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Liu, Chi-Wen, Bau-Tong Dai et Ching-Fa Yeh. « Post cleaning of chemical mechanical polishing process ». Applied Surface Science 92 (février 1996) : 176–79. http://dx.doi.org/10.1016/0169-4332(95)00226-x.
Texte intégralShang, Cass, Taishih Maw et Fadi Coder. « Post Chemical Mechanical Polish Cleaning Chemistry for through Silicon via Process ». Solid State Phenomena 195 (décembre 2012) : 154–57. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.195.154.
Texte intégralZhou, Kan, Shuguang Sang, Chengyu Wang et Yihua Zhou. « Principle, application and development trend of laser cleaning ». Journal of Physics : Conference Series 2383, no 1 (1 décembre 2022) : 012075. http://dx.doi.org/10.1088/1742-6596/2383/1/012075.
Texte intégralWang, Y. L., T. C. Wang, J. Wu, W. T. Tseng et C. F. Lin. « A modified multi-chemical spray cleaning process for post shallow trench isolation chemical mechanical polishing cleaning application ». Thin Solid Films 332, no 1-2 (novembre 1998) : 385–90. http://dx.doi.org/10.1016/s0040-6090(98)01207-3.
Texte intégralCooper, Kevin, Anand Gupta et Stephen Beaudoin. « Simulation of Particle Adhesion : Implications in Chemical Mechanical Polishing and Post Chemical Mechanical Polishing Cleaning ». Journal of The Electrochemical Society 148, no 11 (2001) : G662. http://dx.doi.org/10.1149/1.1409975.
Texte intégralKim, Young-Min, Han-Chul Cho et Hae-Do Jeong. « Effect of Chemical Mechanical Cleaning(CMC) on Particle Removal in Post-Cu CMP Cleaning ». Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A 33, no 10 (1 octobre 2009) : 1023–28. http://dx.doi.org/10.3795/ksme-a.2009.33.10.1023.
Texte intégralYang, Chan Ki, Jin Goo Park, Jung Hun Jo, Geun Sik Lim, Tae Hyung Kim et In Soo Jo. « Removal of Slurry Residues in Tungsten Plug during Chemical Mechanical Planarization ». Solid State Phenomena 124-126 (juin 2007) : 157–60. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.124-126.157.
Texte intégralRamachandran, Manivannan, Byoung-Jun Cho, Tae-Young Kwon et Jin-Goo Park. « Hybrid Cleaning Technology for Enhanced Post-Cu/Low-Dielectric Constant Chemical Mechanical Planarization Cleaning Performance ». Japanese Journal of Applied Physics 52, no 5S3 (1 mai 2013) : 05FC02. http://dx.doi.org/10.7567/jjap.52.05fc02.
Texte intégralWei, Kuo-Hsiu, Chi-Cheng Hung, Yu-Sheng Wang, Chuan-Pu Liu, Kei-Wei Chen et Ying-Lang Wang. « Cleaning methodology of small residue defect with surfactant in copper chemical mechanical polishing post-cleaning ». Thin Solid Films 618 (novembre 2016) : 77–80. http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2016.05.007.
Texte intégralSuzuki, Kazunari, Ki Han, Shoichi Okano, Jyunichiro Soejima et Yoshikazu Koike. « Application of Novel Ultrasonic Cleaning Equipment Using Waveguide mode for Post-Chemical-Mechanical-Planarization Cleaning ». Japanese Journal of Applied Physics 48, no 7 (21 juillet 2009) : 07GM04. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.48.07gm04.
Texte intégralShay, Kenneth. « Denture Hygiene : A Review and Update ». Journal of Contemporary Dental Practice 1, no 2 (1999) : 36–43. http://dx.doi.org/10.5005/jcdp-1-2-36.
Texte intégralPark, Kihong, Sang-hyeon Park, Seokjun Hong, Jongsoo Han, Sanghcuk Jeon, Chang min Kim et Taesung Kim. « Post Chemical Mechanical Planarization (CMP) Cleaning Using Hydrogen Dissolved Water ». ECS Meeting Abstracts MA2021-01, no 20 (30 mai 2021) : 813. http://dx.doi.org/10.1149/ma2021-0120813mtgabs.
Texte intégralTung Ming Pan, Tan Fu Lei, Chao Chyi Chen, Tien Sheng Chao, Ming Chi Liaw, Wen Lu Yang, Ming Shih Tsai, C. P. Lu et W. H. Chang. « Novel cleaning solutions for polysilicon film post chemical mechanical polishing ». IEEE Electron Device Letters 21, no 7 (juillet 2000) : 338–40. http://dx.doi.org/10.1109/55.847373.
