Articles de revues sur le sujet « Deposited Substrate »
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Panitchakan, H., et Pichet Limsuwan. « The Properties of Al2O3 Films Deposited onto Al2O3-TiC and Si Substrates by RF Diode Sputtering ». Applied Mechanics and Materials 313-314 (mars 2013) : 126–30. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.313-314.126.
Texte intégralde la Garza, María, Israel López et Idalia Gómez. « In SituSynthesis and Deposition of Gold Nanoparticles with Different Morphologies on Glass and ITO Substrate by Ultrasonic Spray Pyrolysis ». Advances in Materials Science and Engineering 2013 (2013) : 1–5. http://dx.doi.org/10.1155/2013/916908.
Texte intégralKumar, Varun S., et Murali Sundaram. « A mathematical model for the estimation of hardness of electrochemical deposits ». Proceedings of the Institution of Mechanical Engineers, Part E : Journal of Process Mechanical Engineering 232, no 1 (28 septembre 2016) : 23–28. http://dx.doi.org/10.1177/0954408916671973.
Texte intégralHwang, Cheol Seong, Mark D. Vaudin et Gregory T. Stauf. « Influence of substrate annealing on the epitaxial growth of BaTiO3 thin films by metal-organic chemical vapor deposition ». Journal of Materials Research 12, no 6 (juin 1997) : 1625–33. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1997.0222.
Texte intégralZhang, Junze, Hanwen Xu, Zhuanghao Zheng, Cong Wang, Xinru Li, Fu Li, Ping Fan et Yue-Xing Chen. « Effects of Si Substrates with Variable Initial Orientations on the Growth and Thermoelectric Properties of Bi-Sb-Te Thin Films ». Nanomaterials 13, no 2 (7 janvier 2023) : 257. http://dx.doi.org/10.3390/nano13020257.
Texte intégralWang, Xin Chang, Bin Shen et Fang Hong Sun. « Deposition and Characterization of Boron-Doped HFCVD Diamond Films on Ti, SiC, Si and Ta Substrates ». Applied Mechanics and Materials 217-219 (novembre 2012) : 1062–67. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.217-219.1062.
Texte intégralSindhu, H. S., Sumanth Joishy, B. V. Rajendra et P. D. Babu. « Influence of Precursor Solution Concentration on Structure and Magnetic Properties of Zinc Oxide Thin Films ». Key Engineering Materials 724 (décembre 2016) : 43–47. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.724.43.
Texte intégralMeng, Fan Tao, Shan Yi Du et Yu Min Zhang. « Characterization of Silicon Carbide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition ». Advanced Materials Research 177 (décembre 2010) : 78–81. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.177.78.
Texte intégralTsai, Fa Ta, Chin Tun Chuang, Tsai Cheng Li et Pei Chi Yu. « Study of Parylene-C Thin Film Deposited on Flat Substrates ». Applied Mechanics and Materials 217-219 (novembre 2012) : 1077–82. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.217-219.1077.
Texte intégralYu, J., et S. Matsumoto. « Growth of cubic boron nitride films on tungsten carbide substrates by direct current jet plasma chemical vapor deposition ». Journal of Materials Research 19, no 5 (mai 2004) : 1408–12. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2004.0188.
Texte intégralSantos, Edson Costa, Katsuyuki Kida, Phil Carroll et Rui Vilar. « Optimization of Laser Deposited Ni-Based Single Crystal Superalloys Microstructure ». Advanced Materials Research 154-155 (octobre 2010) : 1405–14. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.154-155.1405.
Texte intégralIkenaga, Noriaki, Yoichi Kishi, Zenjiro Yajima et Noriyuki Sakudo. « Influence of Substrate Temperature on Texture for Deposited TiNi Films ». Advances in Science and Technology 59 (septembre 2008) : 30–34. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ast.59.30.
Texte intégralPico, Carey A., et Tom D. Bonifield. « Microstructural characterization of Al98.5wt. %Si1.0wt. %Cu0.5wt. % on chemical-vapor-deposited W ». Journal of Materials Research 8, no 5 (mai 1993) : 1001–9. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1993.1001.
