, Rostyslav Stoika et Dmytro Klymchuk. « Compositions of Anticancer Drug with Micellar Nanocarriers and Their Cytotoxicity ». French-Ukrainian Journal of Chemistry 5, no 2 (2017) : 103–20. http://dx.doi.org/10.17721/fujcv5i2p103-120.
Texte intégralPark, J. H., J. Kirch, L. J. Mawst, C. C. Liu, P. F. Nealey et T. F. Kuech. « Controlled growth of InGaAs/InGaAsP quantum dots on InP substrates employing diblock copolymer lithography ». Applied Physics Letters 95, no 11 (14 septembre 2009) : 113111. http://dx.doi.org/10.1063/1.3224916.
Texte intégralYoshida, Shinya, Takahito Ono et Masayoshi Esashi. « Conductive polymer patterned media fabricated by diblock copolymer lithography for scanning multiprobe data storage ». Nanotechnology 19, no 47 (29 octobre 2008) : 475302. http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/19/47/475302.
Texte intégralTerekhin, V. V., O. V. Dement’eva, A. V. Zaitseva et V. M. Rudoy. « Diblock copolymer micellar lithography : 1. Intermicellar interactions and pathways for control of monomicellar film structure ». Colloid Journal 73, no 5 (octobre 2011) : 697–706. http://dx.doi.org/10.1134/s1061933x11050152.
Texte intégralTerekhin, V. V., O. V. Dement’eva et V. M. Rudoy. « Diblock copolymer micellar lithography : 2. Formation of highly ordered nanoparticle ensembles with controlled geometric characteristics ». Colloid Journal 73, no 5 (octobre 2011) : 707–16. http://dx.doi.org/10.1134/s1061933x11050164.
Texte intégralKim, Honghyuk, Jonathan Choi, Zachary Lingley, Miles Brodie, Yongkun Sin, Thomas F. Kuech, Padma Gopalan et Luke J. Mawst. « Selective growth of strained (In)GaAs quantum dots on GaAs substrates employing diblock copolymer lithography nanopatterning ». Journal of Crystal Growth 465 (mai 2017) : 48–54. http://dx.doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2017.02.046.
Texte intégralChang, Chun-Chieh, Dan Botez, Lei Wan, Paul F. Nealey, Steven Ruder et Thomas F. Kuech. « Fabrication of large-area, high-density Ni nanopillar arrays on GaAs substrates using diblock copolymer lithography and electrodeposition ». Journal of Vacuum Science & ; Technology B, Nanotechnology and Microelectronics : Materials, Processing, Measurement, and Phenomena 31, no 3 (mai 2013) : 031801. http://dx.doi.org/10.1116/1.4798464.
Texte intégralDirani, Ali, Fabrice Stehlin, Ihab Dika, Arnaud Spangenberg, Nathan Grumbach, Jean-Louis Gallani, Bertrand Donnio et al. « Orienting the Demixion of a Diblock-copolymer Using 193 nm Interferometric Lithography for the Controlled Deposition of Nanoparticles ». Macromolecular Rapid Communications 32, no 20 (16 août 2011) : 1627–33. http://dx.doi.org/10.1002/marc.201100399.
Texte intégralMastari, Marouane, Matthew Charles, Patricia Pimenta-Barros, Maxime Argoud, Raluca Tiron, Anne-Marie Papon, Nicolas Chevalier et al. « Ge Nano-Heteroepitaxy : From Nano-Pillars to Thick Coalesced Layers ». ECS Transactions 109, no 4 (30 septembre 2022) : 317–28. http://dx.doi.org/10.1149/10904.0317ecst.
Texte intégralBorah, Dipu, Cian Cummins, Sozaraj Rasappa, Ramsankar Senthamaraikannan, Mathieu Salaun, Marc Zelsmann, George Liontos, Konstantinos Ntetsikas, Apostolos Avgeropoulos et Michael Morris. « Nanopatterning via Self-Assembly of a Lamellar-Forming Polystyrene-block-Poly(dimethylsiloxane) Diblock Copolymer on Topographical Substrates Fabricated by Nanoimprint Lithography ». Nanomaterials 8, no 1 (9 janvier 2018) : 32. http://dx.doi.org/10.3390/nano8010032.
