Littérature scientifique sur le sujet « Diblock copolymer (DBC) lithography »
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Articles de revues sur le sujet "Diblock copolymer (DBC) lithography"
Chervanyov, A. I. « Conductivity of Insulating Diblock Copolymer System Filled with Conductive Particles Having Different Affinities for Dissimilar Copolymer Blocks ». Polymers 12, no 8 (25 juillet 2020) : 1659. http://dx.doi.org/10.3390/polym12081659.
Texte intégralPermyakova, N. M., T. B. Zheltonozhskaya, V. I. Karpovskyi, R. V. Postoi, V. I. Maksin, S. V. Partsevskaya, L. M. Grishchenko, D. O. Klymchuk et V. V. Klepko. « Composition of α-tocopheryl acetate with micellar nanocarriers and the possibility of its use as a biologically active additive ». Polymer journal 42, no 4 (10 décembre 2020) : 292–306. http://dx.doi.org/10.15407/polymerj.42.04.292.
Texte intégralKuech, Thomas F., et Luke J. Mawst. « Nanofabrication of III–V semiconductors employing diblock copolymer lithography ». Journal of Physics D : Applied Physics 43, no 18 (21 avril 2010) : 183001. http://dx.doi.org/10.1088/0022-3727/43/18/183001.
Texte intégralMuramatsu, Makoto. « Nanopatterning of diblock copolymer directed self-assembly lithography with wet development ». Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS 11, no 3 (9 juillet 2012) : 031305. http://dx.doi.org/10.1117/1.jmm.11.3.031305.
Texte intégralKunitskaya, Larisa, Tatyana Zheltonozhskaya, Rostyslav Stoika et Dmytro Klymchuk. « Compositions of Anticancer Drug with Micellar Nanocarriers and Their Cytotoxicity ». French-Ukrainian Journal of Chemistry 5, no 2 (2017) : 103–20. http://dx.doi.org/10.17721/fujcv5i2p103-120.
Texte intégralPark, J. H., J. Kirch, L. J. Mawst, C. C. Liu, P. F. Nealey et T. F. Kuech. « Controlled growth of InGaAs/InGaAsP quantum dots on InP substrates employing diblock copolymer lithography ». Applied Physics Letters 95, no 11 (14 septembre 2009) : 113111. http://dx.doi.org/10.1063/1.3224916.
Texte intégralYoshida, Shinya, Takahito Ono et Masayoshi Esashi. « Conductive polymer patterned media fabricated by diblock copolymer lithography for scanning multiprobe data storage ». Nanotechnology 19, no 47 (29 octobre 2008) : 475302. http://dx.doi.org/10.1088/0957-4484/19/47/475302.
Texte intégralTerekhin, V. V., O. V. Dement’eva, A. V. Zaitseva et V. M. Rudoy. « Diblock copolymer micellar lithography : 1. Intermicellar interactions and pathways for control of monomicellar film structure ». Colloid Journal 73, no 5 (octobre 2011) : 697–706. http://dx.doi.org/10.1134/s1061933x11050152.
Texte intégralTerekhin, V. V., O. V. Dement’eva et V. M. Rudoy. « Diblock copolymer micellar lithography : 2. Formation of highly ordered nanoparticle ensembles with controlled geometric characteristics ». Colloid Journal 73, no 5 (octobre 2011) : 707–16. http://dx.doi.org/10.1134/s1061933x11050164.
Texte intégralKim, Honghyuk, Jonathan Choi, Zachary Lingley, Miles Brodie, Yongkun Sin, Thomas F. Kuech, Padma Gopalan et Luke J. Mawst. « Selective growth of strained (In)GaAs quantum dots on GaAs substrates employing diblock copolymer lithography nanopatterning ». Journal of Crystal Growth 465 (mai 2017) : 48–54. http://dx.doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2017.02.046.
Texte intégralThèses sur le sujet "Diblock copolymer (DBC) lithography"
DIALAMEH, MASOUD. « Fabrication and characterization of reference nano and micro structures for 3D chemical analysis ». Doctoral thesis, Politecnico di Torino, 2019. http://hdl.handle.net/11583/2742524.