Texte intégralPrasad, Beesabathina D., L. Salamanca-Riba, S. N. Mao, X. X. Xi, T. Venkatesan et X. D. Wu. « Effect of substrate materials on laser deposited Nd1.85Ce0.15CuO4−y films ». Journal of Materials Research 9, no 6 (juin 1994) : 1376–83. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1994.1376.
Texte intégralMilosevic, Nenad. « Optimal parameterization in the measurements of the thermal diffusivity of thermal barrier coatings ». Thermal Science 11, no 1 (2007) : 137–56. http://dx.doi.org/10.2298/tsci0701137m.
Texte intégralMittra, Joy, Geogy Jiju Abraham, Manoj Kesaria, Sumit Bahl, Aman Gupta, Sonnada M. Shivaprasad, Chebolu Subrahmanya Viswanadham, Ulhas Digambar Kulkarni et Gautam Kumar Dey. « Role of Substrate Temperature in the Pulsed Laser Deposition of Zirconium Oxide Thin Film ». Materials Science Forum 710 (janvier 2012) : 757–61. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.710.757.
Texte intégralSawa, Sayuki, et Shinzo Yoshikado. « Evaluation of Planar-Type Thin Film ZnO Varistors Fabricated Using Pulsed Laser Ablation ». Key Engineering Materials 320 (septembre 2006) : 109–12. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.320.109.
Texte intégralNAWAZ. RIZWAN, M., M. A. KALYAR, C. BELL, M. ANWAR-UL-HAQ et A. R. MAKHDOOM. « NICKEL THIN FILMS GROWN BY PULSED LASER DEPOSITION : INFLUENCE OF SUBSTRATE AND SUBSTRATE TEMPERATURE ». Digest Journal of Nanomaterials and Biostructures 15, no 4 (décembre 2020) : 1141–51. http://dx.doi.org/10.15251/djnb.2020.154.1141.
Texte intégralMerie, Violeta V., Nicolae V. Burnete, Corina Bîrleanu et Marius Pustan. « Nanocharacterization of metallic thin films deposited on different substrates ». Materials Science-Poland 38, no 1 (1 mars 2020) : 8–16. http://dx.doi.org/10.2478/msp-2019-0095.
Texte intégralJung, Hun Chae, Han Ki Yoon et Yun Sik Yu. « Mechanical Properties and Process of ZnO Deposited Various Substrates ». Key Engineering Materials 297-300 (novembre 2005) : 533–38. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.297-300.533.
Texte intégralLee, Jaeyeong, Kyungchan Min, Youngho Kim et Hak Ki Yu. « Surface-Enhanced Raman Spectroscopy (SERS) Study Using Oblique Angle Deposition of Ag Using Different Substrates ». Materials 12, no 10 (14 mai 2019) : 1581. http://dx.doi.org/10.3390/ma12101581.
Texte intégralHuang, Jen Ching, Yi Chia Liao, Huail Siang Liu et Fu Jen Cheng. « The Study on Deposition Process and Mechanical Properties of Deposited Cu Thin Films Using Molecular Dynamics ». Advanced Materials Research 684 (avril 2013) : 37–41. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.684.37.
Texte intégralMeyer, Duane E., Natale J. Ianno, John A. Woollam, A. B. Swartzlander et A. J. Nelson. « Growth of diamond by rf plasma-assisted chemical vapor deposition ». Journal of Materials Research 3, no 6 (décembre 1988) : 1397–403. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1988.1397.
Texte intégralSacken, U. von, et D. E. Brodie. « Structure of vacuum-deposited Zn3P2 films ». Canadian Journal of Physics 64, no 10 (1 octobre 1986) : 1369–73. http://dx.doi.org/10.1139/p86-243.
Texte intégralFisher, Idajean M., et David A. Smith. « Grain Boundary Migration and the Texture of Films ». Textures and Microstructures 13, no 2-3 (1 janvier 1991) : 91–99. http://dx.doi.org/10.1155/tsm.13.91.
Texte intégralChen, Yu Ju, et Wen Cheng J. Wei. « Investigation of YSZ Thin Films on Silicon Wafer and NiO/YSZ Deposited by Ion Beam Sputtering Deposition (IBSD) ». Key Engineering Materials 336-338 (avril 2007) : 1788–90. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.336-338.1788.