Texte intégralCahue, Kiana A., Abigail L. Dudek, Mantas M. Miliauskas, Tatiana R. Cahue, Amy Mlynarski et Jason J. Keleher. « Design of “Low Stress” Post-CMP Cleaning Processes for Advanced Technology Nodes ». ECS Transactions 108, no 4 (20 mai 2022) : 3–15. http://dx.doi.org/10.1149/10804.0003ecst.
Texte intégralCahue, Kiana A., Abigail L. Dudek, Mantas M. Miliauskas, Tatiana R. Cahue, Amy Mlynarski et Jason J. Keleher. « Design of “Low Stress” Post-CMP Cleaning Processes for Advanced Technology Nodes ». ECS Meeting Abstracts MA2022-01, no 28 (7 juillet 2022) : 1242. http://dx.doi.org/10.1149/ma2022-01281242mtgabs.
Texte intégralJamal, Alainna Juliette, Rajni Pantelidis, Rachael Sawicki, Angel Li, Wayne Chiu, Deborah Morrison, John Marshman et al. « Chemical, Mechanical, and Heat Cleaning to Decontaminate Hospital Drains Harboring Carbapenemase-Producing Enterobacteriales ». Infection Control & ; Hospital Epidemiology 41, S1 (octobre 2020) : s466—s467. http://dx.doi.org/10.1017/ice.2020.1141.
Texte intégralHupka, Lukasz. « SURFACE FORCES IN CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION AND SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING SYSTEMS ». Wiadomości Chemiczne 75, no 9 (15 octobre 2021) : 1229–40. http://dx.doi.org/10.53584/wiadchem.2021.10.5.
Texte intégralHarada, Ken, Atsushi Ito, Yasuhiro Kawase, Toshiyuki Suzuki, Makoto Hara, Rina Sakae, Chiharu Kimura et Hidemitsu Aoki. « Study of Cu-Inhibitor State for Post-Chemical Mechanical Polishing Cleaning ». Japanese Journal of Applied Physics 50, no 5S1 (1 mai 2011) : 05EC06. http://dx.doi.org/10.7567/jjap.50.05ec06.
Texte intégralZhang, Liming, Srini Raghavan et Milind Weling. « Minimization of chemical-mechanical planarization (CMP) defects and post-CMP cleaning ». Journal of Vacuum Science & ; Technology B : Microelectronics and Nanometer Structures 17, no 5 (1999) : 2248. http://dx.doi.org/10.1116/1.590901.
Texte intégralHarada, Ken, Atsushi Ito, Yasuhiro Kawase, Toshiyuki Suzuki, Makoto Hara, Rina Sakae, Chiharu Kimura et Hidemitsu Aoki. « Study of Cu-Inhibitor State for Post-Chemical Mechanical Polishing Cleaning ». Japanese Journal of Applied Physics 50, no 5 (20 mai 2011) : 05EC06. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.50.05ec06.
Texte intégralZhang, F., et A. Busnaina. « Submicron particle removal in post-oxide chemical-mechanical planarization (CMP) cleaning ». Applied Physics A : Materials Science & ; Processing 69, no 4 (1 octobre 1999) : 437–40. http://dx.doi.org/10.1007/s003390051028.
Texte intégralSerpokrylov, Nikolai, Alla Smolyanichenko et Vladimir Nelidin. « Development of technology for water purification by filtration using vibration ». E3S Web of Conferences 175 (2020) : 12009. http://dx.doi.org/10.1051/e3sconf/202017512009.
Texte intégralHan, Ja Hyung, Ja Eung Koo, Kyo Se Choi, Byung Lyul Park, Ju Hyuk Chung, Sang Rok Hah, Sun Yong Lee, Young Jae Kang et Jin Goo Park. « A Study on Water-Mark Defects in Copper/Low-k Chemical Mechanical Polishing ». Solid State Phenomena 134 (novembre 2007) : 295–98. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.134.295.
Texte intégralTaylor, Keyanna P., et Debra D Harris. « Cleaning and disinfecting protocols for hospital environmental surfaces : A systematic review of the literature ». Journal of Hospital Administration 8, no 6 (22 octobre 2019) : 27. http://dx.doi.org/10.5430/jha.v8n6p27.
Texte intégralBhushan, Bharat, et Victor Multanen. « Designing liquid repellent, icephobic and self-cleaning surfaces with high mechanical and chemical durability ». Philosophical Transactions of the Royal Society A : Mathematical, Physical and Engineering Sciences 377, no 2138 (24 décembre 2018) : 20180270. http://dx.doi.org/10.1098/rsta.2018.0270.