Texte intégralXiao, Qijun. « Hierarchical multiple bit clusters and patterned media enabled by novel nanofabrication techniques – High resolution electron beam lithography and block polymer self assembly ». 2010. https://scholarworks.umass.edu/dissertations/AAI3397756.
Texte intégralActes de conférences sur le sujet "Diblock copolymer (DBC) lithography"
Kihara, Naoko, Kazutaka Takizawa et Hiroyuki Hieda. « Fabrication of sub-10-nm pattern using diblock copolymer ». Dans SPIE Advanced Lithography, sous la direction de Frank M. Schellenberg et Bruno M. La Fontaine. SPIE, 2009. http://dx.doi.org/10.1117/12.812210.
Texte intégralChang, Li-Wen, Marissa A. Caldwell et H. S. Philip Wong. « Diblock copolymer directed self-assembly for CMOS device fabrication ». Dans SPIE Advanced Lithography, sous la direction de Frank M. Schellenberg. SPIE, 2008. http://dx.doi.org/10.1117/12.772000.
Texte intégralHong, Yang, Li-Wen Chang, Albert Lin et H. S. Philip Wong. « SLICE image analysis for diblock copolymer characterization and process optimization ». Dans SPIE Advanced Lithography, sous la direction de Daniel J. C. Herr. SPIE, 2010. http://dx.doi.org/10.1117/12.848378.
Texte intégralMuramatsu, Makoto, Mitsuaki Iwashita, Takahiro Kitano, Takayuki Toshima, Yuriko Seino, Daisuke Kawamura, Masahiro Kanno, Katsutoshi Kobayashi et Tsukasa Azuma. « Nanopatterning of diblock copolymer directed self-assembly lithography with wet development ». Dans SPIE Advanced Lithography, sous la direction de Daniel J. C. Herr. SPIE, 2011. http://dx.doi.org/10.1117/12.878931.
Texte intégralKihara, Naoko, Hiroyuki Hieda et Katsuyuki Naito. « NIL mold manufacturing using self-organized diblock copolymer as patterning template ». Dans SPIE Advanced Lithography, sous la direction de Frank M. Schellenberg. SPIE, 2008. http://dx.doi.org/10.1117/12.771630.
Texte intégralChang, Li-Wen, et H. S. Philip Wong. « Diblock copolymer directed self-assembly for CMOS device fabrication ». Dans SPIE 31st International Symposium on Advanced Lithography, sous la direction de Alfred K. K. Wong et Vivek K. Singh. SPIE, 2006. http://dx.doi.org/10.1117/12.661028.
Texte intégralChirasatitsin, Somyot, Priyalakshmi Viswanathan, Giuseppe Battaglia et Adam J. Engler. « Directing Stem Cell Fate in 3D Through Cell Inert and Adhesive Diblock Copolymer Domains ». Dans ASME 2013 Summer Bioengineering Conference. American Society of Mechanical Engineers, 2013. http://dx.doi.org/10.1115/sbc2013-14442.
Texte intégralIzumi, Kenichi, Bongkeun Kim, Nabil Laachi, Kris T. Delaney, Michael Carilli et Glenn H. Fredrickson. « Barriers to defect melting in chemo-epitaxial directed self-assembly of lamellar-forming diblock copolymer/homopolymer blends ». Dans SPIE Advanced Lithography, sous la direction de Douglas J. Resnick et Christopher Bencher. SPIE, 2015. http://dx.doi.org/10.1117/12.2085685.
Texte intégralBlack, C. T., et R. Ruiz. « Self assembly in semiconductor microelectronics : self-aligned sub-lithographic patterning using diblock copolymer thin films ». Dans SPIE 31st International Symposium on Advanced Lithography, sous la direction de Qinghuang Lin. SPIE, 2006. http://dx.doi.org/10.1117/12.659252.
Texte intégralPeters, Andrew J., Richard A. Lawson, Peter J. Ludovice et Clifford L. Henderson. « Effects of block copolymer polydispersity and χN on pattern line edge roughness and line width roughness from directed self-assembly of diblock copolymers ». Dans SPIE Advanced Lithography, sous la direction de William M. Tong et Douglas J. Resnick. SPIE, 2013. http://dx.doi.org/10.1117/12.2021443.
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