Texte intégralXu, Fang Chao, et Kazuhiro Kusukawa. « Adhesion Strength of BNT Films Hydrothermally Deposited on Titanium Substrates ». Advanced Materials Research 123-125 (août 2010) : 399–402. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.123-125.399.
Texte intégralNan, Junyi, Min Li, Ling Zhang, Shuai Yuan, Boqu He et Heping Zeng. « Terahertz and Photoelectron Emission from Nanoporous Gold Films on Semiconductors ». Nanomaterials 9, no 3 (12 mars 2019) : 419. http://dx.doi.org/10.3390/nano9030419.
Texte intégralZhang, Xiaolin, Yi Ding, Honglu Ma, Ruibin Zhao, Liangquan Wang et Fanyong Zhang. « Microstructure and Mechanical Properties of Co-Deposited Ti-Ni Films Prepared by Magnetron Sputtering ». Coatings 13, no 3 (27 février 2023) : 524. http://dx.doi.org/10.3390/coatings13030524.
Texte intégralTiwari, Ruchi, et Sudhir Chandra. « Effect of Substrate Temperature on Properties of Silicon Nitride Films Deposited by RF Magnetron Sputtering ». Advanced Materials Research 254 (mai 2011) : 187–90. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.254.187.
Texte intégralYan, Bao Jun, Shu Lin Liu, Xiao Wei Liu et Ting Ting Jiang. « Effect of Hydrogen Dilution Ratio and Substrate Roughness on the Microstructure of Intrinsic Microcrystalline Silicon Thin Films ». Advanced Materials Research 936 (juin 2014) : 202–6. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.936.202.
Texte intégralMartinschitz, K. J., E. Eiper, S. Massl, H. Köstenbauer, R. Daniel, G. Fontalvo, C. Mitterer et J. Keckes. « Rapid determination of stress factors and absolute residual stresses in thin films ». Journal of Applied Crystallography 39, no 6 (10 novembre 2006) : 777–83. http://dx.doi.org/10.1107/s002188980603322x.
Texte intégralMahamood, RM, JO Aweda, KR Ajao, S. AbdulKareem et HA Ajimotokan. « SCANNING SPEED INFLUENCE ON THE PHYSICAL PROPERTIES OF LASER METAL DEPOSITION TITANIUM ALLOY ». Nigerian Journal of Technology 36, no 1 (29 décembre 2016) : 132–37. http://dx.doi.org/10.4314/njt.v36i1.17.
Texte intégralHasan, M. K., M. N. A. Shafi, M. N. A. Siddiquy, M. A. Rahim et M. J. Islam. « Electrical, Magnetic and Morphological Properties of E-Beam Evaporated Ni Thin Films ». Journal of Scientific Research 8, no 1 (1 janvier 2016) : 21–28. http://dx.doi.org/10.3329/jsr.v8i1.24492.
Texte intégralBrankovic, Zorica, G. Brankovic, A. Tucic, A. Radojkovic, E. Longo et J. A. Varela. « Aerosol deposition of Ba0.8Sr0.2TiO3 thin films ». Science of Sintering 41, no 3 (2009) : 303–8. http://dx.doi.org/10.2298/sos0903303b.
Texte intégralKaludjerovic, Branka V., Vladislava M. Jovanovic, Sanja I. Stevanovic, Zarko D. Bogdanov, Sanja S. Krstic et Vladimir Dodevski. « Characterization of carbon fibrous material from platanus achenes as platinum catalysts support ». Metallurgical and Materials Engineering 26, no 4 (31 décembre 2020) : 375–83. http://dx.doi.org/10.30544/588.
Texte intégralSato, Yuichi, Toshifumi Suzuki, Hiroyuki Mogami, Fumito Otake, Hirotoshi Hatori et Suguru Igarashi. « Solid Phase Growth of some Metal and Metal Oxide Thin Films on Sapphire and Quartz Glass Substrates ». Materials Science Forum 753 (mars 2013) : 505–9. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.753.505.
Texte intégralDe Riccardis, Maria Federica, Daniela Carbone, Emanuela Piscopiello, Antonella Rizzo et Marco Vittori Antisari. « Sintering of EPD Ceramic Coatings by Electron Beam ». Advances in Science and Technology 45 (octobre 2006) : 1200–1205. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ast.45.1200.