Texte intégralKim, Honghyuk, Wei Wei, Thomas F. Kuech, Padma Gopalan et Luke J. Mawst. « Impact of InGaAs carrier collection quantum well on the performance of InAs QD active region lasers fabricated by diblock copolymer lithography and selective area epitaxy ». Semiconductor Science and Technology 34, no 2 (14 janvier 2019) : 025012. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6641/aaf8e8.
Texte intégralPrausnitz, John M. « Thermodynamics of structured fluids. Hard science for soft materials ». Pure and Applied Chemistry 72, no 10 (1 janvier 2000) : 1819–34. http://dx.doi.org/10.1351/pac200072101819.
Texte intégralCao, Wei, Senlin Xia, Michael Appold, Nitin Saxena, Lorenz Bießmann, Sebastian Grott, Nian Li, Markus Gallei, Sigrid Bernstorff et Peter Müller-Buschbaum. « Self-Assembly in ultrahigh molecular weight sphere-forming diblock copolymer thin films under strong confinement ». Scientific Reports 9, no 1 (décembre 2019). http://dx.doi.org/10.1038/s41598-019-54648-3.
Texte intégralAlabi, Taiwo R., Dajun Yuan et Suman Das. « Photopatterneable Block Co-Polymers for Laser Interference Lithography ». MRS Proceedings 1412 (2012). http://dx.doi.org/10.1557/opl.2012.1258.
Texte intégralLiu, Guangyu, Hongping Zhao, Jing Zhang, Joo Hyung Park, Luke J. Mawst et Nelson Tansu. « Selective area epitaxy of ultra-high density InGaN quantum dots by diblock copolymer lithography ». Nanoscale Research Letters 6, no 1 (15 avril 2011). http://dx.doi.org/10.1186/1556-276x-6-342.
Texte intégral« InGaAs/InP Quantum Dot Formation Employing Diblock Copolymer Lithography and Selective Growth - Invited Talk ». ECS Meeting Abstracts, 2009. http://dx.doi.org/10.1149/ma2009-02/29/2280.
Texte intégralChevalier, Xavier, Gwenaelle Pound-Lana, Cindy Gomes Correia, Sébastien Cavalaglio, Benjamin Cabannes-Boué, Frederic Restagno, Guillaume Miquelard-Garnier et al. « Self-organization and dewetting kinetics in sub-10 nm diblock copolymer line/space lithography ». Nanotechnology, 19 janvier 2023. http://dx.doi.org/10.1088/1361-6528/acb49f.
Texte intégralYoshida, Hiroshi, Hirofumi Kitano, Satoshi Akasaka, Tomohiro Inoue, Mikihito Taknaka, Hirokazu Hasegawa et Hideki Nagano. « Tailoring Microdomain Orientation in Block Copolymer Thin Films for Lithographic Application ». MRS Proceedings 961 (2006). http://dx.doi.org/10.1557/proc-0961-o17-01.
Texte intégralZhang, Yuan, Simone Raoux, Daniel Krebs, Leslie E. Krupp, Teya Topuria, Jean Jordan-Sweet, Marissa Caldwell, Philip Rice, Delia J. Milliron et H. S. Philip Wong. « Crystallization Characteristics Of Phase Change Nanoparticle Arrays Fabricated By Self-Assembly Based Lithography ». MRS Proceedings 1072 (2008). http://dx.doi.org/10.1557/proc-1072-g08-05.
Texte intégralBorah, Dipu, Sozaraj Rasappa, Barbara Kosmala, Justin D. Holmes et Michael A. Morris. « Block Copolymer Self-assembly on Ethylene Glycol (EG) Self-assembled Monolayer (SAM) for Nanofabrication ». MRS Proceedings 1450 (2012). http://dx.doi.org/10.1557/opl.2012.1224.
Texte intégralRamanathan, Muruganathan, Seth B. Darling, Anirudha V. Sumant et Orlando Auciello. « Self-Assembly of Cylinder-Forming Block Copolymers on Ultrananocrystalline Diamond (UNCD) Thin Films for Lithographic Applications ». MRS Proceedings 1203 (2009). http://dx.doi.org/10.1557/proc-1203-j17-15.
Texte intégralPark, Joo Hyung, Anish Khandekar, Sang-Min Park, Luke Mawst, Thomas Kuech et Paul Nealey. « Selective GaAs Quantum Dot Array Growth using Dielectric and AlGaAs Masks Pattern-Transferred from Diblock Copolymer ». MRS Proceedings 1014 (2007). http://dx.doi.org/10.1557/proc-1014-aa07-15.
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