Texte intégralHarada, Ken, Tomohiro Kusano, Toshiaki Shibata et Yasuhiro Kawase. « Investigation of Co surface reaction by in situ measurement for chemical mechanical planarization and post-chemical mechanical planarization cleaning ». Japanese Journal of Applied Physics 57, no 7S2 (20 juin 2018) : 07MD02. http://dx.doi.org/10.7567/jjap.57.07md02.
Texte intégralParisi, Erica I., Nicole Bonelli, Emiliano Carretti, Rodorico Giorgi, Gabriel M. Ingo et Piero Baglioni. « Film forming PVA-based cleaning systems for the removal of corrosion products from historical bronzes ». Pure and Applied Chemistry 90, no 3 (23 février 2018) : 507–22. http://dx.doi.org/10.1515/pac-2017-0204.
Texte intégralChoi, Jae Gon, Hyo Geun Yoon, Woo Jin Kim, Geun Min Choi, Young Wook Song et Jin Goo Park. « The Dependence of Chemical Mechanical Polishing Residue Removal on Post-Cleaning Treatments ». Solid State Phenomena 134 (novembre 2007) : 303–6. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.134.303.
Texte intégralMiyamoto, Makoto, Shinya Hirano, Hiroyuki Chibahara, Takashi Watadani, Moriaki Akazawa et Seiji Furukawa. « Enhancement of Post-Cu-Chemical Mechanical Polishing Cleaning Process for Low-kSubstrate ». Japanese Journal of Applied Physics 45, no 10A (6 octobre 2006) : 7637–44. http://dx.doi.org/10.1143/jjap.45.7637.
Texte intégralUeda, Takayuki, Keitaro Kubo, Takeshi Saito, Tomokuni Obata, Takeshi Wada, Koichiro Yanagisawa et Kaoru Sakurai. « Surface morphology of silicone soft relining material after mechanical and chemical cleaning ». Journal of Prosthodontic Research 62, no 4 (octobre 2018) : 422–25. http://dx.doi.org/10.1016/j.jpor.2018.03.002.
Texte intégralManivannan, Ramachandran, Byoung-Jun Cho, Xiong Hailin, Srinivasan Ramanathan et Jin-Goo Park. « Characterization of non-amine-based post-copper chemical mechanical planarization cleaning solution ». Microelectronic Engineering 122 (juin 2014) : 33–39. http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2014.02.034.
Texte intégralDevarapalli, Vamsi Krishna, Ying Li et Cetin Cetinkaya. « Post-chemical mechanical polishing cleaning of silicon wafers with laser-induced plasma ». Journal of Adhesion Science and Technology 18, no 7 (janvier 2004) : 779–94. http://dx.doi.org/10.1163/156856104840273.
Texte intégralZhang, Fan, Ahmed A. Busnaina et Goodarz Ahmadi. « Particle Adhesion and Removal in Chemical Mechanical Polishing and Post‐CMP Cleaning ». Journal of The Electrochemical Society 146, no 7 (1 juillet 1999) : 2665–69. http://dx.doi.org/10.1149/1.1391989.
Texte intégralBu, Nai Jing, Hong Lei, Ru Ling Chen et Xiao Li Hu. « Post-CMP Cleaning of Atom-Scale Planarization Surface of Computer Hard Disk Substrate ». Advanced Materials Research 97-101 (mars 2010) : 1181–85. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.97-101.1181.
Texte intégralGupta, R. K., A. Kumar, P. Ganesh et R. Kaul. « Failure Analysis of Stainless Steel Sheets of Heat Shield Assembly of a Vacuum Degassing Furnace ». Practical Metallography 58, no 1 (1 janvier 2021) : 48–61. http://dx.doi.org/10.1515/pm-2020-0003.
Texte intégralChoi, Hoo Mi, Jang Ah Kim, Yu Jin Cho, Taeh Yun Hwang, Jon Woo Lee et Tae Sung Kim. « Surface Cleaning of Graphene by CO2 Cluster ». Solid State Phenomena 219 (septembre 2014) : 68–70. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.219.68.
Texte intégralTudu, Balraj Krishnan, Aditya Kumar et Bharat Bhushan. « Facile approach to develop anti-corrosive superhydrophobic aluminium with high mechanical, chemical and thermal durability ». Philosophical Transactions of the Royal Society A : Mathematical, Physical and Engineering Sciences 377, no 2138 (24 décembre 2018) : 20180272. http://dx.doi.org/10.1098/rsta.2018.0272.
Texte intégralCho, Han Chul, Young Min Kim, Hyun Seop Lee, Suk Bae Joo et Hae Do Jeong. « The Effect of PVA Brush Scrubbing on Post CMP Cleaning Process for Damascene Cu Interconnection ». Solid State Phenomena 145-146 (janvier 2009) : 367–70. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.145-146.367.