Texte intégralWang, Y. L., M. C. Li, X. K. Chen, G. Wu, J. P. Yang, R. Wang et L. C. Zhao. « Nano-Polycrystalline Vanadium Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition ». Journal of Nanoscience and Nanotechnology 8, no 5 (1 mai 2008) : 2604–8. http://dx.doi.org/10.1166/jnn.2008.18290.
Texte intégralGillispie, Meagen A., Maikel F. A. M. van Hest, Matthew S. Dabney, John D. Perkins et David S. Ginley. « Sputtered Nb- and Ta-doped TiO2 transparent conducting oxide films on glass ». Journal of Materials Research 22, no 10 (octobre 2007) : 2832–37. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.2007.0353.
Texte intégralMalshe, A. P., S. M. Chaudhari, S. M. Kanetkar, S. B. Ogale, S. V. Rajarshi et S. T. Kshirsagar. « Properties of carbon films deposited by pulsed laser vaporization from pyrolytic graphite ». Journal of Materials Research 4, no 5 (octobre 1989) : 1238–42. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1989.1238.
Texte intégralYi, Jiyong, Yinchao Xu, Zhixiong Liu et Lijuan Xiao. « Effect of TiC Content and TaC Addition in Substrates on Properties and Wear Behavior of TiAlN-Coated Tools ». Coatings 12, no 12 (7 décembre 2022) : 1911. http://dx.doi.org/10.3390/coatings12121911.
Texte intégralKishi, Yoichi, Noriaki Ikenaga, Noriyuki Sakudo et Zenjiro Yajima. « Low Temperature Crystallization of Sputter-Deposited TiNi Films ». Advances in Science and Technology 78 (septembre 2012) : 81–86. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ast.78.81.
Texte intégralHAMZAH, ESAH, MUBARAK ALI et MOHD RADZI HJ MOHD TOFF. « EFFECT OF SUBSTRATE BIAS ON FRICTION COEFFICIENT, ADHESION STRENGTH AND HARDNESS OF TiN-COATED TOOL STEEL ». Surface Review and Letters 13, no 06 (décembre 2006) : 763–71. http://dx.doi.org/10.1142/s0218625x06008827.
Texte intégralNehate, Shraddha Dhanraj, Ashwin Kumar Saikumar et Kalpathy B. Sundaram. « Influence of Substrate Temperature on Electrical and Optical Properties of Hydrogenated Boron Carbide Thin Films Deposited by RF Sputtering ». Coatings 11, no 2 (9 février 2021) : 196. http://dx.doi.org/10.3390/coatings11020196.
Texte intégralMueller, C. H., P. H. Holloway, J. D. Budai, F. A. Miranda et K. B. Bhasin. « YBa2Cu3O7−x films on off-axis Y-ZrO2 substrates using Y-ZrO2 or Y2O3 barrier layers ». Journal of Materials Research 10, no 4 (avril 1995) : 810–16. http://dx.doi.org/10.1557/jmr.1995.0810.
Texte intégralShyju, T. S., S. Anandhi, R. Sivakumar et R. Gopalakrishnan. « Studies on Lead Sulfide (PbS) Semiconducting Thin Films Deposited from Nanoparticles and Its NLO Application ». International Journal of Nanoscience 13, no 01 (février 2014) : 1450001. http://dx.doi.org/10.1142/s0219581x1450001x.
Texte intégralKassem, Wassim, Malek Tabbal et Mohamad Roumie. « Pulsed Laser Deposition of Tungsten Thin Films on Graphite ». Advanced Materials Research 324 (août 2011) : 77–80. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.324.77.
Texte intégralSilva de Medeiros, Waléria, Luiz Carlos Pereira, Robson Pacheco Pereira et Marize Varella de Oliveira. « Characterization of CaP Coating Deposited on Porous Titanium ». Key Engineering Materials 396-398 (octobre 2008) : 307–10. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/kem.396-398.307.
Texte intégralSaliy, Ya P., et L. I. Nykyruy. « Influence of surface morphology on electrophysical properties of PbTe : Sb films ». Physics and Chemistry of Solid State 22, no 3 (16 juillet 2021) : 415–19. http://dx.doi.org/10.15330/pcss.22.3.415-419.
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