Texte intégralSampurno, Yasa, Yun Zhuang, Xun Gu, Sian Theng, Takenao Nemoto, Ting Sun, Fransisca Sudargho, Akinobu Teramoto, Ara Philipossian et Tadahiro Ohmi. « Effect of Various Cleaning Solutions and Brush Scrubber Kinematics on the Frictional Attributes of Post Copper CMP Cleaning Process ». Solid State Phenomena 145-146 (janvier 2009) : 363–66. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.145-146.363.
Texte intégralZhu, Yong Qiang, Feng Gao, Ping Cao et Zhan Jun Zhang. « A Preliminary Study on the Effect of WEC Cleaner Papermaking Chemical on the Improvement of Paper Physical Strength ». Applied Mechanics and Materials 541-542 (mars 2014) : 18–24. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.541-542.18.
Texte intégralSahoo, Bichitra N., Sonil Nanda, Janusz A. Kozinski et Sushanta K. Mitra. « PDMS/camphor soot composite coating : towards a self-healing and a self-cleaning superhydrophobic surface ». RSC Advances 7, no 25 (2017) : 15027–40. http://dx.doi.org/10.1039/c6ra28581c.
Texte intégralMahadik, Sonalee Nitin, et V. Balasubramanian. « A Novel Engraving Planarization Innovation to Rectify Non-Consistency Post Chemical Mechanical Cleaning ». Indian Journal of Public Health Research & ; Development 8, no 3s (2017) : 129. http://dx.doi.org/10.5958/0976-5506.2017.00258.3.
Texte intégralStrohwald, N. K. H., et E. P. Jacobs. « An Investigation into UF Systems in the Pretreatment of Seawater for RO Desalination ». Water Science and Technology 25, no 10 (1 mai 1992) : 69–78. http://dx.doi.org/10.2166/wst.1992.0238.
Texte intégralSenftleben, Oliver, Hermann Baumgärtner et Ignaz Eisele. « Cleaning of Silicon Surfaces for Nanotechnology ». Materials Science Forum 573-574 (mars 2008) : 77–117. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/msf.573-574.77.
Texte intégralWirayuni, Kadek Ayu, et Sintha Nugrahini. « JUMLAH KOLONI CANDIDA ALBICANS PADA PLAT RESIN AKRILIK HEAT CURED SETELAH DILAKUKAN PERENDAMAN EKSTRAK DAUN KEMANGI (OCIMUM BASSILICUM LINN) 50% ». Interdental Jurnal Kedokteran Gigi (IJKG) 16, no 2 (10 décembre 2020) : 61–63. http://dx.doi.org/10.46862/interdental.v16i2.1126.
Texte intégralHeo, Kyuyoung, Brian J. Ree, Kyeung-Keun Choi et Moonhor Ree. « Structural reliability evaluation of low-k nanoporous dielectric interlayers integrated into microelectronic devices ». RSC Advances 5, no 106 (2015) : 87084–89. http://dx.doi.org/10.1039/c5ra16983f.
Texte intégralWang, Lin, Yi Shang, Xia Xiao, Bo Mu et Guang Wen Zhang. « Research Progress of the Polyurethane-nTiO2 Self-Cleaning Coating ». Applied Mechanics and Materials 633-634 (septembre 2014) : 261–65. http://dx.doi.org/10.4028/www.scientific.net/amm.633-634.261.
Texte intégralLi, Jie, Huichao Jia, Jing Lin, Han Luo, Zhenya Liu, Xuewen Xu, Yang Huang et al. « Free-standing membranes made of activated boron nitride for efficient water cleaning ». RSC Advances 5, no 88 (2015) : 71537–43. http://dx.doi.org/10.1039/c5ra11899a.
Texte intégralSundberg, Martin, Anders Christiansson, Cecilia Lindahl, Lotten Wahlund et Carol Birgersson. « Cleaning effectiveness of chlorine-free detergents for use on dairy farms ». Journal of Dairy Research 78, no 1 (7 décembre 2010) : 105–10. http://dx.doi.org/10.1017/s0022029910000762.
Texte intégralЛебедев, Валерий, Valeriy Lebedev, Михаил Тамаркин, Mihail Tamarkin, Марина Бойко et Marina Boiko. « Energy condition of efficient product vibratory cleaning at stage of product preparation to utilization ». Science intensive technologies in mechanical engineering 2018, no 2 (20 février 2019) : 8–15. http://dx.doi.org/10.30987/article_5c486cc3471ce9.56869432.
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